掩膜板、OLED显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

技术编号:16635807 阅读:290 留言:0更新日期:2017-11-25 23:32
本发明专利技术提供了一种掩膜板、OLED显示基板及其制作方法、显示装置,属于显示技术领域。其中,掩膜板,包括:金属掩膜板本体,所述金属掩膜板本体包括多个第一开口;位于所述金属掩膜板本体上的绝缘膜,所述绝缘膜包括有多个第二开口,所述第二开口在所述金属掩膜板本体上的正投影落入对应的所述第一开口内。本发明专利技术的技术方案能够制作高PPI的OLED显示装置。

Mask plate, OLED display substrate, manufacturing method and display device thereof

The invention provides a mask plate, a OLED display substrate, a manufacturing method and a display device thereof, which belong to the display technology field. The mask includes a metal mask plate body, wherein the metal mask plate body comprises a plurality of first openings; in the insulating film of the metal mask plate body, wherein the insulating film comprises a plurality of second opening, the second opening is cover board body into the film projection corresponding to the first opening in the metal. The technical scheme of the invention can make the OLED display device with high PPI.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板、OLED显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
,特别是指一种掩膜板、OLED显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
OLED显示器,以其独有的优势,如响应速度快,全固化,自发光等备受市场的关注。OLED显示器的应用也非常多元化,柔性显示、透明显示及微显示等都有OLED显示器的身影。目前,OLED显示器全彩化有两种方式,一种是直接利用FMM(精细金属掩膜板)分别蒸镀R(红色)B(蓝色)G(绿色)子像素的发光材料,另外一种是利用WOLED(白光OLED)+彩色滤光片的方式来实现彩色显示。其中,利用FMM分别蒸镀R、B、G子像素的发光材料的方式不设置彩色滤光片,没有亮度的损失,同时蒸镀的R、B、G子像素的发光材料具有较高的发光效率,因此能够获得色域较高、亮度较高的显示器。但是由于FMM精度的限制,现有技术中采用FMM方式最高只能制作400PPI(像素密度)的OLED显示器,无法再继续提升PPI。而目前需要高PPI的应用也越来越多,例如微显示领域,400PPI的显示器已然满足不了人眼的需求,因此如何利用FMM能够制备更高PPI的OLED显示器成为OLED工作者本文档来自技高网...
掩膜板、OLED显示基板及其制作方法、显示装置

【技术保护点】
一种掩膜板,其特征在于,包括:金属掩膜板本体,所述金属掩膜板本体包括多个第一开口;位于所述金属掩膜板本体上的绝缘膜,所述绝缘膜包括有多个第二开口,所述第二开口在所述金属掩膜板本体上的正投影落入对应的所述第一开口内。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,其特征在于,包括:金属掩膜板本体,所述金属掩膜板本体包括多个第一开口;位于所述金属掩膜板本体上的绝缘膜,所述绝缘膜包括有多个第二开口,所述第二开口在所述金属掩膜板本体上的正投影落入对应的所述第一开口内。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述多个第二开口阵列排布,相邻所述第二开口在行方向上的间距不小于所述第二开口在行方向上的宽度的两倍。3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第二开口在行方向上的宽度不大于4.2um,相邻所述第二开口在行方向上的间距不大于8.4um。4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第二开口将所述绝缘膜分割为多个绝缘图形,所述绝缘图形在垂直于所述金属掩膜板本体的方向上的截面为倒梯形。5.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述绝缘膜采用负性光刻胶,所述金属掩膜板本体采用镍铁合金或镍钴合金。6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述绝缘膜中掺杂有磁性粒子。7.一种掩膜板的制作方法,其特征在于,包括:提供一金属掩膜板本体,所述金属掩膜板本体包括多个第一开口;在所述金属掩膜板本体上制备绝缘膜;对所述绝缘膜进行构图形成多个第二开口,所述第二开口在所述金属掩膜板本体上的正投影落入对应的所述第一开口内...

【专利技术属性】
技术研发人员:张粲
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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