一种用于板式PECVD设备的石墨框制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于板式PECVD设备的石墨框，包括复数个承载硅片的承载孔，所述承载孔由位于石墨框四周的边缘框条和位于石墨框中间的中央框条纵横交错构成，在所述石墨框四周的边缘框条上设有透气孔，使得透气孔和与其相邻的承载孔之间形成第二框条。本实用新型专利技术在石墨框四周的边缘框条上设置长条形的透气孔，并在长条形的透气孔和其对应的承载孔之间形成第二框条，第二框条和中央框条的宽度相当，在相同加热时间下，这2种石墨框条的温差较小，有益于电池片镀膜时的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种用于板式PECVD设备的石墨框
本技术涉及太阳能电池制造
，具体涉及一种用于板式PECVD设备的石墨框。
技术介绍
常规的化石燃料日益消耗殆尽，在所有的可持续能源中，太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。目前，在所有的太阳电池中，晶体硅太阳电池是得到大范围商业推广的太阳能电池之一，这是由于硅材料在地壳中有着极为丰富的储量，同时晶体硅太阳电池相比其他类型的太阳能电池有着优异的电学性能和机械性能，因此，晶体硅太阳电池在光伏领域占据着重要的地位。现有技术中，在制备晶体硅太阳能电池过程中，制备减反射膜是一个必不可少的工序。近几年来，氮化硅薄膜应用于晶体硅太阳能电池的减反射膜，它不仅具有减反射膜的作用，还能起到钝化作用，其成膜工艺、钝化及减反射性能受到人们的重视。目前，制备氮化硅薄膜主要采用等离子体增强化学气相沉淀（PECVD）的方法，其使用的设备主要有倒挂式PECVD设备和板式PECVD设备。其中，板式PECVD设备主要采用石英管+铜棒来传导射频或微波激发稀薄气体辉光放电产生等离子体，等离子体中的电子被电场加速，获得很高的能量将反应气体分子激活，从而促进气体分子的分解本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于板式PECVD设备的石墨框，包括复数个承载硅片的承载孔(1)，所述承载孔(1)由位于石墨框四周的边缘框条(2)和位于石墨框中间的中央框条(3)纵横交错构成，其特征在于：在所述石墨框四周的边缘框条(2)上设有透气孔(4)，使得透气孔(4)和与其相邻的承载孔(1)之间形成第二框条(5)。

【技术特征摘要】
1.一种用于板式PECVD设备的石墨框，包括复数个承载硅片的承载孔(1)，所述承载孔(1)由位于石墨框四周的边缘框条(2)和位于石墨框中间的中央框条(3)纵横交错构成，其特征在于：在所述石墨框四周的边缘框条(2)上设有透气孔(4)，使得透气孔(4)和与其相邻的承载孔(1)之间形成第二框条(5)。2.根据权利要求1所述的用于板式PECVD设备的石墨框，其特征在于：在所述石墨框四周的边缘框条(2)上设有复数个长条形的透气孔(4)，长条形的透气孔(4)与位于石墨框四周的承载孔(1)一一对应设置，并在长条形的透气孔(4)和其对应的承载孔(1)之间形成第二框条(5)。3.根据权利要求2所述的用于板式PECVD设备的石墨框，其特征在于：所述长条形的透气孔(4)为长方形透气孔，其长度小于等于与其对应的承载孔(1)的长度；其宽度为3~8mm。4.根据权利要求3所述的用于板式PECVD设备的石墨框，其特征在于：所述石墨框四周的边缘框条(2)的四个角上均设有第二透气孔(6)，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈艺超，郑旭然，潘励刚，姜大俊，杨超，罗本前，邢国强，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32