水膜发生装置及显影机、清洗机制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种水膜发生装置，包括喷嘴，所述喷嘴包括基座、与基座可拆卸地连接的前盖，所述基座与前盖之间密封连接，所述基座的下端面上设有狭缝状的喷孔，在基座上设有进水孔，所述基座与前盖相对的一侧表面设有凹槽，凹槽与喷孔以及进水孔连通。本发明专利技术还提供了一种显影机以及清洗机，包括所述的水膜发生装置。本发明专利技术与现有技术相比，采用基座与可拆卸的前盖，两者密封连接并在基座的下端面设有狭缝状的喷孔，使得能够保持水膜完整性，可拆卸的结构实现了在堵塞时容易清理，喷孔为狭缝状加工成本低。

Water film generator and developing machine and cleaning machine

The invention provides a water membrane device comprises a nozzle, the nozzle includes a base, and the base is removably connected with the front cover, the base between the front cover and sealing connection, the orifice end of the base is provided with a slit shaped, the base is provided with a water inlet hole, the base with the front cover relative to the side surface is provided with a groove, groove and hole and hole communicated with the inlet. The invention also provides a developing machine and a cleaning machine, including the water film generating device. Compared with the prior art, the base and the removable front cover, the sealing connection and spray holes in the base of the end surface is provided with a slit, which can keep the water membrane integrity, dismountable structure realizes easy to clean in jams, jet holes are slit like low processing cost.

【技术实现步骤摘要】
水膜发生装置及显影机、清洗机
本专利技术涉及一种显示面板技术，特别是一种水膜发生装置及显影机、清洗机。
技术介绍
液晶面板行业发展越来越迅速，尤其在中小尺寸面板产业(如LCD(液晶显示器)/LTPS(低温多晶硅技术))，由于行业竞争愈加激烈，新技术、新工艺、新设备面临的挑战和创造显得尤为关键。现阶段湿法设备作为工艺制程中重要的环节，无论是能够满足生产中要求的特性值(CD)接近设计的水准，还是对产品品质(异物、Mura(斑马纹)等)的提升，是每个液晶面板工厂最为重视的。目前无论是清洗机还是显影机这类湿法设备，大体的设备结构都以定型，而且从成本角度出发，大多数细小的缺陷不会被作为采购中的一个指标，但是往往一些设备简单的设计可能无法真正应用到大的生产线中，制程未涂布前的表面是否有异物，怎样防止这些异物，或者制程后的湿膜怎样保证其膜面的完整性和良好的外观性等问题。LCD/LTPS中CF(彩色滤光片)工艺，其工艺生产中使用的主要湿法类设备清洗机和显影机。其中最广泛的湿法设备A/K单元(风刀干燥单元)前为了防止CDA(干净压缩气体)直接对玻璃或制程膜层造成损伤，会加装水膜发生装置，即水膜的喷嘴，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水膜发生装置，其特征在于：包括喷嘴(1)，所述喷嘴(1)包括基座(2)、与基座(2)可拆卸地连接的前盖(3)，所述基座(2)与前盖(3)之间密封连接，所述基座(2)的下端面上设有狭缝状的喷孔(4)，在基座(2)上设有进水孔(21)，所述基座(2)与前盖(3)相对的一侧表面设有凹槽(22)，凹槽(22)与喷孔(4)以及进水孔(21)连通。

【技术特征摘要】
1.一种水膜发生装置，其特征在于：包括喷嘴(1)，所述喷嘴(1)包括基座(2)、与基座(2)可拆卸地连接的前盖(3)，所述基座(2)与前盖(3)之间密封连接，所述基座(2)的下端面上设有狭缝状的喷孔(4)，在基座(2)上设有进水孔(21)，所述基座(2)与前盖(3)相对的一侧表面设有凹槽(22)，凹槽(22)与喷孔(4)以及进水孔(21)连通。2.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述基座(2)的高度小于前盖(3)的高度，基座(2)的上端面与前盖(3)的上端面对齐设置，所述前盖(3)的下端延伸至基座(2)的下端面外形成导向部(31)。3.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述凹槽(22)设有多个，进水孔(21)以及喷孔(4)均匀每个凹槽(22)连通。4.根据权利要求1所述的水膜发生装置，其特征在于：所述基座(2)与前盖(3)相对...

【专利技术属性】
技术研发人员：马海买提，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42