高数值孔径物镜系统技术方案

公开了一种具有高数值孔径、大工作距离和跨越宽光谱带波长的低光学像差的物镜系统。物镜系统包括第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组。第一透镜组包括被定位成沿着物镜系统的光轴彼此相距一距离的第一和第二弯月透镜。距离可以取决于物镜系统的焦距。第二透镜组包括第一和第二弯月透镜以及双凸透镜。第三透镜组包括双凹透镜和双合透镜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】高数值孔径物镜系统相关申请的交叉引用本申请要求2014年9月29日提交的美国申请62/056701的权益，并且该申请通过引用全部合并于此。
本公开涉及可以用在例如光刻设备的检查系统中的物镜系统的各种配置。
技术介绍
光刻设备是将期望的图案施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以例如用在集成电路(IC)的制造中。在这种情形中，备选地称为掩模或掩模版的图案化装置可以用于生成对应于IC的单独层的电路图案，并且该图案可以被成像到具有辐射敏感材料层(抗蚀剂)的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括裸片的部分、一个或若干裸片)上。一般来说，单个衬底将包含被相继地曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过使整个图案一次性曝光到目标部分上来辐照各目标部分；和所谓的扫描器，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过光束扫描图案同时同步地平行于或反向平行于该方向扫描衬底来辐照各目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上而使图案从图案化装置转移至衬底。在光刻工艺中，可以检查经图案化的衬底和/或掩模版以用于例如工艺控制和验证。存在有用于执行这样的检查的各种技术，包括扫描电子显微镜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种物镜系统，包括：第一透镜组，包括：第一正弯月透镜，和第二正弯月透镜，被定位成沿着所述物镜系统的光轴与所述第一正弯月透镜相距一距离，所述距离取决于所述物镜系统的焦距；第二透镜组，包括三合透镜，其中所述三合透镜包括：第一弯月透镜，包括第一表面和第二表面，第二弯月透镜，包括第三表面和第四表面，所述第三表面与所述第二表面实质上接触，和第一双凸透镜，包括第五表面和第六表面，所述第五表面与所述第四表面实质上接触；以及第三透镜组，包括：第一双凹透镜；和双合透镜。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.29 US 62/056,7011.一种物镜系统，包括：第一透镜组，包括：第一正弯月透镜，和第二正弯月透镜，被定位成沿着所述物镜系统的光轴与所述第一正弯月透镜相距一距离，所述距离取决于所述物镜系统的焦距；第二透镜组，包括三合透镜，其中所述三合透镜包括：第一弯月透镜，包括第一表面和第二表面，第二弯月透镜，包括第三表面和第四表面，所述第三表面与所述第二表面实质上接触，和第一双凸透镜，包括第五表面和第六表面，所述第五表面与所述第四表面实质上接触；以及第三透镜组，包括：第一双凹透镜；和双合透镜。2.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第一透镜组被配置成同时校正所述物镜系统的彗差和色差。3.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第二透镜组被配置成校正所述物镜系统的复消色差像差。4.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第三透镜组被配置成校正所述物镜系统的场曲像差和光瞳像差。5.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第一正弯月透镜和所述第二正弯月透镜包括球面表面。6.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第二正弯月透镜包括非球面凹面。7.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第一双凹透镜和所述双合透镜彼此相邻并分离。8.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述第一双凹透镜和所述双合透镜彼此胶合。9.根据权利要求1所述的折射物镜系统，其中所述双合透镜包括彼此胶合的第二双凸透镜和第二双凹透镜。10.根据权利要求1所述的折射物镜系统，进一步包括在所述第二透镜组与所述第三透镜组之间的入射光瞳和孔径光阑。11.一种配置成测量衬底的性质的检查系统，所述检查系统包括：辐射源，被配置成产生辐射束；光学系统，被配置成将所述辐射束聚焦到所述衬底的表面上，所述光学系统包括：第一透镜组，包括：第一正弯月透镜，和第二正弯月透镜，被定位成沿着所述光学系统的光轴与所述第一正弯月透镜相距一距离，所述距离取决于所述光学系统的焦距，第二透镜组，包括第三正弯月透...

【专利技术属性】
技术研发人员：L·雷日科夫，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL