The invention discloses a preparation method of white light source, the method comprises the following steps: the substrate epitaxial laser structure; photolithography etching multi quantum well active region outside the area; depositing a layer of dielectric film, the mask opening window using grating lithography, dry etching multi quantum well layer by laser; beam forming holographic grating; on the epitaxial growth of P type waveguide layer, layer; lithography into single ridge waveguide; lithography point isolation region, depositing a dielectric film material, formed by ion implantation of high resistivity zone; surface sputtering of P electrode and the N electrode surface, realizing the electrode structure; the laser sintering in the heat sink and the substrate on the package to the shell; the red and yellow fluorescent powder mixed with silica gel and baking at a certain temperature in the curing of optical instruments; using laser excited fluorescence powder, then mixed into white light. The laser light source with high efficiency and long life can be prepared by using the method of the invention, and the color temperature and the color rendering index can be adjusted.
【技术实现步骤摘要】
一种白光光源的制备方法
本专利技术涉及白光光源的制备方法。
技术介绍
目前在半导体照明领域,白光光源一般由两种方式得到,一种是:采用发光二极管(蓝光、紫外)作为光源,在发光二极管上覆盖荧光粉材料。利用发光二极管辐射出来的光激发荧光粉,荧光粉产生的光与发光二极管的光进行混合,形成白光;另外一种是采用红、绿、蓝三色发光二极管直接混色形成白光。发光二极管形成的白光光源,虽然在发光效率、寿命以及维护等方面优于传统的照明光源(白炽灯、日光灯等),但是发光二极管也存在在大电流工作条件下功率衰退的现象,发光效率对散热工程的依赖较大。激光激发白光效率高,较发光二极管节能50%以上。目前激光白光主要以蓝光或紫外光激光器激发红、黄光荧光粉合成白光,另外一种方式是红色、蓝色以及绿色激光器三色混合白光。目前激光激发白光光源显色指数较低,色温不可调,这对于进一步发展激光白光照明是个瓶颈。因此本专利技术采用蓝光或紫外光激光器,结合波长可调的特性,激发荧光粉制备激光白光光源,实现色温可调。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足之处,本专利技术解决的问题为:提供一种波长可调的激光白光光源,实现白光色温以及显色指数可调的制备方法。为解决上述问题,本专利技术采取的技术方案如下:一种白光光源的制备方法,包括步骤如下:a、制备激光器芯片:a1、选取衬底,在衬底向上外延源区结构,源区结构从下而上依次设置n型氮化镓层、下波导层、下非掺杂氮化镓层、多量子阱层;a2、在多量子阱层表面溅射介质膜,掩膜光刻,利用干法刻蚀方法对多量子阱层进行刻蚀,使下非掺杂氮化镓层和多量子阱层形成台阶结构;a3、在下非掺杂氮化镓 ...
【技术保护点】
一种白光光源的制备方法,其特征在于,包括步骤如下:a、制备激光器芯片:a1、选取衬底(1),在衬底(1)向上外延源区结构,源区结构从下而上依次设置n型氮化镓层(2)、下波导层(3)、下非掺杂氮化镓层(4)、多量子阱层(5);a2、在多量子阱层(5)表面溅射介质膜(6),掩膜光刻,利用干法刻蚀方法对多量子阱层(5)进行刻蚀,使下非掺杂氮化镓层(4)和多量子阱层(5)形成台阶结构;a3、在下非掺杂氮化镓层(4)上掩膜光刻出光栅区窗口,在光栅区窗口利用激光全息曝光技术制备光栅区(7);a4、在下非掺杂氮化镓层(4)的光栅区(7)上外延覆盖铟镓氮层(8);a5、清洗多量子阱层(5)表面的介质膜(6),在铟镓氮层(8)上方依次外延上非掺杂氮化镓层(9)、上波导层(10)、p型氮化镓接触层(11);a6、在衬底(1)上方掩膜光刻出单脊条形结构,利用干法刻蚀法在单脊条形的上端形成高阻隔离区(12),高阻隔离区(12)为凹槽结构;溅射介质膜(13),腐蚀掉高阻隔离区(12)的介质膜(13),利用离子注入方法在高阻隔离区(12)形成高阻;在单脊条形上端高阻隔离区(12)的两侧开出p型电极窗口,在p型电极 ...
【技术特征摘要】
1.一种白光光源的制备方法,其特征在于,包括步骤如下:a、制备激光器芯片:a1、选取衬底(1),在衬底(1)向上外延源区结构,源区结构从下而上依次设置n型氮化镓层(2)、下波导层(3)、下非掺杂氮化镓层(4)、多量子阱层(5);a2、在多量子阱层(5)表面溅射介质膜(6),掩膜光刻,利用干法刻蚀方法对多量子阱层(5)进行刻蚀,使下非掺杂氮化镓层(4)和多量子阱层(5)形成台阶结构;a3、在下非掺杂氮化镓层(4)上掩膜光刻出光栅区窗口,在光栅区窗口利用激光全息曝光技术制备光栅区(7);a4、在下非掺杂氮化镓层(4)的光栅区(7)上外延覆盖铟镓氮层(8);a5、清洗多量子阱层(5)表面的介质膜(6),在铟镓氮层(8)上方依次外延上非掺杂氮化镓层(9)、上波导层(10)、p型氮化镓接触层(11);a6、在衬底(1)上方掩膜光刻出单脊条形结构,利用干法刻蚀法在单脊条形的上端形成高阻隔离区(12),高阻隔离区(12)为凹槽结构;溅射介质膜(13),腐蚀掉高阻隔离区(12)的介质膜(13),利用离子注入方法在高阻隔离区(12)形成高阻;在单脊条形上端高阻隔离区(12)的两侧开出p型电极窗口,在p型电极窗口上溅射p面电极;高阻隔离区(12)一侧为p面电极的有源区电极(14),另一侧为p面电极的波长调谐区电极(15);a7、从衬底(1)上加工出激光器芯片;对激光器芯片底部,即n型氮化镓层(2)底部溅射n面电极(16);沿着半导体晶体材料解理面对激光器芯片进行解理,制备出整个激光器芯片;b、将制备好的激光器芯片利用金属共晶焊技术置于高散热的基板(17)上,将基板(17)固定在激光器管壳上;c、将激光器发出的点光源通过光学仪器组件(18)进行扩散至面光源,然后激发荧光粉(19)形成白光,...
【专利技术属性】
技术研发人员:陆羽,张海成,
申请(专利权)人:江苏舒适照明有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。