干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极制造技术

本申请一种干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极，所述干蚀刻设备的电极，包括：电极板，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；以及隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔。藉以提升蚀刻气体流动方向的均匀分布情形。

Electrode for dry etching apparatus and dry etching apparatus

The application of electrode a dry etching equipment and dry etching equipment, the dry etching equipment includes: electrode, electrode plate, surface area and includes components placed around the component placement area of the edge region; blocking ring is arranged on the peripheral edge region, located in the district and the diaphragm assembly is placed; that is arranged at the outer side of the electrode plate, adjacent to the periphery of the blocking ring, wherein the separator has a plurality of perforation. In order to improve the uniform distribution of the flow direction of the etching gas.

【技术实现步骤摘要】
干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极
本申请涉及一种干蚀刻设备及干蚀刻设备的电极。
技术介绍
随着科技进步，具有省电、无幅射、体积小、低耗电量、平面直角、高分辨率、画质稳定等多项优势的液晶显示器，尤其是现今各式信息产品如：手机、笔记本电脑、数字相机、PDA、液晶屏幕等产品越来越普及，也使得液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)的需求量大大提升。因而推动了液晶显示面板行业的快速发展，面板的产量不断提升。蚀刻工艺是制造液晶显示面板的阵列基板过程中的一个重要步骤。蚀刻工艺根据蚀刻剂的物理状态分为干蚀刻工艺和湿蚀刻工艺，即干蚀刻工艺为利用蚀刻气体进行蚀刻的工艺，湿蚀刻工艺为利用蚀刻液体进行蚀刻的工艺。在利用干蚀刻工艺进行阵列基板制造的过程中，理想状态下蚀刻气体(ProcessGas)是在进气系统的吹力、抽气系统的吸力、电极板之间的电压等因素的作用下以完全垂直于待加工基板面的方向吹向待加工基板面。在整个加工过程中，在保证蚀刻气体的气压、气流的稳定的前提下，使整个加工过程中待加工基板面每个部分接触到相等的量的蚀刻气体、以期待加工基板各部分会以相同速率被处理，确保待加工基板各部分在本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干蚀刻设备的电极，其特征在于，包括：电极板，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；以及隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔。

【技术特征摘要】
1.一种干蚀刻设备的电极，其特征在于，包括：电极板，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；以及隔板，设置在所述电极板外侧，邻接所述阻挡环的外围，所述隔板具有多个穿孔。2.如权利要求1所述的干蚀刻设备的电极，其特征在于，所述隔板以等间距、不等间距、局部等间距或无间隔的方式设置于所述阻挡环的外围。3.如权利要求1所述的干蚀刻设备的电极，其特征在于，所述多个穿孔以均匀、不均匀或局部均匀的方式设置于所述隔板。4.如权利要求1所述的干蚀刻设备的电极，其特征在于，所述多个穿孔的形状与大小是相同、相异或局部相同。5.一种干蚀刻设备，其特征在于，包括：腔室；基台，设置于所述腔室的内部；第一电极，设置于所述基台上，表面包括组件放置区及环绕所述组件放置区的边缘区；阻挡环，设置在所述边缘区，位于所述组件放置区的外围；隔板，设置在所述电极...

【专利技术属性】
技术研发人员：温俊斌，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，重庆惠科金渝光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44