光稳定的液晶介质制造技术

本发明专利技术涉及光稳定的液晶介质，包括结构式Ⅰ的至少一种化合物和－结构式Ⅱ的至少一种化合物以及涉及用于电光学目的的用途和涉及含有这一介质的显示器。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光稳定的液晶介质，涉及它们用于电光学目的的用途，和涉及含有这一介质的显示器。液晶主要用作显示设备中的电介质，因为此类物质的光学性质通过外加电压来改变。以液晶为基础的电子光学设备是所属
的专业人员非常了解的并能够以各种效应为基础。此类设备的例子是具有动态散射的池，DAP(校直相的变形)池，宾/主池，具有扭转向列型结构的TN池，STN(超扭转向列)池，SBE(超双折射率效应)池和OMI(光学模式干涉)池。最普通的显示设备是以Schadt-Helfrich效应为基础的和具有扭转向列型结构。该液晶材料必须具有良好的化学和热稳定性以及对电场和电磁辐射的良好稳定性。此外，该液晶材料应该具有低粘度和在池中生产短的寻址时间，低的阈电压和高的对比度。它们应该进一步在常规的操作温度下，即在高于和低于室温的最宽可能范围中，对于上述池具有合适的中间相，例如向列型或胆甾型中间相。因为液晶一般作为多种组分的混合物来使用，重要的是这些组分彼此容易混溶。其它性能，如导电性，介电各向异性和光学各向异性，必须满足各种要求，这取决于应用的池类型和领域。例如，具有扭曲向列型结构的池的材料应该具有正本文档来自技高网...

【技术保护点】
液晶介质，它包括－结构式Ⅰ的至少一种化合物＊＊＊Ⅰ和－结构式Ⅱ的至少一种化合物＊＊＊Ⅱ其中Ｌ↑［１］，Ｌ↑［２］，Ｌ↑［３］和Ｌ↑［４］各自独立地是Ｈ或Ｆ；Ｒ↑［１１］ 是Ｈ，具有１到１５个碳原子的卤代或未被取代的烷基，其中，另外，在这些基团中的一个或多个ＣＨ↓［２］基团各自可以彼此独立地被－Ｃ≡Ｃ－，－ＣＨ＝ＣＨ－，－Ｏ－，－ＣＯ－Ｏ－或－Ｏ－ＣＯ－取代，但要求Ｏ原子不彼此直接连接；Ｒ↑［２１］和 Ｒ↑［２２］各自独立地是Ｈ，Ｃｌ，Ｆ，Ｃ...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A马纳贝，U埃旺，D保卢特，M埃克梅尔，P基尔施，E蒙特内格罗，
申请(专利权)人：默克专利股份有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]