一种光刻胶管路设计制造技术

本发明专利技术涉及半导体技术领域，尤其涉及一种光刻胶管路设计，包括：光刻胶容器，放置于一温度控制室内；光刻胶容器包括一进气口和一出胶口，进气口用于通入气体将光刻胶容器内的光刻胶从出胶口压出；第一管道，依次连接光刻胶容器的出胶口、一预存容器、一过滤器、一近端容器、一泵以及一喷头；第一管道外包裹有第二管道，第二管道用于通入加热介质对第一管道进行加热；上述技术方案的有益效果是：能够在不影响光刻胶的喷涂的同时提高光刻胶的使用有效期。

Design of a lithography hose path

The present invention relates to the field of semiconductor technology, especially relates to a lithographic tube road design, including: photoresist container, placed in a temperature controlled chamber; the photoresist container includes an air inlet and a glue outlet, inlet for gas will pass into the photoresist in the container from the glue outlet pressure; a first pipeline. Plastic containers are connected to the photoresist mouth, a stored container, a filter, a proximal container, a pump and a nozzle; the first second pipeline pipe package, second pipe used in the heating medium to heat the first pipeline; the beneficial effect of the technical scheme is: can improve the validity of photoresist in does not affect the photoresist coating at the same time.

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶管路设计
本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种光刻胶管路设计。
技术介绍
光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。光刻胶价格昂贵且有效期短，有效期一般只有6个月，而一些特殊的光刻用胶，如某些片上系统填充材料，在常温下只有10天的有效期。光刻胶是在冷藏或冷冻环境中存储和运输，但在作业过程中却是在常温下储存在机台内。某些机台该胶跑货少或只是用于实验时，这瓶胶在常温下将使用很长时间。长时间暴露在常温下，光刻胶会出现微粒增多、感光度下降、聚合物增加等情况，在晶圆上作业时造成能量变化、缺陷增多。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提出了一种光刻胶管路设计，其特征在于，应用于光刻胶涂布机中；包括：光刻胶容器，放置于一温度控制室内；所述光刻胶容器包括一进气口和一出胶口，所述进气口用于通入气体将所述光刻胶容器内的光刻胶从所述出胶口压出；第一管道，依次连接所述光刻胶容器的出胶口、一预存容器、一过滤器、一近端容器、一泵以及一喷头；所述第一管道外包裹有第二管道，所述第二管道用于通入加热介质对所述第一管道进行加热。上述的光刻胶管路设计，其中，所述第二管道具有一第一包围结构段，所述第一包围结构段包围所述预存容器。上述的光刻胶管路设计，其中，还包括：加热装置，邻近所述预存容器和/或所述第一包围结构段设置，用于对所述预存容器和/或所述第一包围结构段进行加热。上述的光刻胶管路设计，其中，所述加热装置覆盖所述预存容器的侧面、底面和顶面。上述的光刻胶管路设计，其中，所述加热装置的加热范围为20～40℃。上述的光刻胶管路设计，其中，所述第二管道具有一第二包围结构段，所述第二包围结构段包围所述近端容器。上述的光刻胶管路设计，其中，所述第二管道具有一第一旁路结构，所述第一旁路结构用于绕开所述过滤器。上述的光刻胶管路设计，其中，所述第二管道具有一第二旁路结构，所述第二旁路结构用于绕开所述泵。上述的光刻胶管路设计，其中，所述第二管道的输入口设置于所述第二管道邻近所述喷头的一端；所述第二管道的输出口设置于所述第二管道邻近所述光刻胶容器的一端。上述的光刻胶管路设计，其中，所述加热介质为温度为22℃或23℃的水。上述的光刻胶管路设计，其中，还包括：第三管道，分别连接所述预存容器、所述过滤器以及所述近端容器，用于排放所述预存容器和/或所述过滤器和/或所述近端容器内的所述光刻胶。上述的光刻胶管路设计，其中，还包括：温度传感器，设置于所述泵与所述喷头之间，用于采集所述泵与所述喷头之间的所述光刻胶的温度并输出作为反馈。上述的光刻胶管路设计，其中，所述温度控制室内的温度控制范围为-20～25℃。有益效果：本专利技术中的光刻胶管路设计能够在不影响光刻胶的喷涂的同时提高光刻胶的使用有效期。附图说明图1为本专利技术一实施例中光刻胶管路设计的结构示意图；图2为本专利技术一实施例中第二管道包裹第一管道的剖面示意图；图3为本专利技术一实施例中第二管道包裹预存容器的剖面示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术进行进一步说明。在一个较佳的实施例中，如图1所示，提出了一种光刻胶管路设计，其中，应用于光刻胶涂布机中；包括：光刻胶容器10，放置于一温度控制室RM内；光刻胶容器10包括一进气口11和一出胶口12，进气口11用于通入气体将光刻胶容器10内的光刻胶从出胶口12压出；第一管道L1，依次连接光刻胶容器10的出胶口12、一预存容器20、一过滤器30、一近端容器40、一泵50以及一喷头60；第一管道L1外包裹有第二管道L2，第二管道L2用于通入加热介质对第一管道L1进行加热。上述技术方案中，第一管道L1可以有多个或者是一组管道，用于连接在预存容器20与过滤器30之间，以及过滤器30与近端容器40之间，以及近端容器40与泵50之间，以及泵50与喷头60之间，起传输光刻胶的作用；第一管道L1外包裹有第二管道L2，该第二管道L2应为密封的管道，应尽可能将暴露出的第一管道L1全部包覆在内使得第一管道L1的受热面积最大，这样即使光刻胶保存在光刻胶容器10内，也可以在第二管道L2内的加热介质的加热下回复至适于喷涂的温度；第一管道L1在预存容器20、过滤器30、近端容器40以及泵50的位置处可以是分断的，第二管道L2可以是单根管道或者一组管道；预存容器20可以用于对光刻胶进行预存储。在一个较佳的实施例中，如图1所示，第二管道L2具有一第一包围结构段SD1，第一包围结构段SD1包围预存容器20。上述技术方案中，第二管道L2对第一管道L1的包裹应为轴向的包裹，即第二管道L2与第一管道L1的走向一致；但是预存容器20一般并非是管状的，为了使得第二管道L2内的加热介质的加热能力被充分利用，可以将第二管道L2上设置第一包围结构段，用于包围预存容器20以对预存容器20进行加热，设置成包围结构的目的是与预存容器20的形状相匹配；第一包围结构段SD1可以呈容器形状，其剖面图可以如图3所示；第二管道L2包裹第一管道L1的剖面图可以如图2所示。作为优选的实施方式，还可以包括：加热装置HT，邻近预存容器20和/或第一包围结构SD1段设置，用于对预存容器20和/或第一包围结构段SD1进行加热。作为优选的实施方式，加热装置HT覆盖预存容器20的侧面、底面和顶面，但这只是一种优选的方式，加热装置HT也可以是其他设置方式，能够尽可能最大程度地对预存容器20进行热辐射即可，并且加热装置HT可以与预存容器20接触或不接触。作为优选的实施方式，加热装置HT的加热范围为20～40℃。在一个较佳的实施例中，第二管道L2具有一第二包围结构段SD2，第二包围结构段包围近端容器40。上述技术方案中，第二包围结构段SD2可以呈容器形状。在一个较佳的实施例中，第二管道L2具有一第一旁路结构TW1，第一旁路结构TW1用于绕开过滤器30。在一个较佳的实施例中，第二管道L2具有一第二旁路结构TW2，第二旁路结构TW2用于绕开泵50。在一个较佳的实施例中，第二管道L2的输入口设置于第二管道L2邻近喷头60的一端；第二管道L2的输出口设置于第二管道L2邻近光刻胶容器10的一端。上述技术方案能够避免第二管道L2内的加热介质在传输的过程中产生的热量损失导致的光刻胶在喷头60处未能达到指定温度的情况。在一个较佳的实施例中，加热介质为温度为22℃或23℃的水，但这只是优选的情况，不应视为是对本专利技术的限制。在一个较佳的实施例中，还可以包括：第三管道DR，分别连接预存容器20、过滤器30以及近端容器40，用于排放预存容器20和/或过滤器30和/或近端容器40内的光刻胶。在一个较佳的实施例中，如图1所示，还可以包括：温度传感器SS，设置于泵50与喷头60之间，用于采集泵50与喷头60之间的光刻胶的温度并输出作为反馈。上述技术方案中，温度传感器SS可以与喷头60连接，例如与喷头60上的微型处理器连接，以控制喷头60在温度传感器SS处采集的温度未达到某标的值时无法喷出；温度传感器SS与喷头60的距离一般小于20cm。在一个较佳的实施例中，如图1所示，还可以包括：本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶管路设计，其特征在于，应用于光刻胶涂布机中；包括：光刻胶容器，放置于一温度控制室内；所述光刻胶容器包括一进气口和一出胶口，所述进气口用于通入气体将所述光刻胶容器内的光刻胶从所述出胶口压出；第一管道，依次连接所述光刻胶容器的出胶口、一预存容器、一过滤器、一近端容器、一泵以及一喷头；所述第一管道外包裹有第二管道，所述第二管道用于通入加热介质对所述第一管道进行加热。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶管路设计，其特征在于，应用于光刻胶涂布机中；包括：光刻胶容器，放置于一温度控制室内；所述光刻胶容器包括一进气口和一出胶口，所述进气口用于通入气体将所述光刻胶容器内的光刻胶从所述出胶口压出；第一管道，依次连接所述光刻胶容器的出胶口、一预存容器、一过滤器、一近端容器、一泵以及一喷头；所述第一管道外包裹有第二管道，所述第二管道用于通入加热介质对所述第一管道进行加热。2.根据权利要求1所述的光刻胶管路设计，其特征在于，所述第二管道具有一第一包围结构段，所述第一包围结构段包围所述预存容器。3.根据权利要求2所述的光刻胶管路设计，其特征在于，还包括：加热装置，邻近所述预存容器和/或所述第一包围结构段设置，用于对所述预存容器和/或所述第一包围结构段进行加热。4.根据权利要求3所述的光刻胶管路设计，其特征在于，所述加热装置覆盖所述预存容器的侧面、底面和顶面。5.根据权利要求3所述的光刻胶管路设计，其特征在于，所述加热装置的加热范围为20～40℃。6.根据权利要求1所述的光刻胶管路设计，其特征在于，所述第二管道具有一第二包围结构段，所述第二包围结构段包围所述近...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱治国，孙国庆，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31