一种膜层制备方法技术

本发明专利技术公开一种膜层制备方法，涉及显示技术领域，用于提高膜层的制备效率。所述膜层制备方法包括：提供一具有功能膜层去除区域和功能膜层保留区域的基板，在基板的功能膜层去除区域形成敏感材料层；在基板的功能膜层保留区域和敏感材料层沉积功能膜层；提供一敏感材料层的敏化条件，敏感材料层在敏化条件下敏化，使得敏感材料层和功能膜层对应敏感材料层的部分从基板去除，得到图案化的功能膜层。本发明专利技术提供的膜层制备方法用于制备图案化的膜层。

【技术实现步骤摘要】
一种膜层制备方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种膜层制备方法。
技术介绍
在有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)显示装置中，因构成OLED发光器件的材料对水、氧极为敏感，需要采用高质量的封装膜层对OLED显示基板中的OLED发光器件进行防水保护和防氧保护，方能确保OLED发光器件被稳定使用，且使OLED发光器件具有一定的使用寿命。目前，在OLED显示装置内形成封装膜层时，需利用图形化的挡板对无需涂覆封装膜层的非封装区域进行遮挡，然后采用等离子体增强化学气相沉积(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，简称PEVCD)方法，在OLED显示装置中需要涂覆封装膜层的封装区域制备氮化硅膜层或氧化硅膜层作为封装膜层，以利用封装膜层对封装区域的OLED发光器件进行封装。当然，也可采用原子层沉积(AtomicLayerDeposition，简称ALD)方法来制备氮化硅膜层或氧化硅膜层以作为封装膜层。然而，在封装膜层的制备过程中，常用掩膜板作为图形化的挡板，使得封装膜层的制备离不开光刻或干刻等工艺，而光刻或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种膜层制备方法，其特征在于，包括：提供一基板，所述基板包括功能膜层去除区域和功能膜层保留区域；在所述基板的功能膜层去除区域形成敏感材料层；在所述基板的功能膜层保留区域和所述敏感材料层沉积功能膜层；提供一所述敏感材料层的敏化条件，所述敏感材料层在所述敏化条件下敏化，使得所述敏感材料层和所述功能膜层对应所述敏感材料层的部分从所述基板去除，得到图案化的功能膜层。

【技术特征摘要】
1.一种膜层制备方法，其特征在于，包括：提供一基板，所述基板包括功能膜层去除区域和功能膜层保留区域；在所述基板的功能膜层去除区域形成敏感材料层；在所述基板的功能膜层保留区域和所述敏感材料层沉积功能膜层；提供一所述敏感材料层的敏化条件，所述敏感材料层在所述敏化条件下敏化，使得所述敏感材料层和所述功能膜层对应所述敏感材料层的部分从所述基板去除，得到图案化的功能膜层。2.根据权利要求1所述的膜层制备方法，其特征在于，所述敏感材料层的材料包括光敏材料或热敏材料。3.根据权利要求2所述的膜层制备方法，其特征在于，所述敏感材料层的材料还包括成型树脂。4.根据权利要求3所述的膜层制备方法，其特征在于，所述成型树脂包括聚对苯二甲酸乙二醇脂、聚对苯二甲酸丁二醇脂或聚萘二甲酸丁二醇脂。5.根据权利要求2所述的膜层沉积方法，其特征在于，所述热敏材料包括可升华热敏材料或可爆破热敏材料，所述可升华热敏材料或所述可爆破热敏材料的敏化条件为加热环境。6.根据权利要求5所述的膜层制备方法，其特征在于，所述可升华热敏材料包括萘...

【专利技术属性】
技术研发人员：关峰，王大伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11