一种基于溶液法的薄膜制备方法及薄膜技术

本发明专利技术适用于薄膜制备领域，提供了一种基于溶液法的薄膜制备方法及薄膜，该方法包括：将前驱体溶液施加到第一衬底的待涂布面上；将第二衬底的一边与所述第一衬底的一边重合放置，并使两衬底的待涂布面相对并保持预设角度；施加作用力于两衬底上，使两衬底靠近后吸合，以排出多余前驱体溶液；分离两衬底，使每一衬底上均匀沉积一层湿膜；对所述湿膜进行热处理，形成干膜薄膜涂层。本发明专利技术基于溶液法，利用前驱体溶液和衬底间的表面张力和毛细作用吸合后再分离，同时在两片衬底上形成均匀、完整、高质量的薄膜，并且实现方法简单，高效、成本低、产能高，能够制备单层或者多层相同或不同成分、多种厚度的薄膜。

Thin film preparation method and film based on solution method

The invention is applicable to the field of film preparation, provides a method based on thin film preparation and solution method, the method includes: the precursor solution is applied to the first substrate to be coated on the surface of the second substrate; and one side of the first substrate and the two placed side overlap, the substrate to be coated the relative surface and keep the preset angle; force is applied to the two substrate, the two substrate near the back pull, to discharge excess precursor solution; separation of two substrates, each substrate uniformly deposited a layer of wet film; heat treatment of the wet film, the formation of dry film coating. The invention is based on the solution method, using surface tension and capillary effect of the precursor solution and the substrate between the pull after separation, thin film and form a uniform, complete and high quality in the two substrate, and the realization method is simple, efficient, low cost, high productivity, can be a single layer or multiple layers of the same or different components, a variety of the thickness of the thin film preparation.

【技术实现步骤摘要】
一种基于溶液法的薄膜制备方法及薄膜
本专利技术属于薄膜制备领域，尤其涉及一种基于溶液法的薄膜制备方法及薄膜。
技术介绍
目前薄膜制备包括以下方式：化学气相沉积、物理气相沉积及溶液法等，相比于化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)等传统沉积技术，溶液法无需真空环境，可应用于制备大面积功能薄膜，因而具有低成本，高产出和生产设备简单等优势。溶液法制膜一般包括旋涂、刮刀、丝网印刷、喷雾、喷墨印刷、浸渍涂敷等多种方式。其中旋涂制膜是利用离心力来延展前驱体溶液，从而达到在平滑衬底上均匀涂覆薄膜的目的，但是旋涂法对溶液前驱体的利用率不足5％，导致原料大量浪费从而增加了成本；刮刀涂布是通过刮刀与衬底的相对移动实现大面积薄膜制备的方法。但是刮刀法对衬底和刮刀的平整度具有较高要求，技术难度大，合格率低；丝网印刷法是通过刮刀挤压油墨，使油墨转移到衬底上实现薄膜制作的，但是该方法不适合印刷纳米尺寸图案以及制备纳米尺寸厚度的薄膜；喷雾涂布和喷墨印刷方法由于需要超声喷嘴或压电式喷墨打印头来制备薄膜，设备维护费用高，产能低；浸渍涂布是通过将衬底浸渍于前驱体溶液中制备薄膜的，但是该方法会使衬底的上下表面均被本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于溶液法的薄膜制备方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：将前驱体溶液施加到第一衬底的待涂布面上；将第二衬底的一边与所述第一衬底的一边重合放置，并使两衬底的待涂布面相对并保持预设角度；施加作用力于两衬底上，使两衬底靠近后吸合，以排出多余前驱体溶液；分离两衬底，使每一衬底上均匀沉积一层湿膜；对所述湿膜进行热处理，形成干膜薄膜涂层。

【技术特征摘要】
1.一种基于溶液法的薄膜制备方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：将前驱体溶液施加到第一衬底的待涂布面上；将第二衬底的一边与所述第一衬底的一边重合放置，并使两衬底的待涂布面相对并保持预设角度；施加作用力于两衬底上，使两衬底靠近后吸合，以排出多余前驱体溶液；分离两衬底，使每一衬底上均匀沉积一层湿膜；对所述湿膜进行热处理，形成干膜薄膜涂层。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述施加作用力于两衬底上，使两衬底靠近后吸合，以排出多余前驱体溶液的步骤之后，且所述分离两衬底，使每一衬底上均匀沉积一层湿膜的步骤之前还包括下述步骤：于所述第二衬底背面施加适当压力，以排出多余的前驱体溶液和湿膜内的气泡。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述将前驱体溶液施加到第一衬底的待涂布面上的步骤之前，对衬底进行清洁处理。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述清洁处理步骤依次为：采用清洁剂清洗衬底；使用有机溶剂对衬底进行超声清洗；吹干清洗剂和有机溶剂；进行氧气等离子体处理、臭氧处理或紫外光辐射，以改善衬底表面的润湿性。5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将前驱体溶液施加到第一衬底的待涂布面上的步骤具体为：所述第一衬底水平放置，其待涂布面朝上，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王寒，宋建军，杨振光，李佳，张康，何国強，梁伟鸿，梁广伟，
申请(专利权)人：晶门科技有限公司，
类型：发明
国别省市：中国香港,81