一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件制造技术

一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件，包括第一棱镜和第二棱镜，第一棱镜和第二棱镜的胶合面镀有分束膜，分束膜镀于第一棱镜或第二棱镜。第一入射光分别从第一棱镜上表面中心入射，经分束膜分束，从第一直角梯形面的斜边面和第二直角梯形面的斜边面对称水平出射；第二入射光分别从第二棱镜上表面中心入射，经分束膜分束，从第一直角梯形面的斜边面和第二直角梯形面的斜边面对称水平出射。移动棱镜可以实现对双光束干涉场周期的测量；在双光束中加入相位调制，可以实现对双光束干涉相位分布的测量。本发明专利技术可以用一种棱镜对双光束干涉场进行测量，具有结构简单、成本低的优点。

A prism module for measuring the periodic and phase distribution of two beam interference fields

A prism assembly for measuring the period and phase distribution of double beam interference field comprises a first prism and a second prism. The bonding surface of the first prism and the second prism is coated with a beam splitter, and the beam splitter is plated on the first prism or the second prism. The first incident light respectively from the first prism surface by incident beam splitter, beam splitter, from the first surface and the second surface of the right angle trapezoidal bevel bevel face the right angled trapezoid horizontal exit; second respectively from the incident light on the surface of the second prism incident, the beam splitting film, from the first surface of the hypotenuse surface right angled trapezoid and the second right angled trapezoid horizontal exit bevel face. The mobile prism can realize the measurement of the double beam interference field period, and the phase modulation can be used to measure the phase distribution of two beams. The invention can measure the interference field of double beam with a prism, which has the advantages of simple structure and low cost.

【技术实现步骤摘要】
一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件
本专利技术涉及扫描干涉曝光系统
，具体涉及在扫描干涉曝光系统中用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件。
技术介绍
大尺寸光栅作为一种重要的色散光学元件，在高精度位移测量、光谱学、大型天文装置、惯性约束聚变中起着不可替代的作用。扫描干涉曝光SBIL(ScanningBeaminterferencelithography)是制作大尺寸光栅的有效方法之一，该方法由美国麻省理工学院(MIT)提出。SBIL采用小口径双光束干涉，通过调制干涉条纹场与二维精密移动台同步，能制作出长度超过90cm的高质量光栅。为了实现无拼缝曝光，必须对双光束干涉场周期进行精密测量。同时保证制作高对比度的光栅掩膜，双光束通常需要在束腰处进行干涉，以获得最小的相位畸变。MIT提出利用分束棱镜测量双光束干涉周期和标准光栅测量波前相位(参见“Nanometer-accurategratingfabricationwithscanningbeaminterferencelithography”，November1,2002)，获得了高精度的周期数据，并利用波前相位本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件，包括第一棱镜(1)、第二棱镜(2)，其特征在于，所述的第一棱镜(1)至少具有一个第一直角梯形面，所述的第二棱镜(2)至少具有一个第二直角梯形面，所述的第一直角梯形面与第二直角梯形面的尺寸相同，所述第一棱镜(1)第一直角梯形面的短边与所述第二棱镜(2)的短边胶合，形成胶合面，该胶合面上镀有分束膜(3)，所述第一直角梯形面的直角边(11)和第二直角梯形面的第二棱镜的直角边(21)均镀有增透膜，所述第一直角梯形面的的斜边(12)和第二直角梯形面的的斜边(22)均镀有全反膜；第一束入射光(4)经所述第一直角梯形面的直角边(11)的中心入射后，经所述分束...

【技术特征摘要】
1.一种用于测量双光束干涉场周期和相位分布的棱镜组件，包括第一棱镜(1)、第二棱镜(2)，其特征在于，所述的第一棱镜(1)至少具有一个第一直角梯形面，所述的第二棱镜(2)至少具有一个第二直角梯形面，所述的第一直角梯形面与第二直角梯形面的尺寸相同，所述第一棱镜(1)第一直角梯形面的短边与所述第二棱镜(2)的短边胶合，形成胶合面，该胶合面上镀有分束膜(3)，所述第一直角梯形面的直角边(11)和第二直角梯形面的第二棱镜的直角边(21)均镀有增透膜，所述第一直角梯形面的的斜边(12)和第二直角梯形面的的斜边(22)均镀有全反膜；第一束入射光(4)经所述第一直角梯形面的直角边(11)的中心入射后，经所述分束膜(3)分束，分为第一反射光和第一透射光，该第一反射光经所述第一直角梯形面的斜边(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：李民康，周常河，韦春龙，向显嵩，尹正坤，邓基立，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：上海,31