The present invention relates to a plasma processing g C3N4 antibacterial agent and preparation method and application thereof. The urea by calcination synthesis of G C3N4, then by high pressure plasma processing g C3N4 under nitrogen protection, in order to improve the antibacterial effect of G C3N4. The invention relates to a preparation technique of G C3N4, plasma processing technology and the remaining number of bacteria experiment have been relatively mature, the plasma treated g C3N4 antibacterial effect obviously, has important value.
【技术实现步骤摘要】
一种等离子体处理的g-C3N4抗菌剂及制备方法和用途
本专利技术属于食品安全领域,具体涉及g-C3N4抗菌剂的制备、等离子体对g-C3N4的处理以及残存菌数实验及应用。
技术介绍
近年来,随着经济的发展和社会的进步,人民的生活水平逐渐提高,环境污染等各种问题逐渐显现。新型纳米材料作为有效和环保的材料已经得到了广泛的研究,同时,基于一些食品中的细菌感染问题十分严重,开发一种纳米材料作为功能抗微生物剂也十分必要。其中,一些半导体材料已被证明是有效和环保的抗菌剂。人们对食品的质量要求也越来越高,食品质量安全日益受到全社会关注。食品污染严重威胁了消费者的身体健康和生命安全,影响社会稳定与和谐。鉴于此,研究开发安全、高效的抗菌材料和等离子处理作用已成为提高我国降解污染和食品安全的重要任务之一。国内有很多关于g-C3N4和等离子体的方法的专利申请。CN101489923A公开了一种氮化碳的制备方法。CN105028436A公开了石墨相氮化碳作为抗菌材料的新用途。CN104311864A公开了一种高效可见光防菌保鲜塑料包装材料及其制备方法,该高效可见光防菌保鲜塑料包装材料为单面 ...
【技术保护点】
一种等离子体处理的g‑C3N4抗菌剂,其特征在于:所述g‑C3N4抗菌剂是通过等离子体处理的g‑C3N4,以提高g‑C3N4的抗菌活性。
【技术特征摘要】
1.一种等离子体处理的g-C3N4抗菌剂,其特征在于:所述g-C3N4抗菌剂是通过等离子体处理的g-C3N4,以提高g-C3N4的抗菌活性。2.如权利要求1所述的一种等离子体处理的g-C3N4抗菌剂,其特征在于:采用等离子体处理g-C3N4,功率在500W,时间为1-5min。3.如权利要求1所述的一种等离子体处理的g-C3N4抗菌剂,其特征在于:采用等离子体处理g-C3N4,时间1min,功率为200-1000W。4.如权利要求1所述的一...
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