离子注入量调节装置及方法、离子注入设备、判断方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种离子注入量调节装置，包括：调节件，用于开启和关闭离子注入设备的离子出口；驱动结构，用于控制所述调节件运动以调节离子出口的开口度。本发明专利技术的有益效果是：可以灵活调节离子注入量。本发明专利技术还涉及一种离子注入设备、离子注入量调节方法、判断方法。

Ion implantation amount regulating device and method, ion implantation device and judging method

The invention relates to a regulating device, the amount of an ion implantation include: adjusting device, used to open and close the ion outlet device; driving structure for controlling the opening of the adjusting element motion to adjust the ion outlet. The invention has the advantages that the amount of ion implantation can be flexibly adjusted. The invention also relates to an ion implantation device, an ion implantation amount regulating method and a judgment method.

【技术实现步骤摘要】
离子注入量调节装置及方法、离子注入设备、判断方法
本专利技术涉及液晶产品制作
，尤其涉及一种离子注入量调节装置及方法、离子注入设备、判断方法。
技术介绍
离子注入是影响OLEDDevice(有机发光二极管器件)性能的重要工艺，掺杂离子注入量的多少，决定了OLEDTFT(有机发光二极管显示器中的薄膜晶体管)阈值电压、接触电阻大小，现有的离子注入设备中，离子出口的调节形式单一，只有Narrow(窄)、Wide(宽)两种模式，无法进行Dose(离子注入)量的调节。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种离子注入量调节装置及方法、离子注入设备、判断方法，可以灵活调节离子注入量。为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种离子注入量调节装置，应用于离子注入设备，包括：调节件，用于开启和关闭离子出口；驱动结构，用于控制所述调节件运动以调节离子出口的开口度。进一步的，所述调节件包括设置于离子出口处的调节板，所述调节板为一板状结构。进一步的，所述驱动结构包括：电机；传动杆，所述传动杆的一端与所述电机驱动连接，所述传动杆的另一端与所述调节板传动连接。进一步的，所述传动杆的另一端本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离子注入量调节装置，应用于离子注入设备，其特征在于，包括：调节件，用于开启和关闭离子出口；驱动结构，用于控制所述调节件运动以调节离子出口的开口度。

【技术特征摘要】
1.一种离子注入量调节装置，应用于离子注入设备，其特征在于，包括：调节件，用于开启和关闭离子出口；驱动结构，用于控制所述调节件运动以调节离子出口的开口度。2.根据权利要求1所述的离子注入量调节装置，其特征在于，所述调节件包括设置于离子出口处的调节板，所述调节板为一板状结构。3.根据权利要求2所述的离子注入量调节装置，其特征在于，所述驱动结构包括：电机；传动杆，所述传动杆的一端与所述电机驱动连接，所述传动杆的另一端与所述调节板传动连接。4.根据权利要求3所述的离子注入量调节装置，其特征在于，所述传动杆的另一端通过旋转轴与所述调节板的一端连接，所述调节板的另一端为自由端。5.根据权利要求4所述的离子注入量调节装置，其特征在于，所述调节件包括两个调节板，一个所述传动杆的另一端通过旋转轴与每个所述调节板的一端连接以同时控制两个所述调节板的运动，每个所述调节板的另一端为自由端。6.根据权利要求4所述的离子注入量调节装置，其特征在于，所述调节件包括两个调节板，所述驱动结构包括分别控制两个所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：经好，姜东佑，傅永义，刘晨亮，李儒健，罗康，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11