抗蚀图案处理用组合物以及使用其的图案形成方法技术

本发明专利技术提供一种可改良抗蚀图案的表面粗糙度的组合物与使用了该组合物的图案形成方法。一种组合物，其包含：特定的含氮化合物、含有磺酸基的阴离子性表面活性剂以及水；一种图案形成方法，其包含将该组合物适用于显影后的干燥了的抗蚀图案的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗蚀图案处理用组合物以及使用其的图案形成方法
本专利技术涉及：在半导体的制造工艺中，为了将通过显影而获得的抗蚀图案进行处理而使用的抗蚀图案处理用组合物。本专利技术更具体涉及：在半导体设备、液晶显示元件等平板显示器(FPD)、滤色器等的制造过程中，通过适用于利用光刻而形成出的抗蚀图案从而可改善抗蚀图案的形状的抗蚀图案处理用组合物以及使用其的图案形成方法。
技术介绍
在以LSI等半导体集成电路、FPD的显示屏的制造、滤色器、热敏头等的电路基板的制造等为代表的广泛领域中，为了进行微细元件的形成或者微细加工，因而一直以来利用着光刻技术。在光刻法中，为了形成抗蚀图案而使用了正型或者负型的感光性树脂组合物。这些感光性树脂组合物之中，作为正型光致抗蚀剂，广泛利用了例如包含碱可溶性树脂与作为感光性物质的醌二叠氮化合物的感光性树脂组合物。然而，近年来，人们对LSI的高集成化的要求在增高，提出了抗蚀图案的微细化的要求。为了应对于这样的需求，因而使用短波长的KrF准分子激光(248nm)、ArF准分子激光(193nm)、极端紫外线(EUV，13nm)、X射线、电子束等的刻蚀工艺正在进行实用化。为了应对这样本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗蚀图案处理用组合物，其特征在于，其包含：(A)在溶解于水时显示碱性并且沸点为48℃以上的含氮化合物；(B)具有磺酸基或者羧基的阴离子性表面活性剂；以及(C)水。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.14 JP 2014-2100491.一种抗蚀图案处理用组合物，其特征在于，其包含：(A)在溶解于水时显示碱性并且沸点为48℃以上的含氮化合物；(B)具有磺酸基或者羧基的阴离子性表面活性剂；以及(C)水。2.根据权利要求1所述的抗蚀图案处理用组合物，其中，所述含氮化合物从下述通式(1)～(3)中选出：式中，R1、R2、以及R3分别独立地为氢、碳原子数1～10的饱和或者不饱和的烃链，此处，在构成所述烃链的碳原子上结合的氢也可被-OH、-F、＝O或者-NH2取代，在所述烃链的途中，也可包含-(CO)-、-(COO)-、-(CONH)-、-O-、-NH-、或者-N＝，也可将R1、R2、以及R3之中的两个进行结合而形成环状结构，也可使R1、R2、以及R3之中的一个的末端结合于碳原子数20,000以下的聚合物主链，其中，R1、R2、以及R3中所含的碳原子数的合计为3以上，式中，R4、R5、R6、以及R7分别独立地为氢、碳原子数1～10的饱和或者不饱和的烃链，此处，在构成所述烃链的碳原子上结合的氢也可被-OH、-F、＝O或者-NH2取代，在所述烃链的途中，也可包含-(CO)-、-(COO)-、-(CONH)-、-O-、-NH-、或者-N＝，也可将R4、R5、R6、以及R7之中的两个进行结合而形成环状结构，L为碳原子数1～10的烃链，以及式中，R8、R9、R10、以及R11分别独立地为氢、碳原子数1～10的饱和或者不饱和的烃链，此处，在构成所述烃链的碳原子上结合的氢也可被-OH、-F、＝O或者-NH2取代，在所述烃链的途中，也可包含-(CO)-、-(COO)-、-(CONH)-、-O-、-NH-、或者-N＝，也可将R8、R9、R10、以及R11之中的两个进行结合而形成环状结构，其中，R8、R9、R10、以及R11的全部不同时为氢，L’是碳原子数1～10的烃链，m是表示1～1000的重复数的数值。3.根据权利要求1所述的抗蚀图案处理用组合物，其中，所述含氮化合物从由单烷基胺、二烷基胺、三烷基胺、烷醇胺、以及环状烷基胺组成的组中选出。4.根据权利要求3所述的抗蚀图案处理用组合物，其中，所述单烷基胺从由正丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、正戊胺、异戊胺、2-甲基-正丁胺、2-甲基-异丁胺、2-甲基-叔丁胺、以及正己胺组成的组中选出，所述二烷基胺从由二乙胺、二正丙胺、二异丙胺、甲基-正丙胺、二正丁胺、二异丁胺、二乙基甲基胺、二甲基-正丙胺、以及二甲基-异丙胺组成的组中选出，所述三烷基胺从由三乙胺、三正丙胺、以及三异丙胺组成的组中选出，所述烷醇胺从由单甲醇胺、单乙醇胺、单正丙胺、单异丙醇胺、二甲醇胺、二乙醇胺、二正丁基乙醇胺、二异丁基乙醇胺、二叔丁基乙醇胺、氨基乙基乙醇胺、甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、乙基乙醇胺、乙基二乙醇胺、正丁基乙醇胺、异丁基乙醇胺、叔丁基二乙醇胺、二乙基异丙醇胺、三甲醇胺、以及三乙醇胺组成的组中选出，且所述环状烷基胺从由环戊胺、环己胺、环庚胺、以及环己基乙醇胺组成的组中选出。5.根据权利要求1所述的抗蚀图案处理用组合物，其中，所述含氮化合物从由如下含氮化合物组成的组中选出：N,N,N’,N’-四甲基乙二胺、N,N,N’,N’-四乙基乙二胺、N,N,N’,N’-四丙基乙二胺、N,N,N’,N’-四异丙基乙二胺、N,N,N’,N’-四丁基乙二胺、N,N,N’,N’-四异丁基乙二胺、N,N,N’,N’-四甲基-1,2-丙二胺、N,N,N’,N’...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本和磨，长原达郎，
申请(专利权)人：AZ电子材料卢森堡有限公司，
类型：发明
国别省市：卢森堡,LU