一种抛光液制造技术

技术编号:16363205 阅读:33 留言:0更新日期:2017-10-10 18:44
本发明专利技术公开了一种抛光液,具体步骤如下:将质量比为1:1.3的氧化钙和二氧化硅粉体放入石墨坩埚中,进行充分混合,再以加热至1600‑1650℃,然后保温40‑50min得到氧化钙和二氧化硅的反应产物;将得到的氧化钙和二氧化硅的反应产物进行水淬处理,得到水淬硅酸钙;将得到的水淬硅酸钙进行干燥、粉碎、过筛后取筛下物得到水淬硅酸钙粉体,粉碎成100‑120目粉末;配制一定浓度的硫酸溶液,在搅拌的条件下缓缓加入得到的水淬硅酸钙粉体,所述水淬硅酸钙与硫酸的质量比为1:1.2‑1.4,反应完成后抽滤,分离得到的无色透明滤液,即为高纯硅溶胶。本发明专利技术的优点为:本发明专利技术以高温水淬得到的水淬硅酸钙与硫酸反应制备硅溶胶,不仅产品中不含金属离子,杂质含量很少。

Polishing liquid

The invention discloses a polishing liquid, the specific steps are as follows: the mass ratio of calcium oxide and silica powder 1:1.3 in graphite crucible, fully mixed, and then heated to 1600 to 1650 DEG C, reaction products and 40 50min insulation calcium oxide and silicon dioxide; the reaction product of calcium oxide and silicon dioxide the water quenching, water quenched calcium silicate; water quenched calcium silicate obtained by drying, crushing, sieving siftage water quenched calcium silicate powder, crushed into 100 120 mesh powder; sulfur acid with some solution, under the stirring condition added slowly water quenched calcium silicate powder obtained by the water quenching of calcium silicate sulfate and the mass ratio of 1:1.2 1.4 after the completion of the reaction, filtration, the filtrate obtained is colorless and transparent, which is of high purity silica sol. The invention has the advantages that the preparation of silica sol by reaction of water quenched calcium silicate obtained by high temperature water quenching and sulfuric acid not only contains no metal ions in the product, but also has little impurity content.

【技术实现步骤摘要】
一种抛光液
本专利技术属于化工材料制备
,尤其涉及一种抛光液。
技术介绍
随着社会的进步和科技的发展,不锈钢金属制品在工业、农业以及人们的生活各个领域的运用越来越广泛,同时也给社会创造了越来越大的价值。近几年,一种薄型不锈钢基板因其诸多优点,例如重量轻、可卷曲、耐高温制程、耐辐射、阻水阻氧、制造成本低廉及取得方便等,被首选为软性显示器基板的理想材料,然而,平板显示行业对不锈钢基板的表面粗糙度要求极高,需对不锈钢基板进行充分的抛光处理。目前,金属加工行业对不锈钢基板进行抛光的方法主要有机械抛光、化学抛光和电化学抛光等。这些方法中,机械抛光成本较高,成本高在高温酸洗和机械抛光所需设备及其辅料与电耗上;电化学抛光虽然抛光效果较好,但成本较高,易受电力线分布的限制,影响色泽;化学抛光成本低、抛光全面,抛光后镜面光亮,但抛光效果由于所用化学抛光液配方不同而呈现较多的差异;而应用于平板显示行业中的不锈钢基板的抛光处理,既要求运行成本低,又要求抛光处理后平滑效果与光亮效果极佳。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种明显提高抛光度的抛光液。本专利技术采用的技术方案为:一种抛光液,其创新点在于,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛光液,其特征在于,所述抛光液包括螯合剂、氧化剂、添加剂和蒸馏水,所述抛光液各组分含量为:螯合剂350~400ml/L,氧化剂50~110ml/L,添加剂50~70ml/L,蒸馏水450~600ml/L。

【技术特征摘要】
1.一种抛光液,其特征在于,所述抛光液包括螯合剂、氧化剂、添加剂和蒸馏水,所述抛光液各组分含量为:螯合剂350~400ml/L,氧化剂50~110ml/L,添加剂50~70ml/L,蒸馏水450~600ml/L。2.根据权利要求1所述的一种抛光液,其特征在于,所述二羧酸,多元...

【专利技术属性】
技术研发人员:曹建民
申请(专利权)人:如皋市下原科技创业服务有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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