本体聚合物／剥离型纳米蒙脱土复合物的制备方法技术

一种本体聚合物／剥离型纳米蒙脱土复合材料的制备方法，包括如下步骤：　　　　（ａ）、在液态或粘流态的聚合物中加入粒径为３０－２００μｍ、阳离子交换容量为５０－２００毫克当量／１００克土、层间距为１．１－３．０ｎｍ的有机蒙脱土，搅拌分散，其中液态或粘流态的聚合物与有机蒙脱土的重量比为１００∶０．１－８０；　　　　（ｂ）、将经（ａ）简单分散的液态聚合物／蒙脱土复合物在锥体磨或胶体磨中研磨分散，其中定子与转子之间的间距为１－５０μｍ，研磨时间为２０－１２０分钟。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种制备本体聚合物/剥离型纳米蒙脱土复合物的新方法。
技术介绍
聚合物/蒙脱土纳米复合材料是近十年来迅速发展起来的新材料。利用蒙脱土的片层结构，把聚合物或形成聚合物的单体插入到蒙脱土纳米片层中，通过物理或化学的方法把蒙脱土片层剥离，分散到聚合物基体中，从而形成聚合物/蒙脱土纳米复合材料。蒙脱土在聚合物中的分散关键在于蒙脱土片层的剥离，剥离成片层厚度约为1nm的片状材料并均匀分散到聚合物基体中。制备高性能聚合物/蒙脱土纳米复合材料的关键就是蒙脱土片层的层间域的扩大直至剥离，只有发生蒙脱土片层剥离的复合物才是真正意义上的纳米复合物，才有各方面性能如强度、耐热性、阻隔性能的提高。因此，人们研究这类复合材料，最重要也是最基本的努力方向就是实现聚合物基体中蒙脱土的片层剥离。目前已在多个聚合物体系中制备出了蒙脱土片层发生剥离的纳米复合材料。聚合物插层的方法较多。徐国财、张立德等在其著作中(纳米复合材料，化学工业出版社，材料科学与工程出版中心，北京，2002，229-234页)总结了聚合物插层方法，主要分为溶液插层法和熔融插层法。溶液插层法是把聚合物或形成聚合物的单体与蒙脱土分散本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：庞浩，黄文勇，廖兵，胡美龙，林果，赵树录，
申请(专利权)人：中国科学院广州化学研究所，
类型：发明
国别省市：