可调节激光发射端和激光分析仪制造技术

本公开是关于可调节激光发射端和激光分析仪，该可调节激光发射端包括支撑架和调节座，光发射端，光接收器均设置在调节座内，调节座通过支撑架固定在检测室上，调节座内设置有调节块，透镜设置在调节块上。调节块可在调节座内调整，保证光路准直；透镜可在调节块内调节，保证对焦。本公开将激光发射端和检测室设置成一体结构，减小了激光分析仪的大小，同时解决了在检测过程因为震动导致激光发射端偏移原来位置引起光路偏移的问题。

【技术实现步骤摘要】
可调节激光发射端和激光分析仪
本技术属于分析仪器领域，涉及一种激光分析仪，尤其涉及可调节激光发射端和激光分析仪。
技术介绍
激光光谱学是自激光技术出现以来，在传统光谱学基础上发展起来的一门新兴学科。由于激光所具有的特性是：谱线宽度极窄及相干性优良、光谱功率密度极高、波长可调谐，并且可对频率与幅度进行调制等等。激光的这些特性使得光谱学发生了一系列革命性变革。与传统吸收光谱相比，激光吸收光谱技术的分辨率和灵敏度可大大高于传统的光谱方法。对于某种污染物只要选择合适的光谱波段，可以实现PPM量级的精度。从结构方面，可以采用直接测量的方式，更加方便。在激光分析仪中，考虑到光源和检测室之间需要留有一定的距离用于对焦。因此，现有的激光分析仪，其激光反射端和检测室是分开间隔设置的。这样设置导致激光分析仪的占地空间大，同时，分别需要两个固定点分别固定激光发射端和检测室，稳定性较差。在运输和实用过程中，震动对测量结果影响大。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了可调节激光发射端，以解决上述技术问题。本技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种可调节激光发射端，位于激光分析仪的光源和检测室本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可调节激光发射端，位于激光分析仪的光源和检测室之间，其特征在于，包括：支撑架，所述支撑架贴设固定在检测室靠近光源一端的端面上；调节座，所述调节座安装固定在支撑架上，所述调节座上设置有光发射端和光接收器，所述调节座与支撑架安装的一端端面上设有安装槽，所述安装槽内设置有调节块，所述调节块上安装有与光发射端对应设置的透镜一，以及与光接收器对应设置的透镜二，所述调节块可在安装槽内活动调整用以保证调节块上的透镜一和透镜二分别与光发射端和光接收器对齐，所述透镜一与透镜二可在调节块块内轴向调整用以对焦。

【技术特征摘要】
1.一种可调节激光发射端，位于激光分析仪的光源和检测室之间，其特征在于，包括：支撑架，所述支撑架贴设固定在检测室靠近光源一端的端面上；调节座，所述调节座安装固定在支撑架上，所述调节座上设置有光发射端和光接收器，所述调节座与支撑架安装的一端端面上设有安装槽，所述安装槽内设置有调节块，所述调节块上安装有与光发射端对应设置的透镜一，以及与光接收器对应设置的透镜二，所述调节块可在安装槽内活动调整用以保证调节块上的透镜一和透镜二分别与光发射端和光接收器对齐，所述透镜一与透镜二可在调节块块内轴向调整用以对焦。2.根据权利要求1所述的可调节激光发射端，其特征在于，所述安装槽两侧的槽壁上开设有至少一个用于调节调节块位置的调节孔，所述调节孔贯穿所述槽壁。3.根据权利要求1或2所述的可调节激光发射端，其特征在于，所述调节块包括母块和扣接在母块上的活动块，所述调节块整体能沿安装槽轴向移动，所述活动块能在母块内移动且其移动方向和安装槽轴向垂直并且与调节块整体移动方向位于同一水平面内。4.根据权利要求3所述的可调节激光发射端，其特征在于，所述母块包括一体成型的两块挡臂和两根导轨，所述两块挡臂和两根导轨交错相接合围构成一个矩...

【专利技术属性】
技术研发人员：张涵，刘立富，温作乐，陈建龙，于志伟，
申请(专利权)人：杭州春来科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33