含聚（3，4-二烷氧基噻吩）和聚阴离子复合物的水分散体及其制备方法技术

提供了一种用于生产导电膜的水分散体。所述水分散体含有聚（３，４－二烷氧基噻吩）和一种聚阴离子的复合物，其是在聚阴离子存在下在含水溶剂中将３，４－二烷氧基噻吩聚合而生产的，其中聚合反应使用过焦硫酸作为氧化剂或者使用一种氧化剂和用于降低反应混合物的ｐＨ的酸。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
含聚(3，4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子复合物的水分散体及其制备方法
本专利技术涉及含有聚(3，4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子复合物的水分散体及其制备方法。本专利技术也涉及含有该水分散体的涂料组合物和含有一层透明导电膜的基材，所述透明导电膜是通过将所述涂料组合物涂布在基材表面上获得的。
技术介绍
透明导电膜用于涂布液晶显示屏、电致发光显示屏、等离子体显示屏、电致变色显示屏、太阳能电池、触摸屏等的透明电极，并用于涂布那些由电磁屏蔽材料制造的基材。使用最广泛的透明导电膜是使用蒸汽沉积方法获得的掺杂铟的氧化锡(即ITO)膜。但是，由蒸汽沉积方法所形成的ITO膜存在一些问题，例如成膜需要高温并且成本高。ITO膜可以通过涂布方法形成。但是，用这种方法成膜需要高温，膜的导电性取决于ITO的分散程度，并且膜的浊度值并不是总是很低。另外，对于无机氧化物膜如ITO膜，弯曲基材往往会产生裂纹，因此降低了导电性。另一方面，有人提出使用由可以在低温下制备并且制备成本低的导电聚合物制造的透明导电膜作为有机材料制成的透明导电膜。对于可以用于制备这种透明导电膜的导电聚合物，日本公开专利No.JP2636968公开了本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种水分散体的生产方法，所述水分散体含有聚（３，４－亚乙二氧基噻吩）和一种聚阴离子的复合物，该方法包括：将由分子式（１）表示的３，４－二烷氧基噻吩聚合：＊＊＊（１）其中Ｒ↑［１］和Ｒ↑［２］独立为氢或Ｃ↓［１－４］烷基， 或者共同形成一个可以任选被取代的Ｃ↓［１－４］亚烷基，其中聚合反应是在聚阴离子存在下通过使用过焦硫酸作为氧化剂在含水溶剂中进行的。

【技术特征摘要】
JP 2002-7-26 217571/021.一种水分散体的生产方法，所述水分散体含有聚(3，4-亚乙二氧基噻吩)和一种聚阴离子的复合物，该方法包括：将由分于式(1)表示的3，4-二烷氧基噻吩聚合：其中R1和R2独立为氢或C1-4烷基，或者共同形成一个可以任选被取代的C1-4亚烷基，其中聚合反应是在聚阴离子存在下通过使用过焦硫酸作为氧化剂在含水溶剂中进行的。2.一种水分散体的生产方法，所述水分散体含有聚(3，4-二烷氧基噻吩)和一种聚阴离子的复合物，该方法包括：将由分子式(1)表示的3，4-二烷氧基噻吩化学氧化聚合： 其中R1和R2独立为氢或C1-4烷基，或者共同形成一个可以任选被取代的C1-4亚烷基，其中聚合反应是在聚阴离子存在下通过使用氧化剂在含水溶剂中进行的，其中加入一种选自水溶性无机酸和水溶性有机酸的酯，用于降低所得反应混合物的PH。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：S柯希迈尔，K武索，T霍索米，Y基库萨，
申请(专利权)人：HC施塔克股份有限公司，长濑产业株式会社，长濑化成株式会社，
类型：发明
国别省市：DE[德国]