金属辅助电极及使用其的显示器件的制造方法技术
Metal auxiliary electrode and method for manufacturing display device using the same
The present invention provides a metal auxiliary electrode and a method of manufacturing a display device using the same. The display includes method of manufacturing metal auxiliary electrode device: the display pixel defining layer formed on at least one groove; and a top method by transferring in the pixel defining layer is formed of metal auxiliary electrode. The groove structure can increase the metal effective auxiliary electrode and a top electrode contact area, reduce contact resistance, improve the electrode conductivity; through the transfer method of forming metal auxiliary electrode can simplify the process.
【技术实现步骤摘要】
本公开涉及显示
，具体而言，涉及一种金属辅助电极及使用其的显示器件的制造方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)是近年来逐渐发展起来的显示照明技术，尤其在显示行业，由于其具有高响应、高对比度、可柔性化等优点，被视为拥有广泛的应用前景。尤其是顶发射OLED器件，由于具有更高的开口率，和利用微腔效应实现光取出优化等优点，成为研究的主要方向。由于采用的是顶发射结构，因此要求作为出光面OLED的顶电极必须具备良好的光透过率。目前，顶发射透明电极使用的多为薄金属、ITO、IZO等材料，其中金属由于透过率较差，薄化后作为大面积电极使用容易造成电阻增大，不利于大尺寸器件的开发。ITO、IZO等透明度高的材料，本身的导电性能弱于金属，因此现有技术中，将金属作为辅助电极，采用光刻的方法制作在非发光区域，提高顶电极的整体导电性，达到降低电阻的作用。但是这种光刻技术需要复杂的工艺，涉及多道掩膜板和曝光工序，而且由于其需要高温、光刻胶冲刷等工艺特点须避免对OLED器件发光层的损害，不适合作为量产手段。转印技术由于可以做到精...
【技术保护点】
一种显示器件的金属辅助电极的制造方法，包括：在显示器件的像素界定层的顶部形成至少一个凹槽；以及通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极。
【技术特征摘要】
1.一种显示器件的金属辅助电极的制造方法，包括：在显示器件的像素界定层的顶部形成至少一个凹槽；以及通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述凹槽形状为矩形、倒梯形或半圆形。3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述凹槽的深度为所述像素界定层高度的20％-50％。4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述凹槽为两个。5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极包括：在第一平面载台上涂布胶黏剂，将所述像素界定层的顶部放置在第一平面载台上，使所述像素界定层的顶部粘有胶黏剂；在第二平面载台上制作脱膜层，在脱膜层上制作薄金属层，将粘有胶黏剂的所述像素界定层的顶部与薄金属层对合，并施加压力，使薄金属层粘结在所述像素界定层的顶部；以及使薄金属层与脱膜层分离。6.一种显示器件的制造方法，包括：在基板上形成TFT和像素界定层；在所述像素界定层的顶部形成至少一个凹槽；在所述TFT上形成发光层；...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗程远，刘则，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。