【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及研磨材料，特别是涉及以含有氧化铈的稀土金属类氧化物为主要组分的研磨材料中构成该研磨材料时所含的添加剂。
技术介绍
近年来，玻璃材料被广泛利用，不仅用于光学透镜用途，还用于光盘和磁盘用途、液晶用滤色片、LSI(大规模集成电路)光掩模用途等非常多的领域中。这种玻璃材料被严格要求具有高精度的表面平滑性，因此在它的表面加工中，迄今使用以含有氧化铈的稀土金属类氧化物为主要组分的研磨材料。这种以含有氧化铈的稀土金属类氧化物为主要组分的研磨材料，通常在研磨材料磨粒分散于水等分散介质中而成浆液的状态下使用。以这种浆液状态静置时，作为分散体的研磨材料磨粒容易与分散介质分离，产生沉淀现象。另外，研磨材料是循环使用的，因此磨粒本身会粉碎和混入作为被研磨物的玻璃组分，在磨粒沉淀时，它的沉淀物会非常硬。如果产生这种磨粒的分离沉淀，首先，不能维持循环使用期间的给定浓度浆液的组成或浓度，因此研磨效率降低。其次，磨粒沉淀物变硬时，被研磨物的玻璃表面容易附着磨粒，因此需要进行从玻璃表面除去磨粒的作业。所以所谓的“玻璃表面洗净性”会变差。此外，磨粒沉淀物变硬时，研磨垫容易引起气孔堵...
【技术保护点】
研磨材料，它是以含有氧化铈的稀土金属类氧化物为主要组分，其特征在于，它含有固化防止剂和分散剂，所述的固化防止剂用于在该研磨材料磨粒分散到分散介质时使该研磨材料磨粒的沉淀物变软，所述的分散剂用于使该研磨材料磨粒分散于分散介质中。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：内野义嗣，山崎秀彦，桑原滋，
申请(专利权)人：三井金属鉱业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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