基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法，能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备：第1把持板(21)；第1爪部(21b)，被该第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面；第2把持板(22)，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部(22b)，被该第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；和把持部(23)，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式，使第1把持板以及第2把持板相对移动。

Substrate conveying device, substrate processing device and substrate processing method

The invention relates to a substrate conveying device, a substrate processing device and a substrate processing method, which can shorten the transportation time of the substrate. As the embodiment of the substrate conveying device function second conveying robot (14) includes a first holding plate (21); first feet (21b), by the first control board, control board first with respect to the surface on the substrate (W) with the outer peripheral surface of the contact surface is the control board; second (22), and the control board is set to first overlap; second jaw Department (22b), by the second control board, control board with first relative to the surface and the peripheral surface of the substrate is connected on the contact surface; and a holding part (23), to first claw and second claw portion in the peripheral direction and substrate surface intersect close to or separated, the first control board and control board second relative movement.

【技术实现步骤摘要】
基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法
本专利技术的实施方式涉及基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法。
技术介绍
基板处理装置是在半导体、液晶面板等的制造工序中，对晶片、液晶基板等的基板表面供给处理液(例如，抗蚀剂剥离液、漂洗(rinse)液、清洗液等)来对基板表面进行处理的装置。在该基板处理装置中，从均匀性、再现性的角度出发，采用了将基板在专用的处理室逐张进行处理的单张处理方式。另外，为了实现基板输送系统的共用化，基板被收纳于共用的专用箱(例如FOUP等)而进行输送。在该专用箱中，基板以规定间隔层叠而被收纳。在基板处理装置中，使用输送机器人等基板输送装置，从专用箱取出基板并输送至处理室，然后，处理完毕的基板被收纳于专用箱。此时，基板处理的种类并不限定于一个种类，也存在多种处理工序(例如，抗蚀剂剥离工序、漂洗工序、清洗工序等)在每个种类的专用的处理室中进行、之后基板被返回到专用箱的情况。基板输送装置在专用箱、处理室、以及它们的中途的缓冲器(buffer)等中，进行将处理完毕的基板与未处理的基板交换的动作。在进行基板交换的情况下，使处理完毕的基板用和未处理的基板用的两个手部用两个臂交替地移动来进行。因此，在一次的基板交换时，两个手部被交替使用，手部的出入被进行两次。因此，不能高效地进行基板输送，基板输送时间变长。这会使基板处理装置的生产率降低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的课题在于，提供能够缩短基板输送时间的基板输送装置、基板处理装置以及基板处理方法。实施方式涉及的基板输送装置具备：第1把持板；第1爪部，被第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面，在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；第2把持板，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部，被第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面，在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；以及把持部，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或远离的方式，使第1把持板以及第2把持板相对移动。实施方式涉及的基板处理装置具备：收纳部，将多个基板以规定间隔层叠来进行收纳；前述的实施方式涉及的基板输送装置；以及基板处理部，对基板进行处理。实施方式涉及的基板处理方法具有如下工序，即：使用前述的实施方式涉及的基板输送装置，从将多个基板以规定间隔层叠来进行收纳的收纳部取出第1基板的工序；对从收纳部取出的第1基板进行处理的工序；使用基板输送装置将进行了处理的第1基板收纳于收纳部的工序；使用基板输送装置，从收纳部取出位于被收纳于收纳部的第1基板的上方或者下方的第2基板的工序；对从收纳部取出的第2基板进行处理的工序；以及使用基板输送装置将进行了处理的第2基板收纳于收纳部的工序。根据前述的实施方式涉及的基板输送装置、基板处理装置或者基板处理方法，能够缩短基板输送时间。附图说明图1是表示第1实施方式涉及的基板处理装置的概略结构的俯视图。图2是表示第1实施方式涉及的输送机器人的立体图。图3是表示第1实施方式涉及的输送机器人的一部分的立体图。图4是将第1实施方式涉及的输送机器人的一部分分解表示的立体图。图5是表示第1实施方式涉及的第1爪部的立体图。图6是表示第1实施方式涉及的第2爪部的立体图。图7是用于对第1实施方式涉及的输送机器人的第1输送动作(针对缓冲器单元的输送动作)的流程进行说明的第1说明图。图8是用于对前述的第1输送动作的流程进行说明的第2说明图。图9是用于对前述的第1输送动作的流程进行说明的第3说明图。图10是用于对前述的第1输送动作的流程进行说明的第4说明图。图11是用于对前述的第1输送动作的流程进行说明的第5说明图。图12是用于对前述的第1输送动作的流程进行说明的第6说明图。图13是表示第2实施方式涉及的基板处理装置的基板保持部的立体图。图14是用于对第2实施方式涉及的输送机器人的第2输送动作(针对处理室的输送动作)的流程进行说明的第1说明图。图15是用于对前述的第2输送动作的流程进行说明的第2说明图。图16是用于对前述的第2输送动作的流程进行说明的第3说明图。图17是用于对前述的第2输送动作的流程进行说明的第4说明图。图18是用于对前述的第2输送动作的流程进行说明的第5说明图。图19是用于对前述的第2输送动作的流程进行说明的第6说明图。具体实施方式＜第1实施方式＞参照图1至图12对第1实施方式进行说明。(基本构成)如图1所示，第1实施方式涉及的基板处理装置10具备多个开闭单元(收纳部)11、第1输送机器人(基板输送装置)12、缓冲器单元(收纳部)13、第2输送机器人(基板输送装置)14、多个基板处理部15、以及装置附带单元16。各开闭单元11被设置成排列成一列。这些开闭单元11使作为输送容器发挥功能的专用箱(例如FOUP)的门开闭。另外，在专用箱是FOUP的情况下，开闭单元11被称为FOUP开启部(opener)。在该专用箱中，基板W以规定间隔层叠而被收纳。第1输送机器人12以沿着各开闭单元11排列的第1输送方向移动的方式被设置在各开闭单元11的列的旁边。该第1输送机器人12从通过开闭单元11打开了门的专用箱取出未处理的基板W。然后，第1输送机器人12根据需要沿第1输送方向移动至缓冲器单元13附近而停止。然后，第1输送机器人12在停止场所旋转来将未处理的基板W送入缓冲器单元13。另外，第1输送机器人12从缓冲器单元13取出处理完毕的基板W，根据需要沿第1输送方向移动至所希望的开闭单元11附近而停止。然后，第1输送机器人12在停止场所旋转来将处理完毕的基板W送入所希望的专用箱。此外，也存在第1输送机器人12不移动地旋转，将未处理的基板W送入缓冲器单元13，或者将处理完毕的基板W送入所希望的专用箱的情况。作为第1输送机器人12，例如能够采用具有机械臂、机械手、移动机构等的机器人。缓冲器单元13位于第1输送机器人12移动的第1机器人移动通路的中央附近，被设置在该第1机器人移动通路的一侧、即与各开闭单元11相反的一侧。该缓冲器单元13作为用于在第1输送机器人12与第2输送机器人14之间进行基板W的交换的缓冲台(基板受让台)发挥功能。在该缓冲器单元13中，基板W以规定间隔层叠而被收纳。第2输送机器人14被设置成从缓冲器单元13附近向与前述的第1输送方向正交的第2输送方向(与第1输送方向交叉的方向的一个例子)移动。该第2输送机器人14从缓冲器单元13取出未处理的基板W，根据需要沿着第2输送方向移动至所希望的基板处理部15附近而停止。然后，第2输送机器人14在停止场所旋转来将未处理的基板W送入所希望的基板处理部15。另外，第2输送机器人14从基板处理部15取出处理完毕的基板W，根据需要沿第2输送方向移动至缓冲器单元13附近而停止。然后，第2输送机器人14在停止场所旋转来将处理完毕的基板W送入缓冲器单元13。此外，也存在第2输送机器人14不移动地旋转，将未处理的基板W送入所希望的基板处理部15，或者将处理完毕的基板W送入缓冲器单元13的情况。作为第2输送机器人14，例如能够使用具有机械臂、机械手、移动机构等的机器人(详细情况将后述)。基板处理部15在第2输送机器人14移动的第2机器人移动通路的两侧例如各设有4个。基板处理部15具有处理室15a、基板保持部15b、第1处理液供给部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板输送装置，其特征在于，具备：第1把持板；第1爪部，被上述第1把持板支撑，相对于上述第1把持板的表面，在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；第2把持板，被设置成与上述第1把持板重叠；第2爪部，被上述第2把持板支撑，相对于上述第1把持板的表面，在上下具有与上述基板的外周面抵接的抵接面；以及把持部，以使上述第1爪部以及上述第2爪部在与上述基板的外周面相交的方向上接近或远离的方式，使上述第1把持板以及上述第2把持板相对移动。

【技术特征摘要】
2016.03.31 JP 2016-0730921.一种基板输送装置，其特征在于，具备：第1把持板；第1爪部，被上述第1把持板支撑，相对于上述第1把持板的表面，在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；第2把持板，被设置成与上述第1把持板重叠；第2爪部，被上述第2把持板支撑，相对于上述第1把持板的表面，在上下具有与上述基板的外周面抵接的抵接面；以及把持部，以使上述第1爪部以及上述第2爪部在与上述基板的外周面相交的方向上接近或远离的方式，使上述第1把持板以及上述第2把持板相对移动。2.根据权利要求1所述的基板输送装置，其特征在于，上述第1爪部具有：上爪，被设置在上述第1把持板的上表面，并具有上述抵接面；和下爪，被设置在上述第1把持板的下表面，并具有上述抵接面。3.根据权利要求1或者权利要求2所述的基板输送装置，其特征在于，还具备：升降部，使上述把持部升降；以及控制部，使上述升降部执行上述把持部的上升或者下降，使上述把持部执行上述第1把持板以及上述第2把持板的相对移动，以使上述第1爪部以及上述第2爪部从对以规定间隔层叠的多个基板中的第1基板进行把持的第1高度位置，定位到对位于上述第1基板的上方或者下方的第2基板进行把持的第2高度位置。4.根据权利要求3所述的基板输送装置，其特征在于，还具备使上述把持部沿水平方向移动的臂部，上述控制部，控制上述臂部以使上述把持部移动到载置上述基板的第1位置；使移动至上述第1位置的上述把持部向上述第1爪部以及上述第2爪部远离的方向执行上述第1把持板以及上述第2把持板的相对移动；控制上述升降部，以便不改变上述第1把持板以及上述第2把持板的水平位置地使上述把持部移动至位于上述第1位置的下方的第2位置；使移动至上述第2位置的上述把持部向上述第1爪部以及上述第2爪部接近的方向执行上述第1把持板以及上述第2把持板的相对移动。5.一种基板处理装置，其特征在于，具备：收纳部，将多个基板以规定间隔层叠来进行收纳；基板输送装置，输送上述基板；以及基板处理部，对上述基板进行处理，上述基板输送装置具有：第1把持板；第1爪部，被上述第1把持板支撑，相对于上述第1把持板的表面，在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；第2把持板，被设置成与上述第1把持板重叠；第2爪部，被上述第2把持板支撑，相对于上述第1把持板的表面，在上下具有与上述基板的外周面抵接的抵接面；以及把持部，以使上述第1爪部以及上述第2爪部在与上述基板的外周面相交的方向上接近或远离的方式，使上述第1把持板以及上述第2把持板相对移动。6.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：古矢正明，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP