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本发明提供一种含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法，所述含钼金属膜的蚀刻液组合物以一定含量包含过氧化氢、氟化合物、唑系化合物、羟胺衍生物、和水。...
该专利属于东友精细化工有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东友精细化工有限公司授权不得商用。

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