具有减少的氢敏感性的光纤制造技术

本公开涉及制备具有改善的弯曲性能的光纤，该光纤具有芯体和至少一个包覆层，且至少一个包覆层的最后一层中的氯含量是大于500ppm以重量计。在至少一个包覆层的最后一层或最外面层的烧结过程中，使用载体气体、气态氯来源材料和气态还原剂的混合物来制备纤维。将还原剂包括进入载体气体和气态氯材料的混合物减少富氧缺陷，其导致在氢老化测试中TTP下降至少20％。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有减少的氢敏感性的光纤本申请根据35U.S.C.§119要求2014年07月09日提交的美国临时申请系列第62/022,305号的优先权，本文以该申请的内容为基础并通过参考将其完整地结合于此。领域本公开涉及在包覆中具有高浓度氯和低浓度非桥接氧缺陷的光纤，以及用于制备这种纤维的方法。所述方法包括在还原剂存在下，烧结具有多孔氯-掺杂的包覆层的预制件。背景在纤维使用环境中，光波导和纤维的性质可对氢或含氢气体的存在较敏感。这种氢敏感性可导致在关注(例如，在通讯窗口中)的某些波长下的光衰减增加。衰减的增加归因于例如SiOH和GeOH基团的化学基团，其吸收在通讯感兴趣的波长下的光。氢敏感性来自当将纤维或波导暴露于氢时，光纤或光波导玻璃中的非桥接氧缺陷(或孔)中心转化成SiOH或GeOH基团。为了降低氢敏感性，可用氘处理或化学退火光纤。通过形成SiOD和GeOD基团，氘与非桥接氧缺陷中心反应来钝化非桥接氧缺陷。SiOD和GeOD基团在氢存在下是稳定的，且吸收在通讯窗口以外的波长。但是，钝化非桥接氧键所必需的氘处理时间较长，且在光纤生产中是没有优势的。因此，本领域需要将氘处理所需的时间降低到更可行的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备光纤的方法，所述方法包括下述步骤：提供预制件，所述预制件具有固结的玻璃芯体和第一多孔玻璃包覆层；在第一温度下，将所述预制件暴露于第一气体气氛,所述第一气体气氛包含氯来源材料,所述氯来源材料提供用于掺杂所述第一多孔玻璃包覆层的氯；在第二温度下，将预制件暴露于第二气体气氛；第二气体气氛包含还原剂；以及在第三温度下，在存在第二气体气氛时，加热预制件；加热导致烧结所述第一多孔玻璃包覆层,烧结的第一多孔玻璃包覆层具有至少500ppm以重量计的氯掺杂剂浓度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.09 US 62/022,3051.一种制备光纤的方法，所述方法包括下述步骤：提供预制件，所述预制件具有固结的玻璃芯体和第一多孔玻璃包覆层；在第一温度下，将所述预制件暴露于第一气体气氛,所述第一气体气氛包含氯来源材料,所述氯来源材料提供用于掺杂所述第一多孔玻璃包覆层的氯；在第二温度下，将预制件暴露于第二气体气氛；第二气体气氛包含还原剂；以及在第三温度下，在存在第二气体气氛时，加热预制件；加热导致烧结所述第一多孔玻璃包覆层,烧结的第一多孔玻璃包覆层具有至少500ppm以重量计的氯掺杂剂浓度。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一温度是至少800℃,所述第二温度大于或等于所述第一温度,且所述第三温度大于或等于所述第二温度。3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一温度是至少1050℃。4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述第三温度是至少1300℃。5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述氯来源材料是Cl2,SiCl4,或CCl4。6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述还原剂是CO,CH3Cl,CH2Cl2,或CHCl3。7.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述氯来源材料包含Cl2，且所述还原剂包含CO。8.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二气体气氛还包含载体气体。9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述载体气体包含氦气。10.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二气体气氛不包含氯。11.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述还原剂是CO，所述第二气体气氛中的CO浓度是大于1000ppm以体积计。12.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述还原剂是CO，所述第二气体气氛中的CO浓度是大于3000ppm以体积计。13.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述还原剂是CO，所述第二气体气氛中的CO浓度是大于5000ppm以体积计。14.如前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述第二气体气氛包括第一气体气氛。15.如权利要求14所述的方法，其特征在于，在所述第二气体气氛中，所述还原剂和所述氯来源材料的体积比例是大于0.005。16.如权利要求14所述的方法，其特征在于，在所述第二气体气氛中，所述还原剂和所述氯来源材料的体积比例是大于0.010。17.如权利要求14所述的方法，其特征在于，在所述第二气体气氛中，所述还原剂和所述氯来源材料的体积比例是大于0.020。18.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述还原剂是CO，且单位为ppm以体积计的所述第二气体气氛中CO浓度与单位为ppm以重量计的所述烧结的第一多孔玻璃包覆层中的所述氯掺杂剂浓度的比例是大于0.5。19.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述还原剂是CO，且单位为ppm以体积计的所述第二气体气氛中C...

【专利技术属性】
技术研发人员：D·C·布克班德，R·B·德索尔齐，H·B·马修斯三世，P·坦登，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US