The utility model discloses a vacuum aluminizing film can improve the adhesion of the device, the device comprises a vacuum chamber, the vacuum chamber is provided with a first uncoiler, guide rollers, second guide roller, cooling roller, rolling machine and evaporation disc, evaporation disc is arranged on the bottom of the vacuum chamber, the evaporation tray settings need to be deposited the aluminum cooling roller is arranged above the evaporation plate; steam above the plating disc is provided with a graphite heater; the uncoiler is arranged at one side of the evaporation plate; the first guide roller is arranged above the uncoiler; plasma emission device is arranged between the uncoiler and the first guide roller; a guide roller is arranged between the first second the guide roller and the cooling roller; the side coiling machine is arranged at the top of the vacuum chamber. The device uses plasma to bombard the surface of the sheet substrate to remove oxygen, moisture and other low molecular weight substances adsorbed on the surface of the flake substrate. Bombardment can effectively improve the adhesion between aluminum vapor and the surface of sheet substrate, and avoid the peeling of aluminum film.
【技术实现步骤摘要】
一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置
本技术涉及真空镀铝薄膜
,尤其涉及一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置。
技术介绍
现有技术中,真空薄膜镀铝装置利用电阻加热法将待沉积的铝加热到熔融状态,在熔融状态的铝发生蒸发,蒸发的铝沉积在片状基材上,形成真空镀铝薄膜,但是这种电阻加热法需要耗费大量电能。另外,这种蒸镀方法形成的薄膜多为多孔性结构,蒸发的铝蒸汽与片状基材之间的粘着力较小,容易脱落。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,所要解决的技术问题是如何提高成膜的质量,使薄膜的粘着力增强,同时降低能耗。本技术所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室,真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘,蒸镀盘设置在真空室的底部,蒸镀盘内设置有待沉积的铝,冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方;蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器;开卷机设置在蒸镀盘的一侧;第一导向辊设置在开卷机的上方;开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置;第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间;收卷机设置在真空室的顶部的一侧。所述的冷却滚筒的温度维持在-10℃至-15℃之间。所述的冷却滚筒的旋转速度维持在300至900厘米/秒之间。所述真空室内的压力维持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之间。所述开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒和收卷机组成传动系统,该传动系统上设置有片状基材。本技术的技术方案具有如下优点:本技术所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置利用等离子体轰击片状基材的表面,等离子体与片状基材发生持续碰撞,去 ...
【技术保护点】
一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室,真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘,蒸镀盘设置在真空室的底部,蒸镀盘内设置有待沉积的铝,冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方;蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器;开卷机设置在蒸镀盘的一侧;第一导向辊设置在开卷机的上方;开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置;第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间;收卷机设置在真空室的顶部的一侧。
【技术特征摘要】
1.一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置,其特征在于,所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室,真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘,蒸镀盘设置在真空室的底部,蒸镀盘内设置有待沉积的铝,冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方;蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器;开卷机设置在蒸镀盘的一侧;第一导向辊设置在开卷机的上方;开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置;第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间;收卷机设置在真空室的顶部的一侧。2.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄...
【专利技术属性】
技术研发人员:田守文,
申请(专利权)人:天津市大阳光大新材料股份有限公司,
类型:新型
国别省市:天津,12
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