The invention discloses a flexible substrate for plating thick film coating equipment and method, the device comprises unreeling chamber, ion chamber, a coating chamber and a winding chamber, ion treatment rooms and a coating chamber peripheral coating along the water cooling roller were distributed on both sides of the unwinding and rewinding. The water cooling roller are respectively arranged in the coating chamber; a plurality of coating chamber, continuous evaporation source is located in the middle of the coating chamber, the coating chamber arranged in the medium frequency magnetron target. The method is flexible substrate ion treatment, coating the water cooling roller to rotate along sequentially into each coating chamber, the medium frequency magnetron target at least once sputtering on flexible substrate surface, and then through the continuous evaporation source for evaporation on flexible substrates, by mid frequency magnetron target of at least one flexible substrate surface a sputtering, and finally out. The invention can realize the coating of the thick film layer of the flexible base material, the coating efficiency is high, and the surface uniformity of the film surface is high.
【技术实现步骤摘要】
一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法
本专利技术涉及柔性基材镀膜
,特别涉及一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法。
技术介绍
随着现代工业技术的发展,柔性基材的镀膜需求越来越大。柔性基材膜不但具有硬质衬底膜的光电特性,而且具有重量轻、可折叠、不易破碎、便于运输、设备投资少等优点。被广泛应用于高性能汽车贴膜、等离子电视平板显示、触摸屏、太阳能电池等领域。根据不同的应用需求,对所镀膜层的功能性要求也不同,但是总体上,目前各行业对柔性基材膜的功能性要求有越来越高的趋势,膜系结构也趋向于越来越复杂。目前,磁控溅射法制备柔性薄膜的工艺比较成熟、生产效率也较高。但纯粹的磁控溅射法仅适用于金属膜层较薄(其膜厚一般不超过2μm)的柔性基材镀膜,无法适用于金属膜层较厚(其膜厚一般为3-5μm)的柔性基材镀膜。在实际生产中,磁控溅射法制备柔性薄膜的生产线中仍存在以下突出问题:(1)磁控溅射方式中,金属材料蒸发量相当小,当金属膜层需要较大厚度时,必须采用多次反复镀膜,这就延长了镀膜周期,而且需要设置多个相同的真空镀膜室来进行镀膜,设备成本相当高,生产效率也低。同时,由于需要进行多次镀膜,容易使金属膜层出现分层现象,影响其膜层均匀性和使用性能。但若采用电子枪蒸发方式代替,则电子枪蒸发源造价过高,不利于设备成本控制,而且电子枪的稳定性较差,容易产生故障而影响正常生产。(2)柔性基材镀膜前一般需要先进行离子处理,现有的磁控溅射方法中采用阳极线性离子源、霍尔离子源或考夫曼离子源,采用阳极线性离子源时,阳极离子源打出来的离子会含有来自阴极的金属离子,金属离子和离子束流混合在一起射出 ...
【技术保护点】
一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,沿柔性基材的输送方向,包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室,离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布,放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧;多个镀膜室中,位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源,其余各镀膜室中设置中频磁控靶;连续式蒸发镀膜源包括蒸发器、蒸发器挡板和镀料丝供料机构,蒸发器设于镀膜室底部,蒸发器的开口朝向柔性基材的表面,蒸发器挡板设于蒸发器的开口上方,镀料丝供料机构设于蒸发器的一侧,镀料丝供料机构向蒸发器中供应镀料丝。
【技术特征摘要】
1.一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,沿柔性基材的输送方向,包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室,离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布,放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧;多个镀膜室中,位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源,其余各镀膜室中设置中频磁控靶;连续式蒸发镀膜源包括蒸发器、蒸发器挡板和镀料丝供料机构,蒸发器设于镀膜室底部,蒸发器的开口朝向柔性基材的表面,蒸发器挡板设于蒸发器的开口上方,镀料丝供料机构设于蒸发器的一侧,镀料丝供料机构向蒸发器中供应镀料丝。2.根据权利要求1所述一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,所述蒸发器包括蒸发源水冷座、蒸发源输入电极、蒸发舟、蒸发电极绝缘套和电极冷却水接咀,蒸发源水冷座为上部开口的箱体状结构,蒸发舟设于蒸发源水冷座内,蒸发舟底部设置蒸发源输入电极,蒸发源输入电极内设有冷却通道,冷却通道的入口处设有电极冷却水接咀,蒸发源输入电极与镀膜室外壁的相接处设有蒸发电极绝缘套。3.根据权利要求2所述一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,所述镀料丝供料机构包括镀料丝卷盘、送丝轮和送丝咀,镀料丝缠绕于镀料丝卷盘上,镀料丝卷盘的输出端设置送丝轮,送丝咀安装于蒸发源水冷座上,镀料丝沿送丝轮输出后,通过送丝咀送入蒸发源水冷座中。4.根据权利要求1所述一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,所述离子处理室中设有冷阴极线性离子源,冷阴极线性离子源包括冷阴极离子源座、气体接咀、磁铁、阴极、阴极绝缘套、辅助阳极、阳极绝缘套和栅板组件;冷阴极离子源座为上部开口的箱体状结构,气体接咀贯穿于冷阴极离子源座的底部,位于气体接咀外周的冷阴极离子源座底面设有磁体,阴极设于气体接咀的上端,气体接咀与冷阴极离子源座的连接处设有阴极绝缘套,位于阴极上方的冷阴极离子源座内壁设有辅助阳极,辅助阳极与冷阴极离子源座的连接处设有阳极绝缘套;冷阴极离子源座顶部设有栅板组件。5.根据权利要求4所述一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,所述栅板组件包括栅板固定块、内栅孔板、外栅孔板、栅板压块和栅板压块绝...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱建明,
申请(专利权)人:肇庆市科润真空设备有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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