The invention provides a polishing pad conditioner and finishing equipment, which belongs to the technical field of chemical polishing device, the polishing pad trimmer comprises a rotating base, a rotating shaft and a housing assembly; a rotary base is connected with the end portion of the rotating shaft through the bearing housing assembly, assembly and the rotating shaft is rotatably connected. The lower pressure of the polishing pad trimmer is adjusted by changing the quality of the shell component to trim the surface of the polishing pad. The utility model has the advantages of simple structure, low control difficulty, adjustable lower pressure, convenient maintenance and repair, and no need for adding other power sources to repair the polishing pad. The trimming apparatus includes a guide device, the connecting rod and the polishing pad conditioner; guiding device to play the guiding role of the pad dresser moving direction, to allow the operator to move the position pad dressing polishing pad for accurate adjustment, and dressing on the surface of the polishing pad.
【技术实现步骤摘要】
抛光垫修整器及修整设备
本专利技术涉及抛光设备
,具体涉及一种抛光垫修整器及修整设备。
技术介绍
化学机械抛光工艺过程中,抛光垫在使用一段时间后,其自身的磨损消耗和形变,以及磨屑物和抛光液研磨颗粒对抛光垫表面微孔的填充,会造成抛光垫表面釉化,抛光垫留存、分配磨料的能力降低,导致材料去除率下降,晶圆平面度变差及最终被抛光表面出现质量问题。因此,在化学机械平坦化工艺中或者空闲时间对抛光垫进行适当修整,对于获得稳定的去除率非常重要,此外,通过对抛光垫的修整,可以保证抛光垫使用寿命和晶圆片间均匀性。化学机械抛光设备是集成电路制造流程中能够实现多种材料全局平坦化的关键工艺设备,其中抛光垫修整器作为设备主要功能结构之一,其功能和稳定性会直接影响化学机械抛光工艺的最终结果。因此随着工艺关键性的不断突出,设备生产商都在此结构的设计上花费更多人力和财力。现有修整器的结构主要是自动修整、压力可调,修整器摆动轨迹及时间可调。因此在抛光盘上方及周围空间都会占用一部分位置以保证所需硬件正常安装,这就从设备整体结构上加大了设备的外形尺寸,软件和电器控制上也会更加复杂,作为关键工艺设备其运行过程中各部件工作的稳定性要求更高,设计及后期维护维修成本较高。因此以上修整器工作方式具有控制难度高、部件结构复杂、维护和维修需要时间长,并且需要整机停工等缺点。
技术实现思路
本专利技术的第一目的在于提供一种抛光垫修整器,该抛光垫修整器具有部件结构简单、控制难度低、下压力可调、维护和维修简易便利的特点,并且无需外加其他动力源的方式对抛光垫进行修整。本专利技术的第二目的在于提供一种修整设备,该修整设 ...
【技术保护点】
一种抛光垫修整器,其特征在于,包括:转动底座、转动轴和壳体组件;所述转动底座与转动轴的端部连接,以使所述转动底座与所述转动轴能够同步转动;所述壳体组件通过轴承组件与所述转动轴转动连接,所述壳体组件能够相对于转动轴转动。
【技术特征摘要】
1.一种抛光垫修整器,其特征在于,包括:转动底座、转动轴和壳体组件;所述转动底座与转动轴的端部连接,以使所述转动底座与所述转动轴能够同步转动;所述壳体组件通过轴承组件与所述转动轴转动连接,所述壳体组件能够相对于转动轴转动。2.根据权利要求1所述的抛光垫修整器,其特征在于,所述壳体组件包括外壳和固定盖;所述外壳通过轴承组件与所述转动轴转动连接;所述固定盖与所述外壳远离所述转动底座的端部连接。3.根据权利要求2所述的抛光垫修整器,其特征在于,所述固定盖与所述外壳可拆卸连接,以便于更换不同质量的固定盖。4.根据权利要求2所述的抛光垫修整器,其特征在于,还包括轴承外端盖,所述轴承外端盖装配在所述外壳的内壁和所述轴承组件上。5.根据权利要求2所述的抛光垫修整器,其特征在于,还包括轴承内端盖,所述轴承内端盖装配在转动轴和所述轴承组件上。6.根据权利要求2所述的抛光垫修整器,其特征在于,还包括手持部,所述手持部与所述固定盖连接。7.根据权利要求1-6任一项所述的抛光垫修整器,其特征在于,所述轴承组件包括第一轴承、第二轴承...
【专利技术属性】
技术研发人员:詹阳,姜家宏,李婷,
申请(专利权)人:北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所,
类型:发明
国别省市:北京,11
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