微纳米薄膜制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种微纳米薄膜制备装置，包括底座，底座的上侧面为平整的工作面，工作面下方形成真空腔体，真空腔体上设有抽气转接头，工作面上设有若干个吸气孔；工作面的上方铺设有样品基底，样品基底通过吸气孔产生的吸力吸附于工作面上，样品基底的两侧通过固定棒固定；另设有压覆膜、前驱体溶液、胶头滴管和刮刀，胶头滴管将前驱体溶液吸取后滴入样品基底上，压覆膜压覆位于样品基底上的前驱体溶液上，刮刀刮动压覆膜使前驱体溶液均匀涂布于样品基底上形成均一薄膜。该微纳米薄膜制备装置结构简单，可制备几百到几十微米尺寸厚度的大面积薄膜，为微纳尺度薄膜的大面积制备提供很好的平台，有利于推动产品的规模化生产。

Micro nano thin film preparation device

The utility model discloses a micro nano film preparation device, which comprises a base, on the side of the base for the formation of the working surface, working surface is formed below the vacuum chamber, a vacuum cavity is provided with a suction adapter, working face is provided with a plurality of air suction holes; a substrate laying above the working face, the substrate to produce suction through the suction holes adsorbed on the working surface, on both sides of the fixing rod is fixed by the substrate; the other is provided with a pressure film, precursor solution, dropper dropper and scraper, the precursor solution is absorbed into the sample drops on the substrate coated pressure pressure in the precursor solution sample substrate, scraper the film pressure of scraping of the precursor solution is evenly coated on the substrate to form a uniform thin film sample. The device has the advantages of simple structure, and can produce large area films with thickness ranging from hundreds to tens of meters. It provides a good platform for large area preparation of micro nano scale films, and is conducive to scale production of products.

【技术实现步骤摘要】
微纳米薄膜制备装置
本技术涉及一种微纳米薄膜制备装置，主要用于有机薄膜和柔性光电器件的制备。
技术介绍
纳米科技是从20世纪80年代末90年代初开始发展起来的新兴科学，从此引起了国内外的高度重视，特别是在纳米薄膜材料方面取得了重要进展。纳米科技的重要意义首先将促使人类认知的革命，同时将引发新的工业革命，从而对我国的社会、经济及国家安全产生重大影响。纳米薄膜是指在空间只有一维处于纳米尺度而另两维不是纳米尺度的物质，是由分子或晶粒均匀铺开构成薄膜，可以是超薄膜、多层膜和超晶格等。纳米薄膜根据它的构成和致密程度又可分为颗粒膜和致密膜。纳米薄膜可以是金属、半导体、绝缘体、有机高分子材料，其性能包括力、热、光、磁等方面。目前微纳米尺度制备的研究是国内外研究的热点。当前研究中，薄膜的制备通常采用蒸镀、溅射、旋涂作为制备薄膜的方法，蒸镀、溅射工艺需要用到高真空设备，价格非常昂贵，而旋涂方法可以采用溶液法制备出微纳米尺度的薄膜，简单高效，但是大面积制备出均一的薄膜非常困难。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术提供了一种微纳米薄膜制备装置，不仅能够采用溶液法制备微纳米尺度的薄膜，厚度均一，而且能见到快本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微纳米薄膜制备装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座的上侧面为平整的工作面（2），所述底座位于其工作面下方形成真空腔体（3），所述真空腔体上设有抽气转接头（4），所述工作面上设有若干个吸气孔（5）连通其内部的真空腔体；所述工作面的上方铺设有样品基底（6），所述样品基底将所述吸气孔覆盖并通过所述吸气孔产生的吸力吸附于所述工作面上，所述样品基底的两侧通过固定棒（7）固定；另设有压覆膜（8）、前驱体溶液、胶头滴管（9）和刮刀（10），所述胶头滴管将所述前驱体溶液吸取后滴入所述样品基底上，所述压覆膜压覆位于所述样品基底上的前驱体溶液上，所述刮刀刮动所述压覆膜使所述前驱体溶液均匀涂布于所述样品基...

【技术特征摘要】
1.一种微纳米薄膜制备装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座的上侧面为平整的工作面（2），所述底座位于其工作面下方形成真空腔体（3），所述真空腔体上设有抽气转接头（4），所述工作面上设有若干个吸气孔（5）连通其内部的真空腔体；所述工作面的上方铺设有样品基底（6），所述样品基底将所述吸气孔覆盖并通过所述吸气孔产生的吸力吸附于所述工作面上，所述样品基底的两侧通过固定棒（7）固定；另设有压覆膜（8）、前驱体溶液、胶头滴管（9）和刮刀（10），所述胶头滴管将所述前驱体溶液吸取后滴入所述样品基底上，所述压覆膜压覆位于所述样品基底上的前驱体溶液上，所述刮刀刮动所述压覆膜使所述前驱体溶液均匀涂布于所述样品...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵志强，黄静，涂友超，刘江峰，耿晓菊，肖振宇，尤帅，
申请(专利权)人：信阳师范学院，
类型：新型
国别省市：河南,41