感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷布线板的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种感光性元件，其具备支撑膜和形成在该支撑膜上的由感光性树脂组合物得到的感光层，其中，支撑膜的雾度为0.01～1.5％，且该支撑膜中所含有的直径为5μm以上的粒子和直径为5μm以上的凝聚物的总数为5个/mm

Photosensitive element, formation method of resist pattern and manufacturing method of printed wiring board

The invention relates to a photosensitive element, the support membrane and forming a photosensitive layer obtained by photosensitive resin composition on the support on the membrane of the supporting membrane haze is 0.01 ~ 1.5%, and the support film contained in the diameter of more than 5 mu m and the particle diameter of 5 mu m condensate for a total of 5 /mm

【技术实现步骤摘要】
感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷布线板的制造方法本申请是申请日为2011年12月15日、专利技术名称为“感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷布线板的制造方法”的中国申请号为201180060314.5的分案申请。
本专利技术涉及感光性元件、使用了该感光性元件的抗蚀图案的形成方法以及印刷布线板的制造方法。
技术介绍
一直以来，在印刷布线板的制造领域及金属的精密加工领域中，作为用于蚀刻、镀覆等的抗蚀材料，广泛使用由从感光性树脂组合物形成的层(以下称为“感光层”)、支撑膜以及保护膜构成的感光性元件。印刷布线板例如如下制造。首先，将感光性元件的保护膜从感光层剥离后，将感光层层压在电路形成用基板的导电膜上。接着，对感光层实施图案曝光后，将未曝光部分用显影液除去，从而形成抗蚀图案。然后，基于该抗蚀图案对导电膜进行布图，由此形成印刷布线板。作为该未曝光部分的除去中使用的显影液，主要使用碳酸钠溶液等碱性显影型。显影液通常只要具有某种程度的溶解感光层的能力即可，显影时感光层溶解在显影液中或分散在显影液中。近年来，伴随着印刷布线板的高密度化，电路形成用基板与作为抗蚀材料的感光层的接触面积变小。因本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性元件，其是具备支撑膜和形成在该支撑膜上的由感光性树脂组合物得到的感光层的感光性元件，其中，所述支撑膜的雾值为0.01～1.5％，且该支撑膜中所含有的直径为5μm以上的粒子和直径为5μm以上的凝聚物的总数为5个/mm

【技术特征摘要】
2010.12.16 JP 2010-2806041.一种感光性元件，其是具备支撑膜和形成在该支撑膜上的由感光性树脂组合物得到的感光层的感光性元件，其中，所述支撑膜的雾值为0.01～1.5％，且该支撑膜中所含有的直径为5μm以上的粒子和直径为5μm以上的凝聚物的总数为5个/mm2以下，所述感光层含有粘合剂聚合物、具有烯属不饱和键的光聚合性化合物以及光聚合引发剂，所述感光层的厚度T和所述感光层的365nm下的吸光度A满足下述式(I)所示的关系，0.001≤A/T≤0.020(I)。2.如权利要求1所述的感光性元件，其中，所述光聚合引发剂含有2,4,5-三芳基咪唑二聚物。3.如权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述光聚合引发剂含有分别由下述通式(XI)或(XII)所示的吡唑啉化合物，所述通式(XI)、(XII)中，R各自独立地表示碳数为1～12的直链状或支链状的烷基、碳数为1～10的直链状或支链状的烷氧基、或者卤素原子，a、b及c各自独立地表示0～5的整数，且a、b及c的总和为1～6，在a、b及c的总和为2以上时，多个存在的R可以相互相同或不同。4.如权利要求3所述的感光性元件，其中，所述R中的至少一个为异丙基。5.如权利要求3所述的感光性元件，其中，所述R中的至少一个为甲氧基或乙氧基。6.如权利要求1～5中任一项所述的感光性元件，其中，所述光聚合性化合物含有下述通式(II)所示的化合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：久保田雅夫，
申请(专利权)人：日立化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP