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本发明公开一种膜层制备方法,涉及显示技术领域,用于提高膜层的制备效率。所述膜层制备方法包括:提供一具有功能膜层去除区域和功能膜层保留区域的基板,在基板的功能膜层去除区域形成敏感材料层;在基板的功能膜层保留区域和敏感材料层沉积功能膜层;提供一...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开一种膜层制备方法,涉及显示技术领域,用于提高膜层的制备效率。所述膜层制备方法包括:提供一具有功能膜层去除区域和功能膜层保留区域的基板,在基板的功能膜层去除区域形成敏感材料层;在基板的功能膜层保留区域和敏感材料层沉积功能膜层;提供一...