用于聚合物材料表面改性的等离子体处理装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于聚合物材料表面改性的等离子体处理装置，包括直流电源和反应室，反应室内对应设有分别与直流电源相连的金属阳极和液态阴极，且反应室内设有用于盛放所述液态阴极的液体介质的容器，金属阳极正对设置在所述液态阴极的液面正上方，反应室内还设有用于气体介质流通的进气系统。本发明专利技术还公开了一种用于聚合物材料表面改性的等离子体处理方法，包括如下步骤：1）将待处理聚合物材料置于液态阴极液面下方；2）启动进气系统向反应室内进气；3）启动直流电源，调节金属阳极和液态阴极之间的间距，使金属阳极和液态阴极之间产生放电等离子体，开始对聚合物材料进行等离子体处理；4）处理完成后，关闭直流电源，取出聚合物材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于聚合物材料表面改性的装置和方法，具体的为一种利用大气压下产生辉光放电的低温等离子体来改善聚合物材料的表面性能的装置和方法。
技术介绍
聚合物材料因其出色的机械性能、化学性能和热稳定性而广泛应用于工业生产和人们日常生活的方方面面。然而，由于聚合物表面的亲水性低，使其存在难以与其它材料黏结的缺陷，因此需要改善其表面性能。目前，广泛用于聚合物表面改性的方法包括化学处理、光辐射处理和等离子体处理等，其中，等离子体处理因其对环境的无污染性而得到越来越多的关注。由活性粒子和电磁辐射构成的大气压辉光放电等离子体可以被直流或射频电流激发，在聚合物表面引起一系列的化学反应并形成能够增强聚合物材料表面性能的新型基团，通过活性基团嵌入、表面刻蚀和交联等过程实现表面改性。等离子体处理的优势主要包含两个方面: O等离子体处理仅发生在聚合物表面几十纳米范围内，不会改变基体结构； 2)等离子体激发条件不同，可产生不同类型的等离子体，如氧化型等离子体和还原型等尚子体等。以往用于聚合物表面改性的等离子体可由低气压辉光放电、大气压电晕放电和介质阻挡放电产生。这三种等离子体表面改性技术都存在着本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于聚合物材料表面改性的等离子体处理装置，其特征在于：包括直流电源和反应室，所述反应室内对应设有分别与直流电源相连的金属阳极和液态阴极，且所述反应室内设有用于盛放所述液态阴极的液体介质的容器，所述金属阳极正对设置在所述液态阴极的液面正上方，所述反应室内还设有用于气体介质流通的进气系统。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郑培超，刘克铭，王金梅，代玉，于斌，
申请(专利权)人：重庆邮电大学，
类型：发明
国别省市：