偏振光照射装置制造方法及图纸

能够防止因热膨胀引起的不良情况。弹性构件抵接于板状的偏振片的第一侧面，该板状的偏振片在俯视下呈大致矩形形状，且对从光源射出的光进行偏振。弹性构件将偏振片的与第一侧面对置的侧面朝向保持构件的壁进行施力。

Polarized light irradiation device

It can prevent bad conditions caused by thermal expansion. The elastic member is attached to the first side of the plate polarizer, the plate polarizer is approximately rectangular in the downward view, and the light emitted from the light source is polarized. The elastic member forces the side of the polarizer to the side of the first side to maintain the wall of the member.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振光照射装置
本专利技术涉及偏振光照射装置。
技术介绍
专利文献1公开了一种偏振元件单元，在该偏振元件单元中，在下框架上排列有多个线栅偏振元件，从多个线栅偏振元件的上方覆盖上框架，由此来固定线栅偏振元件。在先技术文献专利文献专利文献1：日本特开2006-126464号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题当从光源向偏振元件单元射出光时，由于热量而使偏振元件单元的温度上升。由于金属与玻璃的热膨胀系数不同，因此，在由金属形成的偏振片支承构件、框架与由玻璃形成的线栅偏振元件中，上升到一定温度、例如200度左右时的变形量不同。在专利文献1所记载的专利技术中，线栅偏振元件被框架夹入，在线栅偏振元件与框架之间不存在间隙。其结果是，由于热膨胀所引起的尺寸变化在线栅偏振元件与偏振片支承构件中不同这一原因，有可能发生线栅偏振元件破裂等不良情况。本专利技术是鉴于这种情况而完成的，其目的在于，提供一种能够防止因热膨胀引起的不良情况的偏振光照射装置。用于解决课题的方案为了解决上述课题，本专利技术的偏振光照射装置的特征在于，例如具备：光源；板状的偏振片，其在俯视下呈大致矩形形状，且对从所述光源射出的光进行偏振；保持构件，其保持所述偏振片，且具有供所述偏振片的侧面抵接的壁；以及弹性构件，其设置于所述保持构件，且抵接于所述偏振片的第一侧面，该弹性构件将所述偏振片的与所述第一侧面对置的侧面朝向所述壁进行施力。根据本专利技术的偏振光照射装置，弹性构件抵接于对来自光源的光进行偏振的俯视呈大致矩形形状的板状的偏振片的第一侧面。弹性构件将偏振片的与第一侧面对置的侧面朝向保持构件的壁进行施力。由此，能够将偏振片安装于保持构件，且防止因热膨胀引起的不良情况。在此，因热膨胀引起的不良情况是指偏振片的破损、变形、移动等。在此，也可以是，所述弹性构件具有：第一弹性构件，其抵接于所述偏振片的第一侧面；和第二弹性构件，其抵接于所述偏振片的与所述第一侧面相邻的第二侧面，所述壁具有作为正交的两个壁的第一壁和第二壁，所述第一弹性构件将所述偏振片的与所述第一侧面对置的侧面朝向所述第一壁进行施力，所述第二弹性构件将所述偏振片的与所述第二侧面对置的侧面朝向所述第二侧面进行施力。由此，能够在与偏振片的第一侧面正交的平面上将偏振片相对于保持构件定位。在此，也可以是，所述弹性构件是带弹簧螺纹件，所述带弹簧螺纹件具有：球状件，其抵接于所述偏振片；弹簧，其将所述球状件朝向所述偏振片进行施力；以及螺纹部，其在内部设置有所述弹簧，所述偏振片的厚度比所述螺纹部的直径厚。由此，带弹簧螺纹件能够可靠地按压偏振片的侧面。在此，也可以是，所述弹性构件具有两个弹簧，所述两个弹簧对所述第一侧面的两端附近分别进行按压。由此，在将偏振片的与第一侧面对置的侧面朝向保持构件的壁进行施力时，能够防止偏振片在与第一侧面正交的平面上的旋转。专利技术效果根据本专利技术，能够防止因热膨胀引起的不良情况。附图说明图1是示出第一实施方式的偏振光照射装置1的概要的主视图。图2是示出偏振光照射部10的概要的俯视图。图3是示出偏振光照射部10的概要的侧视图。图4是示出偏振片单元13的概要的俯视图。图5是示出偏振片单元13的概要的剖视图。图6是示出使用板簧134将偏振片131向底面132c进行施力的现有方式的概要的图。图7是示出使用板簧134将偏振片131向底面132c进行施力的现有方式的概要的图。图8是示出变形例的偏振片单元13A的概要的俯视图。图9是示出第二实施方式的偏振片单元13B的概要的俯视图。图10是示出偏振片单元13B的概要的剖视图。图11是示出第三实施方式的偏振片单元13C的概要的立体图。具体实施方式以下，参照附图来详细说明本专利技术的实施方式。<第一实施方式>图1是示出第一实施方式的偏振光照射装置1的概要的主视图。图2是示出偏振光照射装置1的概要的侧视图。偏振光照射装置1例如使来自光源的光通过偏振膜而得到偏振光，将该偏振光照射于玻璃基板等的被曝光面而生成液晶面板用的取向膜等。以下，将被曝光对象物W的搬运方向设为y方向，将与搬运方向正交的方向设为x方向，将铅垂方向设为z方向。偏振光照射装置1主要具有偏振光照射部10、驱动部20以及摄像部30。偏振光照射部10向被曝光对象物W照射偏振光。图2是示出偏振光照射部10的概要的俯视图。图3是示出偏振光照射部10的概要的侧视图。需要说明的是，图3的双点划线示出被照射光的范围。偏振光照射部10主要具有光源11、特定波长透过滤光片12、偏振片单元13以及基座构件14。需要说明的是，图2中省略了特定波长透过滤光片12的图示。光源11是棒状的灯，其射出未偏振的光(例如紫外光)。光源以长边方向沿着y方向的方式在x方向上排列配置有多个。需要说明的是，光源11的方式不局限于此，例如也可以为沿着x方向较长的一根灯。特定波长透过滤光片12是被制作为仅使特定波长范围的光透过且吸收其他波长的光的滤光片。特定波长透过滤光片12设置在光源11的下侧(-z侧)。偏振片单元13设置在特定波长透过滤光片12的下侧(-z侧)。偏振片单元13例如包括对从光源11射出的无偏振的光进行偏振的偏振片。偏振片单元13设置于基座构件14。之后详细叙述偏振片单元13。特定波长透过滤光片12以及偏振片单元13针对每个光源11各设置一个。需要说明的是，也可以针对每个光源11而设置两个特定波长透过滤光片12以及偏振片单元13。在该情况下，将特定波长透过滤光片12以及偏振片单元13沿y方向排列而各设置两个即可(参照图2的虚线)。返回到图1的说明。驱动部20主要具有工作台21和工作台导轨22。工作台21被设置为，通过未图示的驱动机构而能够沿着工作台导轨22移动(参照图1的粗箭头)。在工作台21的上表面载置被曝光对象物W。摄像部30是在载置于工作台21上的被曝光对象物W的对准中使用的相机。对这样构成的偏振光照射装置1的作用进行说明。偏振光照射装置1一边使被曝光对象物W沿扫描方向即y方向移动，一边将从偏振光照射部10照射出的光照射于被曝光对象物W的被曝光面而生成取向膜等。该偏振光照射装置1的作用已经公知，因此，省略详细的说明。需要说明的是，对于扫描而言，可以使偏振光照射部10移动，也可以使被曝光对象物W(工作台21)移动，还可以使这两方相对地移动。在曝光时，由于被照射来自光源11的光，因此偏振片单元13的温度上升。本专利技术的特征在于，防止因偏振片单元13的温度上升而引起的不良情况这一点。以下，对偏振片单元13详细进行说明。图4是示出偏振片单元13的概要的俯视图。图5是示出偏振片单元13的概要的剖视图。偏振片单元13主要具有偏振片131、保持架132、以及带弹簧螺纹件133(带弹簧螺纹件133包括带弹簧螺纹件133A、带弹簧螺纹件133B以及带弹簧螺纹件133C)。偏振片131是对来自光源11的光进行偏振的光学元件，且是俯视呈大致矩形形状的板状构件。偏振片131例如通过在由玻璃形成的板材的表面上使金属制的线材沿一方向周期性地排列而形成。偏振片131的厚度比带弹簧螺纹件133的螺纹部133a(之后详述)的直径厚。例如，偏振片131的厚度为3mm～7mm程度。由此，带弹簧螺纹件133能够可靠地按压偏振片131的侧面。保持架132(相当于保持构件)由本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏振光照射装置，其特征在于，所述偏振光照射装置具备：光源；板状的偏振片，其在俯视下呈大致矩形形状，且对从所述光源射出的光进行偏振；保持构件，其保持所述偏振片，且具有供所述偏振片的侧面抵接的壁；以及弹性构件，其设置于所述保持构件，且抵接于所述偏振片的第一侧面，该弹性构件将所述偏振片的与所述第一侧面对置的侧面朝向所述壁进行施力。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.04.14 JP 2015-0828041.一种偏振光照射装置，其特征在于，所述偏振光照射装置具备：光源；板状的偏振片，其在俯视下呈大致矩形形状，且对从所述光源射出的光进行偏振；保持构件，其保持所述偏振片，且具有供所述偏振片的侧面抵接的壁；以及弹性构件，其设置于所述保持构件，且抵接于所述偏振片的第一侧面，该弹性构件将所述偏振片的与所述第一侧面对置的侧面朝向所述壁进行施力。2.根据权利要求1所述的偏振光照射装置，其特征在于，所述弹性构件具有：第一弹性构件，其抵接于所述偏振片的第一侧面；和第二弹性构件，其抵接于所述偏振片的与所述第一侧面相邻的...

【专利技术属性】
技术研发人员：桥本和重，新井敏成，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：日本,JP