一种电容屏折射率匹配膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种电容屏用折射率匹配膜及其制备方法，所述匹配膜包含基材；在基材两侧分別设有第一预涂底层及第二预涂底层；在第一预涂底层上形成防粘连硬涂层；在第二预涂底层上形成折射率匹配层；其中，折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到，高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂，金属氧化物粒子与电离放射物质重量比为1：2～1：1。第二预涂底层与折射率匹配层的折射率差值的绝对值为0.03以下。本发明专利技术通过设置折射率匹配层，并控制折射率匹配层与预涂底层折射率差异，使由其所得到的透明基体应用在电容屏时无蚀刻图案化痕迹和彩虹纹现象，并使该折射率匹配膜具有良好的透光性和耐划擦性。

Capacitance screen refractive index matching film and preparation method thereof

The invention relates to a capacitance matching rate of screen film and its preparation method for refraction, the matching film comprises a substrate; the substrate are respectively arranged on both sides of the first and two pre coated bottom pre coated substrate; anti adhesion hard coating is formed on the first substrate to form pre coated; refractive index matching layer in second pre coated substrate; among them, the refractive index matching layer is composed of high refractive index coating obtained by coating, high refractive index coating contains at least ionizing radiation material, metal oxide particles and photoinitiator, metal oxide particles and ionizing radiation weight ratio of 1:2 to 1:1. Second the absolute value of the refractive index difference between the pre coating layer and the refractive index matching layer is below 0.03. By setting the index matching layer, and control the refractive index matching layer and pre coated bottom between the refractive index of the transparent substrate by using the obtained intheheydayofthecapacitive screen without etching of patterned traces and rainbow pattern, and the index has good light transmittance and scratch resistance rate matching film.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种触摸屏
，尤其涉及一种电容屏折射率匹配膜。
技术介绍
目前市场上主流的触摸屏感应技术，包括电阻式、电容式、红外线式、超音波式等,由于消费性电子轻薄短小的要求，红外线式与超音波式主要用于中大尺寸等电子设备，携带性电子产品包括手机与平板计算机等，主要以电阻式与电容式为主。之前中小尺寸触摸屏主要以电阻式为主，主要的原因是电阻式的技术较为成熟、生产成本低，且多应用于量大、低单价之消费性电子产品,但随着以投射式电容式触摸屏的手机推出后，整个情势有很大的改变，到了现在，电容式触摸屏占有率已经大幅超越电阻式，成为中小尺寸携带式电子产品的主流触摸技术。电容式触摸屏结构上来说，它包括了一个感应网格(sensearray/sensingarrangement)，这个网格夹在两个玻璃保护层之间，通常最外层为防护层，它的定位原理是利用感应网格上的静电电场的变化来确定接触点的位置，当手指触摸屏幕的时候，手指和网格之间形成一个电容，控制器利用网格电气参数的变化量，来计算接触点的坐标位置。电容式触摸屏不同于电阻式触摸屏，配合多点触控等功能，其上下铟锡氧化物电极线路是布满整个屏幕，为了避免加工过程中铟锡氧化物导电薄膜划伤，影响显示器的质量，铟锡氧化物导电薄膜在镀膜前(基膜主要是PET膜)，都会对基膜表面做加硬处理，由于铟锡氧化物(ITO)折射率高(约2.0)，一般加硬的硬涂膜其折射率低(约1.5)，则蚀刻后的ITO线路因为ITO层折射率与硬涂层折射率存在差异，各层界面干涉不一，造成蚀刻后的ITO线路在屏幕上容易显现，降低了触摸屏的可视性。为了避免此现象，需在铟锡氧化物导电层与硬涂层之间，做一层折射率匹配层(IndexMatchingLayer)，藉由这层折射率匹配层叠加后，使得ITO蚀刻区与非蚀刻区域的色差接近，降低蚀刻线路的痕迹，达到消影的效果，另外，为了应对加工需求，折射率匹配层表面非常平坦，缺乏滑动性，在实际生产过程中容易发生表面粘附现象，长时间放置会产生膜面变形，须在基膜的另一面做一层防粘硬涂层，提高膜的收卷性能。传统的折射率匹配层以干法磁控溅镀高低折射率材料后，再镀上铟锡氧化物导电层，此种方法需要高真空设备，不仅设备投资较大，且生产速度慢，效率低，不仅不具生产规模，同时生产成本也较高。另有使用湿式涂布方式，先于透明塑料基膜(一般是PET)上涂布折射率匹配层，再溅镀低折材料与铟锡氧化物导电层，由于透明塑料基膜表面与折射率匹配层附着力差，一般会在透明塑料基膜表面预先涂布一层预涂底层(primer)，用以促进塑料基膜与高折射率涂料的附着力，但折射率匹配层与预涂底层的折射率差异过大时，通常会造成涂层表面彩虹纹严重，严重影响显示器画质，必须控制使用塑料基膜的预涂底层与折射率匹配层的折射率差，既满足折射率匹配层与塑料基膜的附着力，同时降低铟锡氧化物蚀刻后线路的色差，并提高触摸屏的显示画质。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服已有技术之缺陷、提供一种电容屏折射率匹配膜，所述匹配膜应用在电容屏时无蚀刻图案化痕迹和彩虹纹现象，具有良好的透光性和耐划擦性。本专利技术的另一个目的是提供这种匹配膜的制备方法。本专利技术的目的是通过如下技术方案实现的：一种电容屏折射率匹配膜，所述折射率匹配膜包含基材，在基材两侧分別设有第一预涂底层及第二预涂底层，在第一预涂底层上形成防粘连硬涂层，在第二预涂底层上形成折射率匹配层，其中，第二预涂底层与折射率匹配层的折射率差值的绝对值为0.03以下，折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到，高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂，金属氧化物粒子与电离放射物质重量比为1:2～1:1。上述电容屏折射率匹配膜，所述折射率匹配层的折射率为1.65～1.75。上述电容屏折射率匹配膜，所述折射率匹配层厚度为0.5μm～2.0μm，优选为0.7μm～1.5μm。上述电容屏折射率匹配膜，所述金属氧化物粒子与所述电离放射物质的重量比为1：1.7～1：1.2。上述电容屏折射率匹配膜，所述金属氧化物粒子粒径为0.01μm～0.15μm，优选为0.04μm～0.08μm。上述电容屏折射率匹配膜，所述金属氧化物粒子为氧化锆、氧化锌、氧化锑、五氧化二鈮、二氧化钛中的一种或几种。上述电容屏折射率匹配膜，所述第二预涂底层的折射率为1.62～1.72。上述电容屏折射率匹配膜，所述第二预涂底层与折射率匹配层的折射率的差值≤0.03。上述电容屏折射率匹配膜，所述防粘连硬涂层厚度为1.0μm～2.0μm。上述电容屏折射率匹配膜，所述防粘连硬涂层含有二氧化硅粒子，所述的二氧化硅粒子的粒径为0.1～0.2μm。上述电容屏折射率匹配膜的制作方法为：所述方法包括以下步骤：在基材的两侧分别形成第一预涂底层和第二预涂底层；在第一预涂底层上形成防粘连硬涂层；在第二预涂底层上形成折射率匹配层，其中第二预涂底层和折射率匹配层的折射率的差值的绝对值为0.03以下。与现有技术相比，本专利技术通过在具有特定折射率的预涂底层上，叠加一层折射率匹配层，并控制两者折射率的差值，在不损害光学性能条件下，能够在保证降低蚀刻线路图案下，有效解决彩虹纹现象，同时具有优异的光学性能和耐划擦性。附图说明图1是本专利技术用于电容屏折射率匹配膜示意图；图2是本专利技术电容屏折射率匹配膜的制作流程。图中各标号表示为：10、基材，20、第一预涂底层、30、第二预涂底层，40、防粘连硬涂层，50、折射率匹配层。具体实施方式本专利技术的电容屏折射率匹配膜包括基材、第一预涂底层、第二预涂底层、防粘连硬涂层和折射率匹配层，折射率匹配层中含有特定粒径的金属氧化物粒子，以便折射率匹配层达到预定的折射率。为达到所需要的折射率，同时兼顾折射率匹配层光线透过性，必须使用特定粒径分布的粒子，本专利技术使用粒子的粒径在0.01μm～0.15μm，优选0.04μm～0.08μm，当粒径大于0.15μm，折射率匹配层的透明性下降，雾度也升高。折射率匹配层用高折射率涂料中，金属氧化物粒子的重量与电离放射物质重量比为1：2～1：1之间，优选1：1.7～1：1.2。因为金属氧化物粒子的重量与电离放射物质的重量比大于1：1时，光学透过性降低，且涂料安定性变差，当金属氧化物粒子的重量与电离放射物质重量比低于1：2时，达不到所需的折射率及光学调整效果。适合本专利技术的高折射率粒子可以选自如下物质：氧化铝、氧化锆、二氧化钛、氧化锌、五氧化二铌、氧化铈等，上述高折射率粒子不限一种使用，可以是一种或两种以上的混合物,从硬度与光学的性能考虑，本专利技术优选二氧化锆。为达到降低蚀刻线路的色差，避免影响显示器画质与可视性，第二预涂底层的折射率与折射率匹配层折射率差要越小越好，本专利技术优选0.03以下。高于0.03时，折射率匹配层彩虹纹变重，显示画质也变差。防粘连硬涂层中，防粘连硬涂层厚度为1.0μm～2.0μm。当厚度小于1.0μm时，后期加工过程中容易产生划伤，大于2.0μm，卷绕性会变差。防粘连硬涂层中还含有二氧化硅粒子，二氧化硅粒子的粒径为0.1～0.2μm，当粒子粒径大于0.2μm时，防粘连硬涂层的透明性变差，雾度升高，当粒子粒径小于0.1μm时，达不到所要的防粘连效果。第一预涂底涂层、第二预涂底涂层、折射率匹配层与防粘连硬涂层用固本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述电容屏折射率匹配膜包含基材(10)，在所述基材(10)两侧分別设有第一预涂底层(20)及第二预涂底层(30)；在所述第一预涂底层(20)上形成防粘连硬涂层(40)，在所述第二预涂底层(30)上形成折射率匹配层(50)；所述第二预涂底层(30)和所述折射率匹配层(50)的折射率差值的绝对值在0.03以下；其中，所述折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到，所述高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂，所述金属氧化物粒子与所述电离放射物质重量比为1：2～1：1。

【技术特征摘要】
1.一种电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述电容屏折射率匹配膜包含基材(10)，在所述基材(10)两侧分別设有第一预涂底层(20)及第二预涂底层(30)；在所述第一预涂底层(20)上形成防粘连硬涂层(40)，在所述第二预涂底层(30)上形成折射率匹配层(50)；所述第二预涂底层(30)和所述折射率匹配层(50)的折射率差值的绝对值在0.03以下；其中，所述折射率匹配层是由高折射率涂料经过涂布后得到，所述高折射率涂料至少包含电离放射物质、金属氧化物粒子和光引发剂，所述金属氧化物粒子与所述电离放射物质重量比为1：2～1：1。2.根据权利要求书1所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物粒子与所述电离放射物质的重量比为1：1.7～1：1.2。3.根据权利要求书2所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物粒子的粒径为0.01μm～0.15μm。4.根据权利要求书3所述的电容屏折射率匹配膜，其特征在于，所述金属氧化物粒子为氧化锆、氧化铈、五氧化二鈮、二氧化钛中的一种或几种。5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：史良，徐倩倩，胡鑫，崔书海，何晶晶，
申请(专利权)人：合肥乐凯科技产业有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34