蒸镀用金属掩模基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法技术

蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】蒸镀用金属掩模基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法
本专利技术涉及蒸镀用金属掩模基材、蒸镀用金属掩模、蒸镀用金属掩模基材的制造方法以及蒸镀用金属掩模的制造方法。
技术介绍
作为使用蒸镀法制造的显示器件之一，已知有机EL显示器。有机EL显示器具备的有机层，是在蒸镀工序中升华的有机分子的堆积物。蒸镀工序中使用的蒸镀用金属掩模所具备的掩模孔，是使升华的有机分子朝向基板通过的通路。掩模孔所具有的开口具有与有机EL显示器所具备的像素的形状相对应的形状(例如，参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-055007号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，制造蒸镀用金属掩模的方法包括对蒸镀用金属掩模基材形成开口的工序。在形成开口的工序中，例如进行使用了光刻法的抗蚀剂掩模的形成、以及使用了抗蚀剂掩模的湿式蚀刻。此时，在抗蚀剂掩模的形成中，位于蒸镀用金属掩模基材的表面上的抗蚀剂层中的曝光对象区域被曝光。并且，照射至抗蚀剂层的光的至少一部分在蒸镀用金属掩模基材的表面散射，所散射的光的一部分向抗蚀剂层中的曝光对象区域以外的部分照射。结果，在抗蚀剂层采用负型的抗蚀剂材料的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀用金属掩模基材，其中，包括含镍金属片，该含镍金属片具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.17 JP 2015-143509;2015.08.31 JP 2015-171441.一种蒸镀用金属掩模基材，其中，包括含镍金属片，该含镍金属片具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。2.如权利要求1所述的蒸镀用金属掩模基材，其中，入射到上述对象面的光的镜面反射的反射率为53.0％以上97.0％以下。3.一种蒸镀用金属掩模基材，其中，包括含镍金属片，该含镍金属片具有表面以及与上述表面相反侧的面即背面，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，入射到上述对象面的光的镜面反射的反射率为53.0％以上97.0％以下。4.如权利要求2或3所述的蒸镀用金属掩模基材，其中，在上述对象面中相互正交的两个方向分别为上述光所入射的方向，上述两个方向上的上述反射率之差为3.6％以下。5.如权利要求1至4中任一项所述的蒸镀用金属掩模基材，上述含镍金属片为因瓦合金片。6.一种蒸镀用金属掩模，其中，包括由含镍金属片构成的掩模部，上述掩模部具备：表面，包括表面开口；以及背面，为与上述表面相反侧的面，包括与上述表面开口连通的背面开口，上述表面以及上述背面的至少一方为对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。7.如权利要求6所述的蒸镀用金属掩模，其中，入射到上述对象面的光的镜面反射的反射率为53.0％以上97.0％以下。8.一种蒸镀用金属掩模，其中，包括由含镍金属片构成的掩模部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：田村纯香，新纳干大，藤户大生，西辻清明，西刚广，三上菜穗子，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP