一种不积水的抛光头制造技术

本发明专利技术公开了一种不积水的抛光头，所述抛光头包括：夹片组件；盖体，盖体可移动地安装在夹片组件上且与夹片组件之间限定出容纳腔；基体，基体可上下移动地安装在夹片组件上且位于容纳腔内，基体与盖体紧密相连；膜片，膜片分别与夹片组件和基体相连，且限定出密闭的腔室。根据本发明专利技术实施例的不积水的抛光头，盖体与基体的顶部之间无间隙，防止抛光液进入抛光头内部，这样在夹片组件与基体的相对运动下不会由抛光头内部挤出抛光液，不会影响抛光工艺和抛光效果。

A kind of polishing head without water

The invention discloses a water polishing head and the polishing head comprises a clip assembly; a cover body, a cover body is movably mounted in between the wafer module and clip assembly defines a containing cavity; the matrix, the matrix can be moved up and down installed in the clip component and positioned on hold inside the substrate and the cover body is closely connected with the diaphragm, diaphragm; are respectively connected with the clip component and the substrate and defining a sealed chamber. According to an embodiment of the present invention is not water polishing head, the gap between the top cover and the base, to prevent the polishing liquid into the polishing head, so as not to the polishing head internal extrusion polishing liquid in the relative motion clip component and the substrate, will not affect the polishing process and polishing effect.

【技术实现步骤摘要】
一种不积水的抛光头
本专利技术涉及一种化学机械抛光设备
，更具体地，涉及一种不积水的抛光头。
技术介绍
相关技术中的抛光设备的盖体与夹片组件外侧之间密封，盖体与基体之间具有间隙，抛光液会从盖体与基体之间的间隙进入抛光设备的内部，在抛光过程中，沉积在抛光设备内抛光液会向外溢出，进而影响抛光设备的基片的抛光效果。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种不积水的抛光头，所述抛光头可避免抛光液进入抛光头内部进而影响抛光效果。根据本专利技术实施例的不积水的抛光头包括：夹片组件；盖体，所述盖体可移动地安装在所述夹片组件上且与所述夹片组件之间限定出容纳腔；基体，所述基体可上下移动地安装在夹片组件上且位于所述容纳腔内，所述基体与所述盖体紧密相连；膜片，所述膜片分别与所述夹片组件和所述基体相连，且限定出密闭的腔室。根据本专利技术实施例的不积水的抛光头，通过将基体与盖体紧密接触，使得盖体与基体的顶部之间无间隙，防止抛光液进入抛光头内部，这样在夹片组件与基体的相对运动下不会由抛光头内部挤出抛光液，不会影响抛光工艺和抛光效果。根据本专利技术的一个实施例，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种不积水的抛光头，其特征在于，包括：夹片组件；盖体，所述盖体可移动地安装在所述夹片组件上且与所述夹片组件之间限定出容纳腔；基体，所述基体可上下移动地安装在夹片组件上且位于所述容纳腔内，所述基体与所述盖体紧密相连；膜片，所述膜片分别与所述夹片组件和所述基体相连，且限定出密闭的腔室。

【技术特征摘要】
1.一种不积水的抛光头，其特征在于，包括：夹片组件；盖体，所述盖体可移动地安装在所述夹片组件上且与所述夹片组件之间限定出容纳腔；基体，所述基体可上下移动地安装在夹片组件上且位于所述容纳腔内，所述基体与所述盖体紧密相连；膜片，所述膜片分别与所述夹片组件和所述基体相连，且限定出密闭的腔室。2.根据权利要求1所述的不积水的抛光头，其特征在于，所述基体与所述盖体的内顶壁面配合连接。3.根据权利要求2所述的不积水的抛光头，其特征在于，所述基体包括：中轴部，所述轴孔沿上下方向贯通所述中轴部，所述盖体的中心设有通孔，所述中轴部的上端穿过所述通孔；外环部，所述外环部围绕所述中轴部设置，所述外环部与所述盖体通过螺栓相连。4.根据权利要求1所述的不积水的抛光头，其特征在于，所述夹片组件的上表面设有第二凹槽和部分位于所述盖体内的压盖，所述盖体在上下移动时与所述压盖至少有一部分相重合。5.根据权利要求4所述的不积水的抛光...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵德文，路新春，陈祥玉，
申请(专利权)人：清华大学，天津华海清科机电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11