聚合方法技术

一种制备聚合物或低聚物的方法，包括如下步骤：（ａ）通过如下步骤制备包含取代芳族或杂芳族基团的第一单体：（ｉ）提供被第一和第二定位基团取代的芳族或杂芳族基团；（ｉｉ）在芳族或杂芳族基团上的第一位置进行金属化；（ｉｉｉ）进行亲电取代以在第一位置提供第一取代基团；和（ｂ）在反应混合物中将第一单体与至少另外两种各自与第一单体相同或不同的单体在形成聚合物或低聚物的条件下接触；其中第一和第二定位基团的性质和位置区域选择第一位置。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及制备聚合物或低聚物的方法，和可由该方法制备的或由该方法制备的聚合物或低聚物。还提供了这些聚合物或低聚物的用途。更具体地，本专利技术涉及用于电气、电子、光学和光电器件，如基于小分子和聚合物的发光器件(如发光二极管(LED))的共轭分子、低聚物和聚合物。本专利技术特别涉及合成芳族前体的方法，当该芳族前体在控制C-C键形成过程中偶联时，提供发光共轭分子、低聚物、大分子和聚合物。在固体状态下的高光致发光效率是能够在施加场下通过电荷注入发光(电致发光)的有机半导体的必备条件。在设计新的用于发光器件的共轭体系中，获得倾向于参与聚合偶联反应的芳族前体分子的方法是有利的。很多证据显示，改变取代方式可提供改进的光致发光效率。已存在将芳族单体偶联以提供特别适用于发光器件的共轭聚合物或低聚物的多种已知方法。其中一种方法是1，4-双(卤甲基)芳族衍生物的Gilch脱卤化氢缩聚法。该方法描述于文献，如Gilch等人JPoly Sci，1-A，1966，4，1337；Wudl，US5,189,136/1990；H.Spreitzer，W.Kreuder，H.Becker，和H.Schoo W本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备聚合物或低聚物的方法，包括如下步骤： （ａ）通过如下步骤制备包含取代芳族或杂芳族基团的第一单体： （ｉ）提供被第一和第二定位基团取代的芳族或杂芳族基团； （ｉｉ）在芳族或杂芳族基团上的第一位置进行金属化； （ｉｉｉ）进行亲电取代以在第一位置提供第一取代基团；和 （ｂ）在反应混合物中将第一单体与至少另外两种各自与第一单体相同或不同的单体在形成聚合物或低聚物的条件下接触； 其中第一和第二定位基团的性质和位置区域选择第一位置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：AB赫尔米斯，FDA詹尼斯特，RE马丁，F卡希亚里，
申请(专利权)人：剑桥显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]