The utility model discloses a film preparation device for coating film on the substrate to form a thin film of fluid, which comprises a substrate conveying mechanism, coating mechanism and film thickness adjusting mechanism, wherein, the coating mechanism and the film thickness adjusting mechanism are spaced apart from each other, the substrate conveying mechanism for conveying the the substrate sequentially through the coating mechanism and the film thickness adjusting mechanism, the mechanism for coating to the substrate coated on the film forming fluid, the film thickness adjusting mechanism for scraping a portion of the substrate film forming fluid. The utility model has the advantages of thin film preparation device can realize the thickness of coating and film forming fluid film forming time, and accurate control of film thickness, thus it is convenient to prepare the performance indexes meet the requirements of the film, especially the reverse osmosis membrane or nanofiltration membrane preparation, high efficiency, good quality film.
【技术实现步骤摘要】
一种薄膜制备装置
本技术涉及一种薄膜制备装置,特别是反渗透膜或纳滤膜制备装置。
技术介绍
反渗透膜、纳滤膜等薄膜在水处理过程中发挥着极为重要的作用,已在家庭和工业场合被广泛采用,并且未来仍有着十分广阔的应用前景。因此,这些薄膜的制备工艺无疑是重要的,如何高效率、高质量地制备出合乎需要的薄膜,是本领域的技术人员必须面对的问题。现有技术中,通常是采用将基材浸入油相液中的方式来制备反渗透膜或纳滤膜,这种方式不容易控制油相液的涂覆量和成膜涂覆时间,因而会影响到薄膜的生产效率和质量。
技术实现思路
基于上述现状,本技术的主要目的在于提供一种薄膜制备装置,其能方便、快速地制备出诸如反渗透膜、纳滤膜等薄膜,并且成膜流体的涂覆量和成膜时间便于实现精确控制。为实现上述目的,本技术采用的技术方案如下:一种薄膜制备装置,用于在基材上涂覆成膜流体以形成薄膜,所述薄膜制备装置包括基材输送机构、涂覆机构和膜厚调节机构,其中,所述涂覆机构和所述膜厚调节机构彼此间隔开,所述基材输送机构用于输送所述基材顺次经过所述涂覆机构和所述膜厚调节机构,所述涂覆机构用于向所述基材上涂覆成膜流体,所述膜厚调节机构用于刮除所述基材上的一部分成膜流体。优选地,所述涂覆机构包括水平设置的涂覆辊,所述涂覆辊的外表面上设置有沿纵向延伸的流体出口。优选地,所述涂覆辊的至少一端设置有流体入口,所述流体入口与所述流体出口之间在所述涂覆辊的内部保持相通。优选地,所述流体出口的宽度为5~10mm。优选地,所述涂覆辊为圆柱体,所述流体出口位于所述圆柱体的最高的母线处。优选地,所述涂覆机构还包括第一高度调节机构,以用于调节所述涂覆辊到 ...
【技术保护点】
一种薄膜制备装置,用于在基材上涂覆成膜流体以形成薄膜,其特征在于,包括基材输送机构、涂覆机构和膜厚调节机构,其中,所述涂覆机构和所述膜厚调节机构彼此间隔开,所述基材输送机构用于输送所述基材顺次经过所述涂覆机构和所述膜厚调节机构,所述涂覆机构用于向所述基材上涂覆成膜流体,所述膜厚调节机构用于刮除所述基材上的一部分成膜流体。
【技术特征摘要】
1.一种薄膜制备装置,用于在基材上涂覆成膜流体以形成薄膜,其特征在于,包括基材输送机构、涂覆机构和膜厚调节机构,其中,所述涂覆机构和所述膜厚调节机构彼此间隔开,所述基材输送机构用于输送所述基材顺次经过所述涂覆机构和所述膜厚调节机构,所述涂覆机构用于向所述基材上涂覆成膜流体,所述膜厚调节机构用于刮除所述基材上的一部分成膜流体。2.根据权利要求1所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述涂覆机构包括水平设置的涂覆辊,所述涂覆辊的外表面上设置有沿纵向延伸的流体出口。3.根据权利要求2所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述涂覆辊的至少一端设置有流体入口,所述流体入口与所述流体出口之间在所述涂覆辊的内部保持相通。4.根据权利要求2所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述流体出口的宽度为5~10mm。5.根据权利要求2所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述涂覆辊为圆柱体,所述流体出口位于所述圆柱体的最高的母线处。6.根据权利要求2所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述涂覆机构还包括第一高度调节机构,以用于调节所述涂覆辊到所述基材的距离。7.根据权利要求6所述的薄膜制备装置,其特征在于,所述涂覆辊到...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴志军,
申请(专利权)人:江苏拓邦环保科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。