The utility model provides a sponge pad surface grinding precision electronic components for liquid crystal glass, glass disk, optical mask, silicon wafer level, CCD protection glass, a sponge pad, including a polishing layer; also includes a hot melt adhesive layer and a sponge layer, the sponge layer through the the hot melt adhesive layer is connected with the grinding layer, the sponge polishing pad with multilayer structure. The adhesive layer is arranged on the mounting surface of the sponge layer. The utility model has the advantages of: by increasing the sponge layer, the grinding layer with the abrasive surface deformation, so as to reach the surface, surface wave and other special-shaped surface, convex position synchronous grinding, reduce abnormal surface in grinding and polishing process, delamination problem that the mirror effect is poor.
【技术实现步骤摘要】
一种海绵研磨垫
本技术涉及一种液晶玻璃抛光打磨器材
,尤其是一种海绵研磨垫。
技术介绍
目前,研磨垫广泛运用于液晶玻璃、玻璃圆盘、光掩模、硅晶圆级、CCD保护玻璃等的电子部件用表面精密研磨。近年来,随精密研磨面的测定仪器的发展,用于对于品质的要求变高,使得研磨精度要求越来越高。现有研磨垫在对于液晶玻璃时,现有研磨垫对于曲面凹陷处或精度要求高的液晶玻璃无法进行研磨,导致凹面处研磨强度明显小于凸起部位,因此造成凹陷处镜面效果差。为解决上述技术问题,本领域人员通常采用改变研磨垫角度,从而将凹陷处进行单独研磨。但是上述方式增加曲面玻璃研磨工序,且曲面玻璃各处易出现分层效果。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种海绵研磨垫,解决曲面玻璃及液晶玻璃在研磨抛光过程中,凹陷处与凸起处研磨研磨效果不同,使得镜面效果差的技术问题。为了达到上述目的,本技术提供如下技术方案:一种海绵研磨垫,包括,研磨层;还包括热熔胶层及海绵层,所述海绵层通过所述热熔胶层与所述研磨层连接,使海绵研磨垫呈多层结构。其中,还包括,胶层,所述胶层设置于所述海绵层的安装面。其中,所述海绵层材质为:氨基甲酸乙酯。其中,所述海绵层的硬度为SHOREC:10~50,密度0.10~1.0g/m2,压缩率5~70%,还原率70~99%。其中,所述研磨层为氨基甲酸乙酯。其中,所述研磨层的硬度为SHOREA:60~99,密度为0.30~1.0g/m2,压缩率0.1~3.0%,还原率30~80%。其中,还包括环形研磨片,所述环形研磨片贴合于所述研磨层的研磨面。所述环形研磨片由平均单纤维直径10μm~15μm以下的极细纤维束 ...
【技术保护点】
一种海绵研磨垫,包括,研磨层;其特征在于,还包括热熔胶层及海绵层,所述海绵层通过所述热熔胶层与所述研磨层连接,使海绵研磨垫呈多层结构。
【技术特征摘要】
1.一种海绵研磨垫,包括,研磨层;其特征在于,还包括热熔胶层及海绵层,所述海绵层通过所述热熔胶层与所述研磨层连接,使海绵研磨垫呈多层结构。2.根据权利要求1所述的一种海绵研磨垫,其特征在于:还包括,胶层,所述胶层设置于所述海绵层的安装面。3.根据权利要求1所述的一种海绵研磨垫,其特征在于:所述海绵层材质为:氨基甲酸乙酯。4.根据权利要求3所述的一种海绵研磨垫,其特征在于:所述海绵层的硬度为SHOREC:10~50,密度0.10~1.0g/m2,压缩率5~70%,还原率70~99%。5.根据权利要求1-4任一项所述的一种海绵研磨垫,其...
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