【技术实现步骤摘要】
一种捕集器盖子
本技术涉及一种活动盖设备,特别是一种捕集器盖子。
技术介绍
在半导体装置与平板显示器(FPD)的制造工序中,成膜、热处理、干蚀刻、清洁等这样的工序都是在真空处理室中,使用规定气体进行的。例如,采用CVD(化学气相沉积)法进行成膜的成膜装置具有:反应室,该反应室能将内部排气成真空;基板支承部,该基板支承部被配置于该反应室内,支承半导体晶片等的基板;基板加热部,该基板加热部对被基板支承部支承的基板进行加热;真空泵等排气装置,该真空泵等排气装置经由规定的排气管道与反应室连接,对反应室排气;以及原料供给系统,该原料供给系统向反应室供给原料气体。在此类成膜装置中,被从原料供给系统向反应室供给的原料气体因被基板加热部加热的基板的热而在气相中或基板面上进行热分解或化学反应,从而生成反应生成物,该反应生成物堆积在基板上,由此形成薄膜。从反应室中排出的废气中,包含即使其生成也不会有助于薄膜的成膜的反应生成物与反应副生成物。在这样的反应生成物与反应副生成物中,凝聚而成为粒子状的生成物在废气沿排气管道内流动时会出现堆积在排气管道和真空泵的内壁的情况。如堆积此类堆积性的物 ...
【技术保护点】
一种捕集器盖子,其特征是,包括旋转盖装置(1)、固定底座(2)、适配环(3)、旋转装置(4)、稳固支架(5)、封闭环垫(6)和卡紧装置(7),所述旋转盖装置(1)的侧面固定安装有旋转装置(4),所述旋转盖装置(1)的底部设置有固定底座(2),所述固定底座(2)的底部固定连接有适配环(3),所述适配环(3)的侧面设置有封闭环垫(6),所述固定底座(2)的侧面设置有稳固支架(5),所述稳固支架(5)的对侧位置上设置有卡紧装置(7)。
【技术特征摘要】
1.一种捕集器盖子,其特征是,包括旋转盖装置(1)、固定底座(2)、适配环(3)、旋转装置(4)、稳固支架(5)、封闭环垫(6)和卡紧装置(7),所述旋转盖装置(1)的侧面固定安装有旋转装置(4),所述旋转盖装置(1)的底部设置有固定底座(2),所述固定底座(2)的底部固定连接有适配环(3),所述适配环(3)的侧面设置有封闭环垫(6),所述固定底座(2)的侧面设置有稳固支架(5),所述稳固支架(5)的对侧位置上设置有卡紧装置(7)。2.如权利要求1所述的一种捕集器盖子,其特征是,所述旋转装置(4)包括下固定壳体(41)、第一侧板(42)、开孔(43)、固定端(44)、活动端(45)、连接杆(46)、稳固套管(47)、活动环(48)、第二侧板(49)和上固定壳体(410),所述下固定壳体(41)通过第一侧板(42)固定安装在固定底座(2),所述第一侧板(42)上开设有开孔(43),所述下固定壳体(41)的内部固...
【专利技术属性】
技术研发人员:张志利,
申请(专利权)人:天津市连兴达机械设备有限公司,
类型:新型
国别省市:天津,12
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