含有羧基或羧酸盐基团的碳化二亚胺制造技术

含有碳化二亚胺单元和羧基或羧酸盐基团的化合物（化合物Ⅴ），衍生于：ａ）脂族或芳脂族Ｃ↓［４］至Ｃ↓［２０］多异氰酸酯（组分ａ），ｂ）羟基羧酸或羟基羧酸盐（化合物ｂ）和ｃ）如果需要，进一步的化合物，含有在加成反应中能与异氰酸酯基团反应的基团（化合物ｃ），ｄ）如果需要，其它异氰酸酯（组分ｄ）碳化二亚胺单元基本上完全衍生于组分ａ的异氰酸酯基团。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及含有碳化二亚胺单元和羧基或羧酸盐基团的化合物(化合物V)，衍生于a)脂族或芳脂族C4至C20多异氰酸酯(组分a)b)羟基羧酸或羟基羧酸盐(组分b)和c)如果需要，进一步的化合物，含有在加成反应中能与异氰酸酯基团反应的基团(组分c)c)如果需要，其它异氰酸酯(组分d)，碳化二亚胺单元基本上完全衍生于组分a的异氰酸酯基团。有机碳化二亚胺及其作为添加剂在聚合物分散体中的应用已为人知。例如，为了增加聚合物的分子量，将它们加入聚合物分散体中。为了能将碳化二亚胺简单而均匀地分散在分散体中，它们具有亲水基。EP-A-198 343描述了碳化二亚胺，它含有磺酸盐基团，如果需要，也可含有氧化聚乙烯单元。此外，EP-A-686 626公开了碳化二亚胺，其中亲水性由通过二烷基氨基醇引入的铵基团、通过羟基官能烷基磺酸的盐引入的磺酸盐基团或氧化聚乙烯单元所致。但是，上述化合物有下列缺点通过铵基团产生亲水性的碳化二亚胺之类的阳离子产品，与常使用的通过阴离子稳定化处理的分散体不相容。通过磺酸盐基团产生亲水性的碳化二亚胺难以制备。由于所用原料盐的高憎油性，与含异氰酸根的憎水前体之间的反应异常困难本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含有碳化二亚胺单元和羧基或羧酸盐基团的化合物（化合物Ｖ），衍生于： ａ）脂族或芳脂族Ｃ↓［４］至Ｃ↓［２０］聚异氰酸酯（组分ａ） ｂ）羟基羧酸或羟基羧酸盐（化合物ｂ）和 ｃ）如果需要，进一步的化合物，含有在加成反应中能与异氰酸酯基团反应的基团（组分ｃ） ｄ）如果需要，其它异氰酸酯（组分ｄ） 碳化二亚胺单元基本上完全衍生于组分ａ的异氰酸酯基团。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：K黑贝勒，U利希特，S基尔霍恩拜尔，C拉赫，B迈尔罗舍尔，RS波尔齐奥，C施塔勒，P魏兰，
申请(专利权)人：巴斯福股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]