The utility model discloses a dent hot-melt adhesive film, comprising a buffer layer, followed by bottom-up laminated ink layer, ontology layer and the hot melt adhesive layer; buffer layer is arranged in the buffer; buffer road through the buffer layer in the horizontal direction; the ontology layer is provided with a groove, groove opening upward; grooves are evenly arranged in the body the layer; groove is semicircular groove; a convex hot melt adhesive layer on the lower surface of a chimeric in groove, groove shape and convex parts of the match; the dent hot-melt adhesive film has stable structure, reduced mobility layer after heating, the processing is not easy to leave a dent.
【技术实现步骤摘要】
一种抗凹热熔胶膜
本技术涉及电子产品用胶膜,具体涉及一种抗凹热熔胶膜。
技术介绍
由于以热熔胶绝缘膜制作的扁平线材愈来愈普及,特别是市场上对于柔性连接线的需求愈来愈大,例如在汽车方向盘、高级打印机移动线材以及扫描仪等产品中需要用到柔性和耐性要求更高的运动类连接线,用以节省安装空间。对于此类线材胶膜,一般的结构是在绝缘薄膜的粘胶面上涂覆有热熔胶,保证其表面张力,但是在与扁平铜线生产压合时,由于热熔胶膜的回弹性缺陷,会出现凹痕不良的现象,需要增加压合温度或者减少生产速度才能解决此异常,从而增加生产成本。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足,本技术的目的在于提供一种抗凹热熔胶膜,该抗凹热熔胶膜结构稳定,减少胶层受热后的流动性,加工时不容易留下凹痕。本技术采用以下技术方案实现:一种抗凹热熔胶膜,包括自下而上依次叠合的缓冲层、油墨层、本体层和热熔胶层;缓冲层中设有缓冲道;缓冲道在水平方向上贯穿缓冲层;本体层中设有凹槽,凹槽向上开口;凹槽均匀布设在本体层中;凹槽为半圆形凹槽;热熔胶层的下表面上设有嵌合在凹槽中的凸件,凸件的形状与凹槽相匹配。进一步地,缓冲道为圆柱形缓冲道。进一步地,缓冲层为聚酯缓冲层,其厚度为12-80μm。进一步地,油墨层为聚酯油墨层,其厚度为1-5μm。进一步地,本体层为聚酯胶本体层,其厚度为1-8μm。进一步地,热熔胶层为无卤热熔胶层,其厚度为10-65μm。进一步地,油墨层和本体层之间还设有共聚聚酯层,共聚聚酯层的厚度为1-5μm。相比现有技术,本技术的有益效果在于:1、本技术通过在缓冲层中设置缓冲道,挤压热熔胶膜时,缓冲道起到卸力缓冲和回复弹性的作 ...
【技术保护点】
一种抗凹热熔胶膜,其特征在于包括自下而上依次叠合的缓冲层、油墨层、本体层和热熔胶层;所述缓冲层中设有缓冲道;所述缓冲道在水平方向上贯穿缓冲层;所述本体层中设有凹槽,凹槽向上开口;所述凹槽均匀布设在本体层中;所述凹槽为半圆形凹槽;所述热熔胶层的下表面上设有嵌合在凹槽中的凸件,凸件的形状与凹槽相匹配。
【技术特征摘要】
1.一种抗凹热熔胶膜,其特征在于包括自下而上依次叠合的缓冲层、油墨层、本体层和热熔胶层;所述缓冲层中设有缓冲道;所述缓冲道在水平方向上贯穿缓冲层;所述本体层中设有凹槽,凹槽向上开口;所述凹槽均匀布设在本体层中;所述凹槽为半圆形凹槽;所述热熔胶层的下表面上设有嵌合在凹槽中的凸件,凸件的形状与凹槽相匹配。2.如权利要求1所述的抗凹热熔胶膜,其特征在于,所述缓冲道为圆柱形缓冲道。3.如权利要求1所述的抗凹热熔胶膜,其特征在于,所述缓冲层为聚...
【专利技术属性】
技术研发人员:李政,王文锋,梁韵湘,
申请(专利权)人:佛山市顺德区莱尔电子材料有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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