一种定位基站和定位系统技术方案

技术编号:16174880 阅读:34 留言:0更新日期:2017-09-09 02:12
本发明专利技术公开了一种定位基站和定位系统,所述定位基站包括:主体;旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面与所述旋转轴在同一侧。由于激光测量的精度在毫米级,并且定位速度在毫秒级,所以定位精度和定位速度相比于现有技术都大大提高,实现了精准和快速地实现空间定位的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种定位基站和定位系统
本专利技术涉及空间定位领域,尤其涉及一种定位基站和定位系统。
技术介绍

技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种定位基站和定位系统,以精准和快速地实现空间定位。为了实现上述专利技术目的,本专利技术实施例第一方面提供了一种定位基站,包括:主体;旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面朝向所述旋转轴的侧面、且能够反射所述两个激光扫描器出射的激光扫描线。可选地,所述旋转轴上的两个激光扫描器分周期进行扫描。可选地,所述旋转轴上的两个激光扫描器分别出射不同频率的激光扫描线。可选地,经过所述旋转轴上的两个激光扫描器且垂直于所述旋转轴的轴心的两条直线之间的夹角大于等于180°-2α,且小于等于180°,其中α为所述两个激光扫描面被所述镜面机构反射且不被所述旋转轴遮挡时的最小出射角。可选地,经过所述旋转轴上的两个激光扫描器且垂直于所述旋转轴的轴心的两条直线之间的夹角为180°。本专利技术实施例第二方本文档来自技高网...
一种定位基站和定位系统

【技术保护点】
一种定位基站,其特征在于,包括:主体;旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面朝向所述旋转轴的侧面、且能够反射所述两个激光扫描器出射的激光扫描线。

【技术特征摘要】
1.一种定位基站,其特征在于,包括:主体;旋转轴,设置于所述主体上,所述旋转轴的侧面设置有两个激光扫描器,所述两个激光扫描器对应的两个激光扫描面扫描到空间中同一点时的两个平面不重合,且任一激光扫描面不垂直于所述旋转轴;镜面机构,设置于所述主体上,所述镜面机构的镜面朝向所述旋转轴的侧面、且能够反射所述两个激光扫描器出射的激光扫描线。2.如权利要求1所述的定位基站,其特征在于,所述旋转轴上的两个激光扫描器分周期进行扫描。3.如权利要求1所述的定位基站,其特征在于,所述旋转轴上的两个激光扫描器分别出射不同频率的激光扫描线。4.如权利要求1所述的定位基站,其特征在于,经过所述旋转轴上的两个激光扫描器且垂直于所述旋转轴的轴心的两条直线...

【专利技术属性】
技术研发人员:张超
申请(专利权)人:成都理想境界科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1