The present invention discloses a kind of linear CMOS based on full spectrum scanning spectrometer on the optical method, which comprises an excitation light source, spectrometer, window, mirror, mirror, entrance slit, grating, optical backplane, mercury lamp, spectrum acquisition and processing system and computer control system, which comprises the following steps: A, adjust the excitation light source position, B adjust the position of the grating, C, D, and adjust the entrance slit position calibration of spectral line. According to the invention, the CMOS acquisition system can achieve full spectrum scanning, and the process is simple, so that the volume of the instrument is greatly reduced, the material cost is reduced, the dimming steps are simple and the efficiency is increased.
【技术实现步骤摘要】
一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法
本专利技术涉及光谱分析技术应用领域,特别是一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法。
技术介绍
在传统的光谱仪中,为了达到较高的分辨率,都采用大焦距的分光器(750mm-1000mm焦距的光栅),这就需要很大的分光室才能达到真空光学系统的目的,使得机械设计及材料费用大幅提高;而且传统的光谱仪采用的探测器为PMT(光电倍增管),需要20-50μm的出射狭缝才能准确的让元素光照到PMT上,后期增加通道则需要根据要求开缝并对光,再装上相应的PMT,才能达到检测目的,使得测量程序繁琐;光学系统相对复杂很多,需要专业的调光人员才能做好。因此针对上述问题,我们提出了一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法。
技术实现思路
有鉴于此,需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本专利技术提供了一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法。一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法,其步骤包括:a、调整激发光源位置,使来自激发光源的光穿过窗镜,达到聚光镜,聚光镜将光线聚焦于焦点,光线经过焦点聚焦后到达入射狭缝,通过入射狭缝到达光栅 ...
【技术保护点】
一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法,其步骤包括:a、调整激发光源位置,使聚光镜、入射狭缝和光栅置于一条入射光路上;b、调节光栅位置,将光栅进行转动,使光栅的成像以覆盖整个光谱采集系统;c、调节入射狭缝位置,前后移动入射狭缝使激发光源的光经过窗镜将像成在入射狭缝上;d、校验谱线,用汞灯进行校验,汞灯特征谱线的中心位置在像面位置,所述汞灯特征谱线与理论值相匹配。
【技术特征摘要】
1.一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法,其步骤包括:a、调整激发光源位置,使聚光镜、入射狭缝和光栅置于一条入射光路上;b、调节光栅位置,将光栅进行转动,使光栅的成像以覆盖整个光谱采集系统;c、调节入射狭缝位置,前后移动入射狭缝使激发光源的光经过窗镜将像成在入射狭缝上;d、校验谱线,用汞灯进行校验,汞灯特征谱线的中心位置在像面位置,所述汞灯特征谱线与理论值相匹配。2.根据权利要求1所述的一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法,其特征在于,所述激发光源的光穿过窗镜,达到所述聚光镜,所述聚光镜将光线聚焦于焦点,光线经过焦点聚焦后到达所述入射狭缝,通过所述入射狭缝到达所述光栅上,所述光栅进行分光,使所述聚光镜、所述入射狭缝和所述光栅置于一条入射光路上。3.根据权利要求1所述的一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法,其特征在于,光栅刻线垂直于所述光学底板,同时使所述光栅的中心和探测器中心的高度一致。4.根据权利要求1所述的一种基于线阵CMOS全谱扫描光谱仪的对光方法,其特征在于,所述入射狭缝垂直于所述光学底板。5.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘召贵,张明亮,
申请(专利权)人:江苏天瑞仪器股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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