含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法，所述含钼金属膜的蚀刻液组合物以一定含量包含过氧化氢、氟化合物、唑系化合物、羟胺衍生物、和水。

Etching liquid composition containing molybdenum metal film and manufacturing method of array substrate for display device using the same

The present invention provides an etchant composition of a molybdenum metal film and the manufacturing method of a display device array substrate, an etchant composition of the molybdenum containing metal film with certain content containing hydrogen peroxide, fluorine compounds, azole compounds, hydroxylamine derivatives, and water.

【技术实现步骤摘要】
含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法
本专利技术涉及含钼(Mo)金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法。
技术介绍
随着真正步入信息化时代，处理及显示大量信息的显示器领域实现了快速发展，得益于此，各种各样的平板显示器得到开发并受到关注。作为这样的平板显示装置的例子，可举出液晶显示装置(LiquidCrystalDisplaydevice：LCD)、等离子体显示装置(PlasmaDisplayPaneldevice：PDP)、场发射显示装置(FieldEmissionDisplaydevice：FED)、有机发光元件(OrganicLightEmittingDiodes：OLED)等。作为一例，液晶显示装置因如下特性而受到关注：提供由卓越的分辨率形成的鲜明的影像，耗电少，可较薄地制造显示器画面。TFT-LCD等显示装置的像素电极中使用钼合金膜及金属氧化物膜的单层膜、或钼合金膜与金属氧化物膜的多层膜等。上述像素电极经由如下一系列光刻(lithography)工序而完成：一般通过溅射等方法层叠于基板上，并在其上均匀地涂布光致抗蚀剂。之后，通过刻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物总重量，包含：(A)过氧化氢5～30重量％、(B)氟化合物0.1～2重量％、(C)唑系化合物0.1～1重量％、(D)羟胺衍生物0.1～5重量％、和(E)余量的水。

【技术特征摘要】
2016.03.30 KR 10-2016-00382311.一种含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物总重量，包含：(A)过氧化氢5～30重量％、(B)氟化合物0.1～2重量％、(C)唑系化合物0.1～1重量％、(D)羟胺衍生物0.1～5重量％、和(E)余量的水。2.根据权利要求1所述的含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，含钼金属膜的蚀刻液组合物能够蚀刻由钼或钼合金构成的单层膜，或者由上述单层膜和金属氧化物膜构成的多层膜。3.根据权利要求2所述的含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述金属氧化物膜是选自氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟锡锌和氧化铟镓锌中的一种以上。4.根据权利要求2所述的含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述由单层膜和金属氧化物膜构成的多层膜是氧化铟膜/钼、氧化铟膜/钼合金、氧化铟膜/钼/氧化铟膜、或氧化铟膜/钼合金/氧化铟膜。5.根据权利要求2所述的含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述钼合金包含钼以及选自钕、钽、铟、铜、钯、铌、镍、铬、镁、钨、镤和钛中的一种以上...

【专利技术属性】
技术研发人员：金镇成，金炼卓，梁圭亨，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR