The present invention provides an organic film preparation device, including vapor source and substrate to be plated, the evaporation source and substrate to be plated is arranged in the vacuum environment, the evaporation source includes evaporation materials, carbon nanotube structure and heating device, wherein the heating device comprises a first electrode and a two electrode, the first electrode and the two electrode are mutually separated and are respectively connected with the carbon nanotube film structure; or the heating device comprises an electromagnetic wave signal input device, the electromagnetic wave signal input device to input an electromagnetic wave signal to the carbon nanotube membrane structure; the carbon nanotube film structure as a carrier, the evaporation material is provided on the carbon nanotube film the surface structure, the carbon nanotube structure bearing, the substrate to be plated with the carbon nanotube film structure and relative interval set. The invention also relates to an organic film preparation method.
【技术实现步骤摘要】
有机薄膜制备装置和制备方法
本专利技术涉及一种有机薄膜制备装置和制备方法。
技术介绍
有机薄膜的制备方法主要有印刷,如油墨打印、激光打印和丝网印刷等。当薄膜的精度和均匀性要求较高时可以采用物理气相沉积的方式形成有机薄膜,即将有机薄膜的材料作为蒸发源进行气化,从而在待镀基底表面沉积形成一层薄膜。然而,薄膜的尺寸越大,成膜的均匀性越难保证,并且,由于难以控制气态蒸发材料分子的扩散运动方向,大部分蒸发材料都不能附着在待镀基底表面,从而造成效率低且成膜速度慢等问题。
技术实现思路
有鉴于此,确有必要提供一种能够解决上述问题的有机薄膜制备装置和制备方法。一种有机薄膜制备装置,包括蒸发源及待镀基底,该蒸发源及待镀基底设置在非真空环境中,该蒸发源包括蒸发材料、碳纳米管膜结构及加热装置,其中:该加热装置包括第一电极及第二电极,该第一电极及第二电极相互间隔并分别与该碳纳米管膜结构电连接;或者该加热装置包括电磁波信号输入装置,该电磁波信号输入装置能够向该碳纳米管膜结构输入一电磁波信号;该碳纳米管膜结构为一载体,该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面,通过该碳纳米管膜结构承载,该待镀基底与该碳纳米管膜结构相对且间隔设置。一种有机薄膜制备方法,包括以下步骤:提供如权利要求1所述的有机薄膜制备装置设置在非真空环境中;以及当该加热装置包括第一电极及第二电极时,通过该第一电极及第二电极向该碳纳米管膜结构中输入电信号,使该蒸发材料气化,在该待镀基底的待镀表面形成蒸镀层,或者当该加热装置包括电磁波信号输入装置时,通过该电磁波信号输入装置向该碳纳米管膜结构中输入电磁波信号,使该蒸发材料气化,在该待 ...
【技术保护点】
一种有机薄膜制备装置,包括蒸发源及待镀基底,该蒸发源及待镀基底设置在非真空环境中,该蒸发源包括蒸发材料,其特征在于,该蒸发源进一步包括碳纳米管膜结构及加热装置,其中:该加热装置包括第一电极及第二电极,该第一电极及第二电极相互间隔并分别与该碳纳米管膜结构电连接;或者该加热装置包括电磁波信号输入装置,该电磁波信号输入装置能够向该碳纳米管膜结构输入一电磁波信号;该碳纳米管膜结构为一载体,该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面,通过该碳纳米管膜结构承载,该待镀基底与该碳纳米管膜结构相对且间隔设置。
【技术特征摘要】
1.一种有机薄膜制备装置,包括蒸发源及待镀基底,该蒸发源及待镀基底设置在非真空环境中,该蒸发源包括蒸发材料,其特征在于,该蒸发源进一步包括碳纳米管膜结构及加热装置,其中:该加热装置包括第一电极及第二电极,该第一电极及第二电极相互间隔并分别与该碳纳米管膜结构电连接;或者该加热装置包括电磁波信号输入装置,该电磁波信号输入装置能够向该碳纳米管膜结构输入一电磁波信号;该碳纳米管膜结构为一载体,该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面,通过该碳纳米管膜结构承载,该待镀基底与该碳纳米管膜结构相对且间隔设置。2.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该非真空环境为保护性气体环境或开放环境,该保护性气体为惰性气体或氮气中的至少一种。3.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该碳纳米管膜结构在支撑结构之间悬空设置,该蒸发材料设置在悬空的碳纳米管膜结构表面。4.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该碳纳米管膜结构的单位面积热容小于2×10-4焦耳每平方厘米开尔文,比表面积大于200平方米每克。5.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该碳纳米管膜结构包括一个或相互层叠的多个碳纳米管膜,该碳纳米管膜包括多个通过范德华力首尾相连的碳纳米管。6.如权利要求4所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该碳纳米管膜中的碳纳米管基本平行于该碳纳米管膜表面,并沿同一方向延伸。7.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该蒸发源的厚度小于或等于100微米。8.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该蒸发材料包括有机发光材料、有机染料或有机油墨。9.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该蒸发材料包括按预定比例均匀混合的多种材料,担载在该碳纳米管膜结构各局部位置上的该多种材料之间均具有该预定比例。10.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该待镀基底与该蒸发源的碳纳米管膜结构等间隔设置,间距为1微米~10毫米。11.如权利要求1所述的有机薄膜制备装置,其特征在于,该待镀基...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏洋,范守善,
申请(专利权)人:清华大学,鸿富锦精密工业深圳有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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