浓度张力梯度自组装涂层的制备方法技术
Preparation of colloidal particles film
A preparation method comprises the following steps: providing a substrate film colloidal particles and colloidal solution, the colloidal solution including colloidal particles dispersed in the first liquid and the first liquid; second liquid, the second liquid and the first liquid solubility, surface tension and the second liquid less than the first liquid, a liquid film formed on the substrate surface with the second liquid; and the liquid film and the colloidal solution contact, resulting in the formation of colloidal particles and thin film substrate. The invention can easily and efficiently obtain uniform colloidal particle film on different substrates.
【技术实现步骤摘要】
胶体颗粒薄膜的制备方法
本专利技术涉及材料领域，特别是涉及一种胶体颗粒薄膜的制备方法。
技术介绍
胶体颗粒是单分散的、尺度在纳米、亚微米级别的有机或无机颗粒。纳米、亚微米尺度材料在光、电、磁、力等方面具有许多独特性质，胶体颗粒在人们生活中的很多方面也扮演着越来越重要的角色。将胶体颗粒在基底表面形成单层或多层胶体颗粒薄膜，不仅可以实现对基底的保护还可以使整体表现出胶体颗粒所不具备的性质，可以用于防腐蚀、催化、光电器件、传感器和生物医学等领域。胶体颗粒薄膜的制备主要是通过胶体颗粒自组装的方式，即利用胶体颗粒与胶体颗粒之间及胶体颗粒与基底表面之间的相互作用力(库仑力、范德华力和疏水作用力等)，使胶体颗粒在这些作用下朝着自由能减小的方向运动，当体系能量达到最小时形成稳定的单层或多层胶体颗粒薄膜。通常，制备胶体颗粒薄膜的自组装方法有旋涂法、对流法、提拉法和静电力法等方法，其中旋涂法、对流法和提拉法都是利用胶体溶液在基底表面上的润湿而形成的薄膜效应，静电力法是使胶体颗粒在静电引力作用下组装到基底表面。然而，旋涂法无法在曲面上形成均一的单层或多层胶体颗粒薄膜，对流法的操作方法较...
【技术保护点】
一种胶体颗粒薄膜的制备方法，包括：提供基底和胶体溶液，所述胶体溶液包括第一液体和分散于所述第一液体中的胶体颗粒；提供第二液体，所述第二液体与所述第一液体互溶，且所述第二液体的表面张力小于所述第一液体的表面张力，用所述第二液体在所述基底表面形成一液膜；以及将所述液膜与所述胶体溶液接触，从而将所述胶体颗粒组装在所述基底表面形成胶体颗粒薄膜。
【技术特征摘要】
1.一种胶体颗粒薄膜的制备方法，包括：提供基底和胶体溶液，所述胶体溶液包括第一液体和分散于所述第一液体中的胶体颗粒；提供第二液体，所述第二液体与所述第一液体互溶，且所述第二液体的表面张力小于所述第一液体的表面张力，用所述第二液体在所述基底表面形成一液膜；以及将所述液膜与所述胶体溶液接触，从而将所述胶体颗粒组装在所述基底表面形成胶体颗粒薄膜。2.根据权利要求1所述的胶体颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，所述将所述液膜与所述胶体溶液接触的方法包括：将形成有所述液膜的所述基底放入所述胶体溶液中，使所述液膜与所述胶体溶液接触；所述胶体颗粒薄膜的制备方法进一步包括：将形成有所述胶体颗粒薄膜的所述基底从所述胶体溶液中提拉出来。3.根据权利要求1所述的胶体颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，所述第二液体的表面张力小于或等于所述第一液体的表面张力的1/2。4.根据权利要求1所述的胶体颗粒薄膜的制备方法，其特征在于，用于形成所述液膜的所...
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