药物合成装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种药物合成装置，包括正压室和负压室，其中正压室内具有高于大气压的第一气压，负压室具有低于第一气压的第二气压，负压室不仅起到阻止药物合成装置外部的杂质进入药物合成环境中，负压室中的第二气压和正压室中的第一气压的压力差使药物合成环境中及附近的杂质向远离药物合成环境的方向移动，进一步净化了正压室构成的药物合成环境；正压室和负压室上的过滤器能够过滤排出所述药物合成装置的气体，不仅抑制了药物扩散至药物合成装置外部对环境造成危害，过滤的药物还可以二次回收利用。

Drug synthesis device

The present invention provides a pharmaceutical synthesis device, including positive pressure chamber and a negative pressure chamber, wherein the positive pressure chamber has a first pressure higher than the atmospheric pressure, the negative pressure chamber has less than second first pressure pressure, negative pressure chamber to prevent impurities not only synthetic drugs outside the device into the drug synthesis environment, impurity pressure difference of drug synthesis environment the first second negative pressure chamber pressure and positive pressure in the chamber and move away from the nearby environment of drug synthesis direction, further purify the environment of drug synthesis positive pressure chamber; positive pressure chamber and a negative pressure chamber on the filter can filter gas discharged out of the drug synthesis device, not only inhibit the drug spread to the drug synthesis device external cause harm to the environment, the drug can also filter recycling two times.

【技术实现步骤摘要】
药物合成装置
本专利技术涉及一种药物合成装置，尤其是一种具有清洁功能的药物合成装置。
技术介绍
药物合成过程中如果混入杂质将会严重影响药物质量而达不到药物质量标准，药物还包括放射性药物，在放射性药物合成过程中，放射性射线将会危害环境或操作人员的健康，为解决药物合成过程中被污染的问题和防止放射性药物的危害，目前常用的方法是在密闭的具有一定清洁度的环境中完成药物的合成过程。一般情况下，提供该密闭环境的密闭装置具有放入原料或取出药物的开口部，在药物合成过程中外部的杂质会通过开口部和密闭装置的间隙进入该密闭环境中，从而会污染合成的药物；同样的，药物/放射性物质/杂质会通过开口部和密闭装置的间隙渗出该密闭环境，一方面会造成药物的损失，另一方面渗出的药物/放射性物质可能会危害环境或操作人员的健康，渗出的异物可能会影响环境的清洁度，目前尚未发现有针对提高药物合成清洁度并防止药物泄露至药物合成室以外的技术。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种药物合成装置，所述药物合成装置一方面通过抑制药物合成装置外部的杂质进入所述药物合成装置内从而有效提高合成药物的清洁度；另一方面有效抑制药物从药物合成装置扩散出去，不仅能够降低药物的损失，还可以防止扩散出去的药物/放射性物质对环境和操作人员造成危害。为了实现上述目的，本专利技术提供了一种药物合成装置，所述药物合成装置包括正压室和负压室，其中正压室是由相互连接的壁构成的箱体，所述正压室的正面壁上设置有第一开口部，所述正压室的内部设置有用于合成和容纳药物的药物合成组件，所述正压室的内部具有高于大气压的第一气压；负压室位于正压室的外部，并且至少覆盖第一开口部，所述负压室内具有低于第一气压的第二气压，正压室内的气体通过压力差进入负压室。其中，药物合成过程发生在所述正压室内，正压室具有高于大气压的第一气压，因此可以抑制所述药物合成装置外部的杂质进入正压室内，从而避免了杂质对药物的污染；所述负压室至少覆盖第一开口部，相对于外部环境中的杂质可以直接接触第一开口部与正面壁之间的缝隙而有可能直接进入正压室内，负压室一方面起到阻挡杂质的第一屏障的作用，另一方面，可以通过控制负压室内的第二气压以增加第一气压和第二气压之间的压力差，以增加缝隙中存在的杂质进入负压室的压力，从而更进一步地避免了药物合成过程中受到污染。负压室除了可以仅覆盖第一开口部而阻止杂质从第一开口部与正面壁之间的缝隙进入正压室外，本领域技术人员熟知地，负压室被这样的设置：一方面能够避免将正压室内的杂质扩散到外部环境；另一方面避免将外部环境的杂质渗入到正压室。因此，负压室还可以作为一个连通的结构覆盖正压室其他有缝隙的地方，甚至可以根据实际应用的需要，负压室全包围整个正压室。进一步地，所述正压室和负压室之间设置有一个邻接于所述正面壁的独立空间，正压室内的气体通过所述独立空间进入负压室内。所述独立空间有继负压室作为第一屏障后更进一步地阻挡药物合成装置外部杂质进入所述正压室的第二屏障的作用，所述独立空间内的气压可以为第一气压，也可以为高于第二气压但低于第一气压的第三气压，由此可以抑制外界的杂质通过压力差进入正压室内，从而避免了药物合成过程中受到污染。所述独立空间靠近负压室并和所述正面壁平行的壁上设置第二开口部，所述第二开口部不仅可以用来向正压室放入原料或从正压室取出药物，也可以使正压室流入所述独立空间的气体根据独立空间和负压室的压力差通过第二开口部和与其邻接的壁之间的缝隙流入负压室。更进一步地，所述药物合成装置中，所述正压室具有排气口，用于排出正压室内的气体，以避免正压室内压力过大而降低设备使用期限，需要说明的是，虽然正压室具有排气口，但是正压室内仍需要维持高于大气压的第一气压。优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室具有：升压机构，用于增加正压室内部的压力；和第一过滤器，用于净化升压机构注入正压室的气体。其中升压机构具有使所述正压室维持高于大气压的第一气压的作用，为了避免药物合成过程中药物被由升压机构注入正压室的气体污染，在气体被注入正压室之前需要通过第一过滤器除去杂质达到一定的洁净级别后再注入正压室。优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室的排气口上连接有限压阀和第二过滤器，限压阀用于控制正压室内的压力，在维持正压室内的第一气压高于大气压的同时，降低第一气压对正压室结构的损害；而第二过滤器用于过滤通过限压阀排出的气体，避免药物颗粒从所述排气口排出药物合成装置而污染环境或对操作人员造成危害，并且第二过滤器过滤下来的药物可以通过物理或化学的处理继续利用，降低药物的流失。优选的是，所述药物合成装置中，所述负压室具有减压机构和与减压机构连接的第三过滤器，所述减压机构包括气体减压阀、抽气泵或排气用的鼓风机，用以使负压室的第二气压低于正压室内的第一气压，第三过滤器用于过滤通过减压机构排出的气体。负压室上与减压机构连接的第三过滤器可以过滤渗入负压室内的药物，防止药物泄露至药物合成装置外部，并且所述第三过滤器过滤下的药物颗粒可以通过二次回收而降低药物的流失，减少浪费。其中优选的是，所述药物合成装置中，所述第二气压低于大气压，当第二气压高于第一气压时可以使负压室内的气体向药物合成装置外部流动，避免杂质通过负压室进入正压室；当第二气压低于第一气压时，正压室和负压室的压力差变大，能更好的抑制杂质从负压室进入正压室污染药物。优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室的排气口与负压室连通，使正压室与负压室共用一个减压机构，用以将正压室内的气体排放到负压室内。正压室内的气体分别经过位于正压室排气口处的第一过滤器第一次过滤和经过位于负压室第二过滤器的第二次过滤使排出药物合成装置的气体更纯净，提高药物的二次回收程度。优选的是，所述药物合成装置中，所述正压室的排气口位于负压室外部，使正压室与负压室设置有相互独立的减压机构，用以分别将正压室和负压室内的气体排放出去。独立的排气途径和减压机构可以使所述药物合成装置的维修更加方便。优选的是，所述药物合成装置中，构成所述正压室的相互连接壁包括正面壁、背面壁、左侧壁、右侧壁、顶壁和底壁，其中正面壁和背面壁分别与顶壁、右侧壁、底壁和左侧壁相连；所述负压室覆盖所有构成所述正压室的相互连接的壁。本领域技术人员熟知地，负压室也可以只覆盖上述六壁中的至少两个壁。当负压室覆盖所有构成所述正压室的相互连接的壁时，能够避免在正压室内的压力小于或等于大气压时，药物合成装置外部的杂质从所述相互连接的壁之间的缝隙进入正压室而污染正压室内的药物，起到进一步净化的作用。优选的是，所述药物合成装置中，构成所述正压室或所述负压室的壁由能够抑制放射性射线穿透的放射线屏蔽材料组成。合成放射性药物时除了需要通过过滤器抑制放射性药物颗粒渗出药物合成装置外，还需要抑制正压室内的放射性药物的射线穿透药物合成装置的壁而对周围环境造成危害，而用放射线屏蔽材料做正压室或负压室的壁可以有效的解决放射性射线泄露的问题。本专利技术通过正压室和负压室室内的压力差来实现净化药物合成环境的效果，并且通过分别在正压室的排气口和负压室的减压阀处设置过滤器来实现药物颗粒的二次回收，在防止药物或放射性物质泄露造成环境污染的同时还能降低药物的流失。本专利技术提供的技术方案可以有效的解决现有技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种药物合成装置，其特征在于：所述药物合成装置包括正压室和负压室，其中正压室是由相互连接的壁构成的箱体，所述正压室的正面壁上设置有第一开口部，所述正压室的内部设置有用于合成和容纳药物的药物合成组件，所述正压室的内部具有高于大气压的第一气压；负压室位于正压室的外部，并且至少覆盖第一开口部，所述负压室内具有低于第一气压的第二气压，正压室内的气体通过压力差进入负压室。

【技术特征摘要】
1.一种药物合成装置，其特征在于：所述药物合成装置包括正压室和负压室，其中正压室是由相互连接的壁构成的箱体，所述正压室的正面壁上设置有第一开口部，所述正压室的内部设置有用于合成和容纳药物的药物合成组件，所述正压室的内部具有高于大气压的第一气压；负压室位于正压室的外部，并且至少覆盖第一开口部，所述负压室内具有低于第一气压的第二气压，正压室内的气体通过压力差进入负压室。2.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室和负压室之间设置有一个邻接于所述正面壁的独立空间，正压室内的气体通过所述独立空间进入负压室内。3.如权利要求1所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室具有排气口，用于排出正压室内的气体。4.如权利要求1～3任一项所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室具有：升压机构，用于增加正压室内部的压力；和第一过滤器，用于净化升压机构注入正压室的气体。5.如权利要求3所述的药物合成装置，其特征在于，所述正压室的排气口上连接有限压阀和第二过滤器，限压阀用于控制正压室内的压力，第二过滤器用于过滤通过限压阀排...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘渊豪，
申请(专利权)人：南京中硼联康医疗科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32