一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置及清理方法制造方法及图纸

技术编号:16447492 阅读:72 留言:1更新日期:2017-10-25 12:35
本发明专利技术公开了一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置及清理方法,其中沉积腔体装置包括沉积腔体和气泡水平仪,沉积腔体由顶板、底板、门板、后面板、左面板、右面板围成,门板、后面板、左面板和右面板均采用双层结构,均包括内层板和外层板,任一个内层板上均匀排布有若干个用于与吹扫气体管路接通的吹扫气体出气孔,气泡水平仪均布设置在顶板的四周,任意相邻的两个气泡水平仪之间设有吹扫气体进气孔。本发明专利技术,可以在密闭的环境下自动进行清洁工作,避免了疏松体粉尘在清扫过程中四处飘散至空气中,保障了生产操作人员的健康,使用了气泡水平仪,方便生产操作人员及时观察、判定沉积腔体的位置状况,并做相应的调整,确保了生产的长期稳定性。

Deposition cavity device and cleaning method for preparing optical fiber preform by VAD

The invention discloses a method for preparation of VAD deposition chamber apparatus and cleaning method of optical fiber preform, wherein the deposition cavity apparatus includes a deposition cavity and bubble level, the deposition cavity is composed of a roof and floor, door panel, a rear panel, a left panel and a right panel enclosed, door panels, rear panel, the left panel and the right panel the double deck includes inner plate and the outer plate, an inner plate is evenly distributed with a plurality of purge gas pipelines are communicated and used to purge gas vents, air bubble level are uniformly arranged on the roof around the purge gas inlet is arranged between two arbitrary adjacent bubble level. The invention can automatically carry out cleaning work in a closed environment, avoid the loose body in the process of cleaning dust scattered into the air, to ensure the production of the health of the operating personnel, the use of the bubble level, the position of the operator to facilitate the production of timely observation and Identifying Sedimentary cavities, and make corresponding adjustment. To ensure the long-term stability of production.

【技术实现步骤摘要】
一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置及清理方法
本专利技术涉及光纤预制棒制造领域,具体涉及一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置及清理方法。
技术介绍
目前全球生产光纤预制棒的方法有十多种,能制作出优质光纤的制棒方法主要有以下四种工艺:PCVD、MCVD、VAD和OVD,而其中又以VAD法和OVD法是目前比较主流的制备光纤预制棒疏松体工艺。VAD法和OVD法制备光纤预制棒疏松体的设备主要由沉积腔体、原料控制柜、喷灯、提升系统装置和抽风装置等部分组成。其中沉积腔体在预制棒疏松体沉积工艺过程中起着非常重要的作用,其保证了预制棒疏松体在沉积过程中不受外界环境的干扰以及安全防护的需要。具有以下特点:(1)隔离性。金属杂质进入预制棒疏松体,会造成生产的预制棒拉丝后光纤衰减增大;有机杂质颗粒进入预制棒疏松体,会影响预制棒疏松体在烧结、拉伸过程中形成气泡或污染,因此预制棒疏松体在沉积工艺过程中,必须防止金属离子、杂质颗粒等掉落或进入预制棒疏松体,沉积腔体装置将沉积环境与外界环境隔离有效,确保了预制棒疏松体在沉积过程中处于干净的工艺环境。(2)稳定性。预制棒疏松体在沉积工艺过程中,为了控制整个生产过程安全、稳定的进行,需要在沉积腔体装置上配套并固定很多相关的部件。因此沉积腔体装置的稳定性,可以确保安装在其上的各部件稳定、位置不偏移,保证沉积过程可以顺利进行。在预制棒疏松体的实际生产过程中,会形成大量的、极细小的二氧化硅粉尘微粒。一方面由于自身的布朗运动,另一方面在高温下会产生热泳效应,这些粉尘微粒最终会随着腔体内部的气体流动,粘附在沉积腔体四周的内壁上团聚成粉尘颗粒或粉尘块,导致沉积腔体内壁被污染。因此在进行预制棒疏松体的生产过程前,必须对沉积腔体进行仔细的清洁工作。目前清洁沉积腔体主要方式是由生产人员使用吸尘器进行操作,在沉积腔体的清洁工作过程中存在如下影响:1)沉积腔体装置的清洁工作,需要生产操作人员仔细、认真的清洁腔体的各个部位,操作时间相对较长,另外使用的吸尘器也需要定期进行清洁,影响工时。2)沉积腔体装置的清洁工作,会因操作人员的不同而产生沉积腔体清洁程度的不同。未清理干净的疏松体粉尘颗粒、粉尘块可能会在下一次的沉积过程中,进入预制棒疏松体,造成预制棒疏松体断裂或者影响预制棒疏松体在烧结、拉伸过程中形成气泡或污染。3)进行沉积腔体装置的清洁,则沉积腔体必须处于敞开状态以便于生产人员清洁工作的开展,而沉积腔体上的疏松体粉尘,在清扫过程中会四处飘散,漂浮、逃逸至空气中,造成环境粉尘污染,进而对车间工作人员造成很大的健康危害。另外一方面,由于生产车间的震动,或者其他设备在移动过程中对沉积腔体装置的意外碰撞等其他原因,长期以往都可能会产生沉积腔体装置的移动,这对预制棒疏松体的稳定生产造成了一定的影响。因此,现有的沉积腔体装置存在清洁工作难以开展,清扫过程中疏松体粉尘会飘散到空中造成环境污染、危害工作人员健康的问题。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是现有的沉积腔体装置存在清洁工作难以开展,清扫过程中疏松体粉尘会飘散到空中造成环境污染、危害工作人员健康的问题。为了解决上述技术问题,本专利技术所采用的技术方案是提供一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,包括沉积腔体和设置在所述沉积腔体上端的气泡水平仪,所述沉积腔体由顶板、底板、门板、后面板、左面板、右面板围成,所述门板、后面板、左面板和右面板均采用双层结构,均包括内层板和外层板,任意一个所述内层板上均匀排布有若干个用于与吹扫气体管路接通的吹扫气体出气孔,所述气泡水平仪均布设置在所述顶板的四周,任意相邻的两个所述气泡水平仪之间设有一个吹扫气体进气孔。在上述方案中,所述吹扫气体出气孔在所述门板、后面板、左面板和右面板上均呈横向排与纵向排的阵列分布,且相邻的所述横向排之间错开分布。在上述方案中,所述横向排中相邻两所述吹扫气体出气孔的间距小于所述纵向排中相邻两所述吹扫气体出气孔的间距。在上述方案中,所述顶板的中部开有补风进孔,所述补风进孔的尺寸大于所述吹扫气体进气孔的尺寸。在上述方案中,所述吹扫气体进气孔的直径为10~15mm,所述吹扫气体进气孔处的吹扫气体压力为2~5bar。在上述方案中,所述内层板和所述外层板之间的距离为30~45mm。本专利技术还提供了一种对上述沉积腔体装置清理的方法,包括以下步骤:生产结束后,打开沉积腔体的门板,将喷灯保护罩放置于喷灯上,取出光纤预制棒;将门板关闭,并将沉积腔体内的提拉杆降至工作最低限位并保持低速旋转状态,打开吹扫气体,确保内层板上的吹扫气体清洁范围覆盖整个提拉杆;增大抽风管的抽风压力,确保吹扫气体清洁出的粉尘瞬间被抽走,打开吹扫气体进气孔,按照设定吹扫程序对沉积腔体持续吹扫一段时间,完成沉积腔体的清扫过程,最后检查各个气泡水平仪的气泡位置无异常,则证明可以正常进行光纤预制棒的生产。在上述方案中,打开吹扫气体进气孔后,持续吹扫的时间为8~10秒。本专利技术,使得沉积腔体装置的清洁工作无需生产人员直接参与,可以在密闭的环境下自动进行清洁工作,避免了疏松体粉尘在清扫过程中四处飘散,漂浮、逃逸至空气中,造成环境粉尘污染,极大的保障了生产操作人员的健康,使用了气泡水平仪装置,可以方便生产操作人员及时观察、判定沉积腔体装置的位置状况,并根据判定结果做出相应的调整,确保了生产的长期稳定性。附图说明图1为本专利技术中沉积腔体装置的结构示意图;图2为本专利技术中沉积腔体装置打开门板后的内部结构示意图;图3为本专利技术中沉积腔体装置处于清扫状态时的正视图;图4为本专利技术中沉积腔体装置处于清扫状态时的俯视图;图5是本专利技术新型沉积腔体装置吹扫管路面剖面俯视图;图6是本专利技术新型沉积腔体装置吹扫管路面剖面侧视图;图7是本专利技术新型沉积腔体装置吹扫管路面剖面正视图。具体实施方式下面结合说明书附图对本专利技术做出详细的说明。如图1~图3所示,本专利技术提供了一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,包括沉积腔体1和设置在沉积腔体1上端的气泡水平仪2,沉积腔体1由顶板12、底板15、门板11、后面板16、左面板14和右面板13围成,形成封闭的腔体结构,其中门板11能够实现打开和关闭的功能。门板11、后面板16、左面板14和右面板13均采用双层结构,均包括内层板112和外层板111,内层板112和外层板111之间的距离为30~45mm,这种双层的结构增加了沉积腔体1的稳定性,确保安装在其上的各部件稳定、位置不偏移,保证沉积过程可以顺利进行。沉积腔体1的外形尺寸与所生产的光纤预制棒的尺寸匹配。沉积腔体1内的中空部分用于放置吹扫气体管路5,吹扫气体管路5与沉积腔体1的内层板112相连接,连接处均作开口处理,即任意一个内层板112上均匀排布有若干个用于与吹扫气体管路5接通的吹扫气体出气孔3,吹扫气体出气孔3的外径尺寸3~15mm。结合图5、图6和图7,吹扫气体管路5为斜角设计,用于吹扫其相邻面中的一面。斜角设计包括水平方向斜角和竖直方向斜角,其中水平方向进行斜角,用于保证吹扫气体工作范围覆盖整个沉积腔体1与提拉杆4,水平斜角角度0~45°,垂直方向进行斜角,用于防止粉尘颗粒因为布朗运动与热泳效应进入吹扫气体管路5而造成吹扫气体管路5堵塞,垂直方面斜角角度0~30°。吹扫气体出气孔3在本文档来自技高网
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一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置及清理方法

【技术保护点】
一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,其特征在于,包括沉积腔体和设置在所述沉积腔体上端的气泡水平仪,所述沉积腔体由顶板、底板、门板、后面板、左面板、右面板围成,所述门板、后面板、左面板和右面板均采用双层结构,均包括内层板和外层板,任意一个所述内层板上均匀排布有若干个用于与吹扫气体管路接通的吹扫气体出气孔,所述气泡水平仪均布设置在所述顶板的四周,任意相邻的两个所述气泡水平仪之间设有一个吹扫气体进气孔。

【技术特征摘要】
1.一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,其特征在于,包括沉积腔体和设置在所述沉积腔体上端的气泡水平仪,所述沉积腔体由顶板、底板、门板、后面板、左面板、右面板围成,所述门板、后面板、左面板和右面板均采用双层结构,均包括内层板和外层板,任意一个所述内层板上均匀排布有若干个用于与吹扫气体管路接通的吹扫气体出气孔,所述气泡水平仪均布设置在所述顶板的四周,任意相邻的两个所述气泡水平仪之间设有一个吹扫气体进气孔。2.如权利要求1所述的一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,其特征在于,所述吹扫气体出气孔在所述门板、后面板、左面板和右面板上均呈横向排与纵向排的阵列分布,且相邻的所述横向排之间错开分布。3.如权利要求2所述的一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,其特征在于,所述横向排中相邻两所述吹扫气体出气孔的间距小于所述纵向排中相邻两所述吹扫气体出气孔的间距。4.如权利要求1所述的一种用于VAD制备光纤预制棒的沉积腔体装置,其特征在于,所述顶板的中部开有补风进孔,所述补风进孔的尺寸大于...

【专利技术属性】
技术研发人员:周涛
申请(专利权)人:烽火通信科技股份有限公司锐光信通科技有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

网友询问留言 已有1条评论
  • 来自[越南] 2017年12月30日 09:18
    缺陷是清理不干净
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