The present invention relates to a method and system for analysis of degradation of a vacuum packaging MEMS top quality factor, obtain the vacuum packaged gyroscope parameters; according to thermodynamics, fluid mechanics and gyro dynamics principle to analyze the relationship between the gyro parameters, gyroscope driving quality factor axis motion and gyro axis detection of synovial film under the movement obtained according to a relation between the relations; quality factors of two movement under the determination of quality factors, the number of free movement of gas, the air pressure inside the three; according to the thermodynamic principle of gas diffusion equation to determine changes in the number of free movement of gas with time; according to the variation equation of relation between the three and the number of free movement of gas with time to determine get top quality factor degradation model; according to the model parameter degradation model, and according to the degradation model and mode The characteristic time of the degradation of the MEMS gyro quality factor is calculated and the output is obtained. It can provide reference for gyro test scheme and improve the reliability of gyro.
【技术实现步骤摘要】
真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法和系统
本专利技术涉及微机械陀螺领域,特别是涉及一种真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法和系统。
技术介绍
高真空封装(高Q值)技术应用越来越广泛,是陀螺高性能技术发展的必然趋势,不管是传统的线振动陀螺、碟形陀螺、还是半球陀螺等,高真空封装都是提高其性能的核心技术。目前,美国各大高校报道的高真空封装MEMS陀螺Q值达到十万、甚至百万以上,这将对陀螺品质因子可靠性要求非常高。目前圆片级真空封装技术尚未成熟,报道的多数高性能陀螺的真空封装主要为器件级封装,通过互连、划片、粘胶贴片、平行缝焊/钎焊/激光焊接、吸气剂等工艺制作而成。真空度越高,封装可靠性就越重要,而漏气和内部材料释气是影响陀螺内部气压和品质因子的两大关键因素。通常器件级封装漏率较低,漏率基本能满足产品应用要求,但由于器件中存在基板材料、薄膜、粘胶材料等,这些材料的长时间释气会严重影响封装腔体的气压。尽管器件中有吸气剂,但也不能长期吸收释放出来的大量气体,漏气的影响远小于材料放气带来的影响。由于腔体气压的变化会极大改变品质因子,而品质因子的退化最终导致陀螺性能严重蜕变,目前尚未有关于真空封装MEMS陀螺品质因子退化的理论模型,通过传统的方法很难知道陀螺品质因子的变化情况,无法得知陀螺的性能状态,导致MEMS陀螺的可靠性低。
技术实现思路
基于此,有必要针对上述问题,提供一种提高MEMS陀螺可靠性的真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法和系统。一种真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,包括以下步骤:获取真空封装MEMS陀螺参数;根据热力学、流体力学和陀螺动 ...
【技术保护点】
一种真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,其特征在于,包括以下步骤:获取真空封装MEMS陀螺参数;根据热力学、流体力学和陀螺动力学原理对所述真空封装MEMS陀螺参数进行分析,得到真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子的关系式,和真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子的关系式;根据所述真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子的关系式,和所述真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子的关系式确定得到品质因子、自由运动气体个数、内部气压三者之间的关系式;根据热力学气体扩散原理确定得到自由运动气体个数随时间的变化方程;根据所述品质因子、自由运动气体个数、内部气压三者之间的关系式以及所述自由运动气体个数随时间的变化方程确定得到真空封装MEMS陀螺品质因子的退化模型;根据所述真空封装MEMS陀螺品质因子的退化模型拟合得到模型参数,并根据所述退化模型和所述模型参数计算得到表征MEMS陀螺品质因子退化的特征时间并输出。
【技术特征摘要】
1.一种真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,其特征在于,包括以下步骤:获取真空封装MEMS陀螺参数;根据热力学、流体力学和陀螺动力学原理对所述真空封装MEMS陀螺参数进行分析,得到真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子的关系式,和真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子的关系式;根据所述真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子的关系式,和所述真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子的关系式确定得到品质因子、自由运动气体个数、内部气压三者之间的关系式;根据热力学气体扩散原理确定得到自由运动气体个数随时间的变化方程;根据所述品质因子、自由运动气体个数、内部气压三者之间的关系式以及所述自由运动气体个数随时间的变化方程确定得到真空封装MEMS陀螺品质因子的退化模型;根据所述真空封装MEMS陀螺品质因子的退化模型拟合得到模型参数,并根据所述退化模型和所述模型参数计算得到表征MEMS陀螺品质因子退化的特征时间并输出。2.根据权利要求1所述的真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,其特征在于,所述参数包括梳齿电容的间距、梳齿电容的重叠面积、所述梳齿电容的重叠面积的宽度、所述梳齿电容的重叠面积的长度、驱动轴质量、检测轴质量、驱动固有频率、检测固有频率;所述根据热力学、流体力学和陀螺动力学原理对所述真空封装MEMS陀螺参数进行分析,得到真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子的关系式,和真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子的关系式,具体为:其中,Qd为真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子,Qs为真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子,kb为玻尔兹曼常数(1.38×10-23J/K),d为梳齿电容的间距,N为自由运动气体个数,T为温度,A为梳齿电容的重叠面积,V为腔体体积,p为腔体内部气压,弛豫时间为分子在连续两次碰撞之间所经历的平均时间,md为驱动质量,ms为检测质量,ωd为驱动固有频率,ωs为检测固有频率,w为梳齿电容的重叠面积的宽度,l为梳齿电容的重叠面积的长度,α为梳齿电容的重叠面积的宽长比w/l决定的系数。3.根据权利要求1所述的真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,其特征在于,所述根据所述真空封装MEMS陀螺驱动轴滑膜运动下的品质因子和所述真空封装MEMS陀螺检测轴压膜运动下的品质因子的关系式确定得到品质因子、自由运动气体个数、内部气压三者之间的关系式,具体为:其中,Q为品质因子,p为内部气压,t为时间,N为自由运动气体个数。4.根据权利要求1所述的真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,其特征在于,所述根据热力学气体扩散方程,确定得到自由运动气体个数随时间的变化方程,具体为:其中,t为时间,D为扩散系数,lz为MEMS陀螺的管壳沿z方向的扩散长度。5.根据权利要求1所述的真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析方法,其特征在于,所述根据所述品质因子、自由运动气体个数、内部气压三者之间的关系式以及所述自由运动气体个数随时间的变化方程确定得到真空封装MEMS陀螺品质因子的退化模型,具体为:其中,a,b,c为常数,t为时间。6.一种真空封装MEMS陀螺品质因子退化分析系统,其特征在于,包括:真空封装MEMS陀螺参数获取模块,用于获取真空封...
【专利技术属性】
技术研发人员:何春华,谷专元,黄钦文,林晓玲,
申请(专利权)人:中国电子产品可靠性与环境试验研究所,
类型:发明
国别省市:广东,44
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