The present invention provides a bearing platform, comprising a plurality of movable thimble with a carrier, the carrier is arranged on the electromagnetic adsorption on the surface of the stage through the electromagnetic absorption way the thimble is fixed to the surface adsorption on the stage. The invention also provides a baking machine, including the loading platform. Compared with the prior art, the carrier has electromagnetic absorption, and can be arranged on the thimble of magnetic carrier, so as to meet the different product specifications, the thimble and the substrate contact position is not appear in the AA area, so as to avoid the formation of wave pattern in AA District, influence the quality of the products.
【技术实现步骤摘要】
承载台及烘烤机
本专利技术涉及一种显示技术,特别是一种承载台及烘烤机。
技术介绍
目前业内烘烤炉采用顶针(pin)支撑方式,顶针的位置固定或可调整位置固定,而由于越来越多的产品上会使用不同尺寸的显示面板,导致产品尺寸变化很快,由于顶针的位置固定或可调整位置,但是还是无法能够满足不同产品尺寸,导致顶针所在位置会出现在产品AA区(可视区域)内,由于顶针材质的热传导系数与空气存在差异,在顶针所在位置会造成与其接触的膜面固化不均匀,形成波纹(mura),影响产品品质。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本专利技术提供一种承载台及烘烤机,使得顶针能够在载台的任意位置进行固定,从而满足不同产品规格。本专利技术提供了一种承载台,包括一具有电磁吸附的载台、设于载台表面的可移动的多个顶针,所述载台通过电磁吸附的方式将顶针吸附固定于载台的表面上。进一步地,还包括校正装置,所述校正装置包括设于载台其中一侧上方外的第一激光投射器以及设于载台与第一激光投射器相邻一侧上方外的第二激光投射器,所述第一激光投射器和第二激光投射器的光束出射方向与载台的表面平行,且第一激光投射器的光束出射方向与第二激光投射器的光束出射方向垂直,所述第一激光投射器和第二激光投射器分别通过驱动机构驱动其行走。进一步地,所述第一激光投射器和第二激光投射器设于不同水平面上。进一步地,所述顶针上分别设有沿顶针的径向设置的第一通孔和第二通孔,所述第一通孔的轴线与第二通孔的轴线垂直,所述第一通孔到载台之间的距离与第一激光投射器的光束到载台之间的距离相等,从而使第一激光投射器的光束可穿过第一通孔,所述第二通孔到载台之间的距离 ...
【技术保护点】
一种承载台,其特征在于:包括一具有电磁吸附的载台(1)、设于载台(1)表面的可移动的多个顶针(2),所述载台(1)通过电磁吸附的方式将顶针(2)吸附固定于载台(1)的表面上。
【技术特征摘要】
1.一种承载台,其特征在于:包括一具有电磁吸附的载台(1)、设于载台(1)表面的可移动的多个顶针(2),所述载台(1)通过电磁吸附的方式将顶针(2)吸附固定于载台(1)的表面上。2.根据权利要求1所述的承载台,其特征在于:还包括校正装置(3),所述校正装置(3)包括设于载台(1)其中一侧上方外的第一激光投射器(31)以及设于载台(1)与第一激光投射器(31)相邻一侧上方外的第二激光投射器(32),所述第一激光投射器(31)和第二激光投射器(32)的光束出射方向与载台(1)的表面平行,且第一激光投射器(31)的光束出射方向与第二激光投射器(32)的光束出射方向垂直,所述第一激光投射器(31)和第二激光投射器(32)分别通过驱动机构(35)驱动其行走。3.根据权利要求2所述的承载台,其特征在于:所述第一激光投射器(31)和第二激光投射器(32)设于不同水平面上。4.根据权利要求3所述的承载台,其特征在于:所述顶针(2)上分别设有沿顶针(2)的径向设置的第一通孔(21)和第二通孔(22),所述第一通孔(21)的轴线与第二通孔(22)的轴线垂直,所...
【专利技术属性】
技术研发人员:李任鹏,米田公太郎,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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