The utility model discloses a device for fabricating graphene thin films, the structure comprises a magnetron plate, DC magnetic ring, high frequency frame, frequency control device, spectral layer, ion layer, oxide film layer, the two ends of the frame is provided with high frequency DC magnetic ring, the frequency control device are connected with both sides of the high frequency magnetic control board. The frame is arranged inside the frequency control device, the frequency control device comprises a gas pipe, an electrode, oxidation tube, inner frame plate, an alkylene oxide release body, two electrodes, the gas tube is connected with a lateral electrode, wherein an electrode connected with the inner side of one side of the tube body is oxidized. The oxidation tube body is provided with an alkylene oxide release body, the ion layer connected with the oxide film, wherein an electrode connecting plate inside a frame, the two electrode connecting plate is inside the inner frame, the layer is connected with the ion spectra of the layer. The spectral layer is connected with an oxide film. The beneficial effect of the utility model is that the magnetic control board is connected on both sides of the frequency control device to make it more stable and control in operation.
【技术实现步骤摘要】
一种制备石墨烯薄膜的装置
本技术是一种制备石墨烯薄膜的装置,属于石墨烯薄膜领域。
技术介绍
石墨烯是从石墨材料中剥离出来、由碳原子组成的只有一层原子厚度的二维晶体。用石墨烯取代硅,计算机处理器的运行速度将会快数百倍。现有技术公开了申请号200410025809.6一种热等离子体雾态气化制备薄膜的装置,该装置包括气体供给源、超声雾化器、等离子体炬发生装置、石英管沉积反应室及其双向可调低速电机、热电偶和温控仪、铜网屏蔽罩等,本专利技术的装置无需抽真空设备,薄膜沉积反应均在常压进行。使用本装置时,将适当的源物质溶于水配置成先体溶液,采用超声雾化将先体雾化成液滴,用载气将雾滴输运到等离子体中,在常压沉积薄膜;本装置可使用的源物质为能溶于水或烯酸的单质或化合物如金属氧化物、硝酸盐、氯化物和硫酸盐等。本专利技术可采用的源物质来源广泛,可制备的薄膜种类几乎不受源物质的限制;采用单一的水溶液为先体,薄膜的组份调节方便;薄膜沉积速率高,一次成膜,无需多次涂覆或后续热处理,薄膜制备周期短;所制备的薄膜光滑致密,并可在线大面积沉积薄膜。现有的制备石墨烯薄膜的装置无法做到在运行中让其更加 ...
【技术保护点】
一种制备石墨烯薄膜的装置,其特征在于:其结构包括磁控板(1)、直流磁环(2)、高频框架(3)、控频装置(4)、光谱层(5)、离子层(6)、氧化膜层(7),所述高频框架(3)两端设有直流磁环(2),所述控频装置(4)两侧连接有磁控板(1),所述高频框架(3)内部设有控频装置(4),所述控频装置(4)包括气体管体(8)、一位电极(9)、氧化管体(10)、内框板(11)、氧化烯释体(12)、二位电极(13),所述气体管体(8)一端连接有一位电极(9)外侧,所述一位电极(9)内侧连接有氧化管体(10)一侧,所述氧化管体(10)内部设有氧化烯释体(12),所述离子层(6)连接有氧化膜层(7)。
【技术特征摘要】
1.一种制备石墨烯薄膜的装置,其特征在于:其结构包括磁控板(1)、直流磁环(2)、高频框架(3)、控频装置(4)、光谱层(5)、离子层(6)、氧化膜层(7),所述高频框架(3)两端设有直流磁环(2),所述控频装置(4)两侧连接有磁控板(1),所述高频框架(3)内部设有控频装置(4),所述控频装置(4)包括气体管体(8)、一位电极(9)、氧化管体(10)、内框板(11)、氧化烯释体(12)、二位电极(13),所述气体管体(8)一端连接有一位电极(9)外侧,所述一位电极(9)内侧连接有氧化管体(10)...
【专利技术属性】
技术研发人员:张恒,
申请(专利权)人:河北索兰烯业新材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:河北,13
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